涂膜和显示面板制造技术

技术编号:40236412 阅读:17 留言:0更新日期:2024-02-02 22:36
本申请提供一种涂膜和显示面板,所述涂膜包括四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物,所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物包括如下所示的结构:本申请提供的涂膜可以增强针对聚甲基丙烯酸甲酯薄膜的附着力。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及高分子材料,具体涉及一种涂膜和显示面板


技术介绍

1、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,pmma)是一种典型的热塑性无定形聚合物,其质地均匀,内部分子排列方式不会影响光线的通过,因此具有优异的光学性能,在显示器领域有巨大应用前景。

2、但pmma薄膜的表面硬度普遍不足,在应用于显示器外表面时,容易被硬物擦伤而影响其光学效果,因此需要对pmma薄膜进行表面加硬处理。

3、然而,由pmma的分子结构可知,其分子结构中只有极性相对较低的酯基,而硬化涂层的官能度通常相对较高,直接在pmma表面形成的硬化涂层具有较大的内应力,导致硬化涂层与pmma薄膜之间存在附着力较差的问题。


技术实现思路

1、鉴于此,本申请提供一种涂膜和显示面板,能够增强针对pmma薄膜的附着力。

2、本申请实施例提供一种涂膜,所述涂膜包括四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物,所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物包括如下所示的结构:

3、

>4、在本申请的一实本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种涂膜,其特征在于,所述涂膜包括四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物,所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物包括如下所示的结构:

2.根据权利要求1所述的涂膜,其特征在于,所述涂膜还包括纳米二氧化硅粒子。

3.根据权利要求2所述的涂膜,其特征在于,所述纳米二氧化硅粒子包括丙烯酸异氰基乙酯修饰的纳米二氧化硅粒子。

4.根据权利要求2所述的涂膜,其特征在于,所述纳米二氧化硅粒子的粒径为10~1000纳米。

5.根据权利要求2所述的涂膜,其特征在于,所述涂膜还包括第一光引发剂;

6.一种涂膜,其特征在于,包括:

>7.根据权利要求6...

【技术特征摘要】

1.一种涂膜,其特征在于,所述涂膜包括四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物,所述四官能度聚氨酯丙烯酸酯低聚物包括如下所示的结构:

2.根据权利要求1所述的涂膜,其特征在于,所述涂膜还包括纳米二氧化硅粒子。

3.根据权利要求2所述的涂膜,其特征在于,所述纳米二氧化硅粒子包括丙烯酸异氰基乙酯修饰的纳米二氧化硅粒子。

4.根据权利要求2所述的涂膜,其特征在于,所述纳米二氧化硅粒子的粒径为10~1000纳米。

5.根据权利要求2所述的涂膜,其特征在于,所述涂膜还包括第一光引发剂;

6.一种涂膜,其特征在于,包括:

7.根据权利要求6所述的涂膜,其特征在于,所述第一子涂膜还包括纳米二氧化硅粒子。

8.根据权利要求7所述的涂膜,其特征在于,所述纳米二氧化硅粒子包括丙烯酸异氰基乙酯修饰的纳米二氧化硅粒子。

...

【专利技术属性】
技术研发人员:鲍爱兵周淼陈黎暄
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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