清扫构件和弹性构件制造技术

本发明专利技术为即使在由于在高温环境中使用或长时间使用而导致升温时也可以防止擦拭性能的降低的清扫构件和弹性构件。提供一种清扫构件，其包括包含聚氨酯的弹性构件，其中：当在‑20℃至+60℃的温度范围内测量从弹性构件采样的样品的tanδ时，表示tanδ的最大值的峰的峰温度在15.0℃以下；tanδ的最大值为0.20以上且0.55以下；在55℃的温度下的tanδ为至少0.13；并且在当使用直接样品导入型质谱仪将样品以10℃/秒的升温速度加热至1000℃时获得的所有离子的检出量为M1并且对应于源自具有三个以上的异氰酸酯基的多官能异氰酸酯的m/z值的范围的提取离子温谱图中的峰的积分强度为M2的情况下，M2/M1为0.001以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及清扫构件例如电子照相用清洁刮板、例如汽车等车辆用擦拭器、和窗玻璃和墙壁的擦拭用擦拭器，并且涉及用于该清扫构件的弹性构件。

技术介绍

1、使用加工为具有就清扫而言优异的形状的弹性体作为用于从例如玻璃等平滑表面除去污物等的清扫构件。其中，经常使用表现出优异的弹性性能和耐磨耗性的聚氨酯。此类清扫构件用于例如电子照相装置等电子仪器、例如车辆、飞机和船舶的窗、建筑物和住宅的玻璃窗、浴室的墙壁、和太阳能电池板等。专利文献1公开了用于电子复印机的清洁刮板的聚氨酯弹性体。专利文献2公开了作为车辆用擦拭器的利用聚氨酯的清扫构件，并且专利文献3公开了作为窗的清扫构件的利用聚氨酯的清扫构件。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本专利申请公开no.2008-209736

5、专利文献2：日本专利申请公开no.2004-051894

6、专利文献3：日本专利申请公开no.2019-115471

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清扫构件，其特征在于，其包括包含聚氨酯的弹性构件，并且所述清扫构件通过所述弹性构件的至少一部分与被清扫构件的表面抵接来清扫所述被清扫构件的表面，

2.根据权利要求1所述的清扫构件，其中M2/M1为0.001以上且0.035以下。

3.根据权利要求1所述的清扫构件，其中所述聚氨酯包含组合物的反应产物，所述组合物包含：

4.根据权利要求3所述的清扫构件，其中，

5.根据权利要求3所述的清扫构件，其中所述多官能异氰酸酯为选自由聚合MDI、三苯基甲烷-4,4',4”-三异氰酸酯和硫代磷酸三(苯基异氰酸酯)组成的组中的至少一种。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种清扫构件，其特征在于，其包括包含聚氨酯的弹性构件，并且所述清扫构件通过所述弹性构件的至少一部分与被清扫构件的表面抵接来清扫所述被清扫构件的表面，

2.根据权利要求1所述的清扫构件，其中m2/m1为0.001以上且0.035以下。

3.根据权利要求1所述的清扫构件，其中所述聚氨酯包含组合物的反应产物，所述组合物包含：

4.根据权利要求3所述的清扫构件，其中，

5.根据权利要求3所述的清扫构件，其中所述多官能异氰酸酯为选自由聚合mdi、三苯基甲烷-4,4',4”-三异氰酸酯和硫代磷酸三(苯基异氰酸酯)组成的组中的至少一种。

6.根据权利要求3所述的清扫构件，其中所述二异氰酸酯为选自由4,4'-二苯基甲烷二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、4,4'-二环己基甲烷二异氰酸酯、四甲基二甲苯二异氰酸酯和碳二亚胺改性的二苯基甲烷二异氰酸酯组成的组中的至少一种。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的清扫构件，其中所述清扫构件为电子照相用清洁刮板。

8.根据权利要求7所述的清扫构件，其进一步包括支承所述弹性构件的支承构件。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的清扫构件，...

【专利技术属性】
技术研发人员：横山昌宪，寺田健哉，青山雄彦，瀬川将太，加藤久雄，国枝光弘，山本有洋，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：