【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示设备，具体涉及一种显示面板及其制备方法、以及显示装置。
技术介绍
1、随着5g技术的问世与推广，伴随着屏幕尺寸的不断变大，手机厂商对屏幕的低功耗的需求愈加强，为了降低显示屏的功耗，推出plp技术(pol less panel，无偏光片技术)。在使用plp技术时，为了改善色分离，通常会在array膜层(阵列膜层)中增加黑色pdl膜层(bpdl，黑色像素图案层)，来降低ano(阳极)的反射率；当前bpdl技术都是双层pdl(bpdl+npdl，黑色像素图案层叠加普通像素图案层)，同时结合normal ps(支撑柱)，此种结构，在el段(electro luminescence，电致发光)封装进行ijp打印(ink-jet print ing,喷墨打印)时，会出现墨层流不平的问题。
2、申请内容
3、本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法、以及显示装置，可以避免形成发光层时出现断裂，并且，在后续发光层封装进行喷墨打印时，能够改善墨层流不平的不良现象。
4、第一方面，本申请实施例提供一种显示面板，包括阵列基板以及发光器件层，所述阵列基板在其厚度方向上具有第一表面，所述发光器件层设于所述第一表面；
5、所述发光器件层包括：
6、阳极，形成于所述第一表面；以及，
7、像素定义层，包括外圈层和内圈层，所述外圈层形成于所述第一表面并覆盖所述阳极，所述外圈层在与所述阳极对应的位置处开设有通孔，所述内圈层呈圆环设置，所述内圈层环设于所述通孔的内壁，且覆盖所述阳极
8、在一实施例中，自所述像素定义层指向所述阳极的方向上，所述内圈层的开口直径呈减缩设置。
9、在一实施例中，所述内圈层设置为黑色像素图像层；和/或，
10、所述外圈层设置为透明像素图像层。
11、在一实施例中，所述内圈层的层厚设置为t1，其中，t1＝1.0μm；和/或，
12、所述阳极的层厚设置为t3，其中，t3＝140nm。
13、在一实施例中，所述外圈层的通孔周缘与对应位置处的所述阳极的边缘搭接。
14、在一实施例中，所述显示面板还包括支撑柱，所述支撑柱设于所述外圈层远离所述第一表面的表面上，且对应所述外圈层的通孔周缘设置。
15、在一实施例中，所述阵列基板包括：
16、玻璃基板；
17、柔性塑料基层，形成于所述玻璃基板的一侧表面；
18、缓冲层，形成于所述柔性塑料基层远离所述玻璃基板的一侧表面；
19、半导体层，形成于所述缓冲层远离所述柔性塑料基层的一侧表面；
20、第一栅极绝缘层，形成于所述缓冲层远离所述柔性塑料基层的一侧表面，且覆盖所述半导体层；
21、第一栅极金属走线，设于所述第一栅极绝缘层远离所述缓冲层的一侧表面；
22、第二栅极绝缘层，形成于所述第一栅极绝缘层远离所述缓冲层的一侧表面，且覆盖所述第一栅极金属走线；
23、第二栅极金属走线，设于所述第二栅极绝缘层远离所述第一栅极绝缘层的一侧表面；
24、层间绝缘层，形成于所述第二栅极绝缘层远离所述第一栅极绝缘层的一侧表面，且覆盖所述第二栅极金属走线；
25、源漏极金属线，设于所述层间绝缘层远离所述第二栅极绝缘层的一侧表面，所述源漏极金属线通过过孔与所述半导体层电性连接；以及，
26、平坦层，形成于所述层间绝缘层远离所述第二栅极绝缘层的一侧表面，且覆盖所述源漏极金属线；
27、其中，所述阳极设于所述平坦层远离所述层间绝缘层的一侧表面；
28、所述第一表面包括所述平坦层远离所述层间绝缘层的一侧表面。
29、第二方面，本申请提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板的制备方法包括：
30、提供一阵列基板，其中，所述阵列基板具有第一表面；
31、在所述第一表面上沉积形成阳极层，并利用黄光定义出阳极图形以形成阳极；
32、在所述阳极上制作呈环状设置的内圈层，且部分所述阳极自所述内圈层的开口处显露，在所述第一表面上制作外圈层，所述外圈层上开设有通孔，所述通孔的周缘覆盖所述内圈层的外边缘，其中，所述内圈层设置为黑色像素图像层，所述外圈层设置为透明像素图像层；
33、在所述外圈层的通孔周缘上形成支撑柱；
34、对所述像素定义层进行灰化处理，以将所述外圈层的通孔周缘覆盖所述内圈层外边缘的部分消除掉，使所述内圈层和所述外圈层在远离所述第一表面的一侧端面平齐设置。
35、在一实施例中，在对所述像素定义层进行灰化处理，使得所述内圈层和所述外圈层在远离所述第一表面的一侧端面平齐设置的步骤之后，还包括：
36、在所述像素定义层上制作发光层，并进行薄膜封装，以形成封装基板，其中，所述支撑柱处于所述像素定义层和所述发光层之间，用以支撑所述发光层；
37、在所述封装基板上制作cf基板，并进行后端mod制程。
38、第三方面，本申请还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。
39、有益效果：本申请提供的显示面板包括阵列基板以及发光器件层，所述发光器件层包括阳极以及像素定义层，所述阳极设于所述阵列基板的第一表面，所述像素定义层包括外圈层和内圈层，所述外圈层形成于所述第一表面并覆盖所述阳极，所述外圈层在与所述阳极对应的位置处开设有通孔，所述内圈层呈圆环设置，所述内圈层环设于所述通孔的内壁，且覆盖所述阳极，以使部分所述阳极自所述内圈层的开口处显露，所述内圈层和所述外圈层上远离所述第一表面的两表面平齐设置，如此，能够降低所述像素定义层的整体层厚，在所述像素定义层上形成el发光层时，能够避免el发光层出现断裂；并且，所述内圈层的开口相当于现有的像素定义层上的开孔；由于现有像素定义层的开孔是贯穿两层像素图案层形成的；因此，可以理解的是，本申请方案中的开孔深度相当于所述内圈层的层厚，而现有的开孔的深度相当于两层像素图案层的层厚总和，如此，降低了在开孔处所述内圈层和所述外圈层与所述阳极之间的段差，在后续发光层封装进行喷墨打印时，能够改善墨层流不平的不良现象。
技术实现思路
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板以及发光器件层，所述阵列基板在其厚度方向上具有第一表面，所述发光器件层设于所述第一表面；
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，自所述像素定义层指向所述阳极的方向上，所述内圈层的开口直径呈减缩设置。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述内圈层设置为黑色像素图像层；和/或，
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述内圈层的层厚设置为T1，其中，T1＝1.0μm；和/或，
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述外圈层的通孔周缘与对应位置处的所述阳极的边缘搭接。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括支撑柱，所述支撑柱设于所述外圈层远离所述第一表面的表面上，且对应所述外圈层的通孔周缘设置。
7.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：
8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板的制备方法包括：
9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在对所述像素定义
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7中任意一项所述的显示面板。
...【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板以及发光器件层，所述阵列基板在其厚度方向上具有第一表面，所述发光器件层设于所述第一表面；
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，自所述像素定义层指向所述阳极的方向上，所述内圈层的开口直径呈减缩设置。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述内圈层设置为黑色像素图像层；和/或，
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述内圈层的层厚设置为t1，其中，t1＝1.0μm；和/或，
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述外圈层的通孔周缘与对应位置处的所述阳极的边缘搭接。
【专利技术属性】
技术研发人员：郭旺回，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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