【技术实现步骤摘要】
本技术设计一种抛光装置，具体来说涉及一种复杂构件可控磁流变抛光装置。
技术介绍
1、高性能复杂构件具有特殊的光、电、热、磁、力、声等性能，一般由复杂结构和复杂曲面组成。传统的加工复杂结构和曲面零件由手工抛光、磨料流抛光、磁力抛光、软砂带抛光、气囊抛光、机器人抛光等完成。以上这些抛光方法均是采用机械压力加载去除方式，不可避免在表面会留下划痕，在高性能装备运行中容易成为疲劳源，对高性能装备稳定可靠运行带来重大的潜在危害。
技术实现思路
1、鉴于现有技术的不足，本技术提供一种复杂构件可控磁流变抛光装置，针对复杂构件表面处理需求采用可控磁流变进行抛光，本实用新通过电磁铁和永磁铁的共同作用，实现抛光桶的可控旋转，从而带动内部抛光液和磨粒共同旋转，待抛光工件整体浸入磁流变液中进行抛光。本专利技术采用的技术手段如下：
2、一种复杂构件可控磁流变抛光装置，包括：
3、支撑底座；
4、固定设置于所述支撑底座上的床身；
5、设置于床身内部中间位置的抛光桶；
6、设置于所述抛光桶侧方的磁流变液输送装置、抛光液输送装置、磨粒输送装置；
7、所述抛光桶包括截面为正圆的筒身，所述筒身的外围均匀布置有若干电磁铁，所述筒身的底部设置有若干永磁铁，所述永磁铁包括：
8、靠近筒身底面中心点设置的若干个第一圈层永磁铁，各所述第一圈层永磁铁与筒身底面同心布置，
9、靠近筒身底面边缘设置的若干个第二圈层永磁铁，各所述第二圈层永磁
10、进一步地，所述第一圈层永磁铁体积小于第二圈层永磁铁。
11、进一步地，所述第一圈层永磁铁与第二圈层永磁铁的数量均为4个。
12、进一步地，所述电磁铁的数量为12个。
13、进一步地，所述抛光装置还包括设置于所述抛光桶上方的工件装夹装置。
14、进一步地，所述抛光装置还包括设置在所述床身外表面的触控屏。
15、进一步地，所述抛光装置还包括设置在所述床身内部的扫描仪。
16、较现有技术相比，本技术具有以下优点：
17、本技术提供一种复杂构件可控磁流变抛光装置，针对传统抛光复杂构件如手工抛光、磨料流抛光、磁力抛光、软砂带抛光、气囊抛光、机器人抛光等方式不可避免地会在表面会留下划痕，在高性能装备运行中容易成为疲劳源，对高性能装备稳定可靠运行带来重大的潜在危害。本实用新通过电磁铁和永磁铁的共同作用，实现抛光桶的可控旋转，从而带动内部抛光液和磨粒共同旋转，待抛光工件整体浸入磁流变液中进行抛光。实现了可控磁流变整体浸入式化学机械抛光，以较强的均匀机械磨削作用力去除复杂构件由化学抛光液形成的软化膜，该装备能适用于抛光不同类型不同材质的复杂构件，解决现有的复杂构件抛光装备存在无法抛光、抛光表面有麻点、划痕、抛光表面一致性差等问题，达到复杂构件使役需求，满足高性能装备的使用需求。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述第一圈层永磁铁体积小于第二圈层永磁铁。
3.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述第一圈层永磁铁与第二圈层永磁铁的数量均为4个。
4.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述电磁铁(4.1)的数量为12个。
5.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述抛光装置还包括设置于所述抛光桶(4)上方的工件装夹装置(9)。
6.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述抛光装置还包括设置在所述床身(1)外表面的触控屏(2)。
7.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述抛光装置还包括设置在所述床身(1)内部的扫描仪(10)。
【技术特征摘要】
1.一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述第一圈层永磁铁体积小于第二圈层永磁铁。
3.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述第一圈层永磁铁与第二圈层永磁铁的数量均为4个。
4.根据权利要求1所述的一种复杂构件可控磁流变抛光装置，其特征在于，所述电磁铁(4.1)的数量为12个。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：张振宇，吴耀文，李玉彪，董立光，朱嘉旭，王泽云，
申请(专利权)人：佛山探智拓高端智能装备有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。