【技术实现步骤摘要】
本申请涉及防眩光，尤其涉及一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜。
技术介绍
1、目前，由于外部的环境光在显示装置表面反射，强反射影响人眼视物功能，导致显示装置在应用过程中存在“眩光”现象。一般采用减反射膜来改善显示装置的“眩光”问题。
2、相关技术中，减反射膜的制备方法包括在基材上涂覆具有可见光固化性的树脂形成膜，利用的压模将的压模表面形状转印到该膜上形成凹凸膜，再对凹凸膜进行固化处理，从而得到减反射膜。采用此方法制备的减反射膜前，通过在铝制基材表面刻蚀出凹凸结构制备出压模，刻蚀工艺要求高，无法控制凹凸结构的尺寸、形貌等，压模制作难度高，采用才压模制备的减反射膜的反射效果不可控。
技术实现思路
1、本申请提一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜，以解决现有的减反射膜制作过程中压模制造难度高的技术问题。
2、为解决上述方案，本申请提供的技术方案如下：
3、第一方面的，本申请提供一种减反射膜的制备方法，包括如下步骤：
4、提供第一模板，所述第一...
【技术保护点】
1.一种减反射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，制备所述第一模板，具体步骤为：
3.根据权利要求2所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第二基板，所述第二基板表面具有多个第一凸起部，所述第一凸起部与所述第一凹陷部对应。
4.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第一基板，所述第一基板表面具有多个第二凸起部，所述第二凸起部与所述第二凹陷部对应。
5.根据权利要...
【技术特征摘要】
1.一种减反射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，制备所述第一模板，具体步骤为：
3.根据权利要求2所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第二基板，所述第二基板表面具有多个第一凸起部，所述第一凸起部与所述第一凹陷部对应。
4.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第一基板，所述第一基板表面具有多个第二凸起部，所述第二凸起部与所述第二凹陷部对应。
5.根据权利要求3或4所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，所述刻蚀工艺为激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀。
6.根据权利要求1或2所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在所述第一基板或第二基板表面形成所述材料层。
7.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还...
【专利技术属性】
技术研发人员：白雪，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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