【技术实现步骤摘要】
本申请涉及防眩光，尤其涉及一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜。
技术介绍
1、目前，由于外部的环境光在显示装置表面反射，强反射影响人眼视物功能，导致显示装置在应用过程中存在“眩光”现象。一般采用减反射膜来改善显示装置的“眩光”问题。
2、相关技术中，减反射膜的制备方法包括在基材上涂覆具有可见光固化性的树脂形成膜，利用的压模将的压模表面形状转印到该膜上形成凹凸膜，再对凹凸膜进行固化处理，从而得到减反射膜。采用此方法制备的减反射膜前，通过在铝制基材表面刻蚀出凹凸结构制备出压模，刻蚀工艺要求高，无法控制凹凸结构的尺寸、形貌等，压模制作难度高，采用才压模制备的减反射膜的反射效果不可控。
技术实现思路
1、本申请提一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜，以解决现有的减反射膜制作过程中压模制造难度高的技术问题。
2、为解决上述方案，本申请提供的技术方案如下：
3、第一方面的，本申请提供一种减反射膜的制备方法，包括如下步骤：
4、提供第一模板，所述第一模板包括平板状的主体，所述第一模板还具有多个间隔布置的第一凹陷部；
5、提供第一基板，并在所述第一基板表面形成材料层，所述第一基板上的图案转印至所述材料层，所述材料层形成第二模板，所述第二模板包括平板状的主体，所述第二模板具有多个间隔设置的第二凹陷部；
6、将所述第一模板与所述第二模板对位组装形成压模，组装过程中，所述第二模板随所述第一模板的所述第一凹陷部变形产生第三凹陷部
7、提供一基材，将所述压模上的所述第二凹陷部和所述第三凹陷部转印至所述基材上，形成减反射膜。
8、可选的，还包括如下步骤，制备所述第一模板，具体步骤为：
9、提供第二基板，并在所述第二基板表面形成材料层，所述第二基板上的图案转印至所述材料层，所述材料层形成所述第一模板。
10、可选的，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第二基板，所述第二基板表面具有多个第一凸起部，所述第一凸起部与所述第一凹陷部对应。
11、可选的，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第一基板，所述第一基板表面具有多个第二凸起部，所述第二凸起部与所述第二凹陷部对应。
12、可选的，所述刻蚀工艺为激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀。
13、可选的，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在所述第一基板或第二基板表面形成所述材料层。
14、可选的，还包括如下步骤：
15、采用固化材料，对转印后的所述基材表面进行固化处理。可选的，所述第二模板与所述第一模板采用真空压缩的方式连接。
16、第二方面的，本申请实施例提供一种压模，包括：
17、第一模板，包括平板状的主体，所述第一模板的表面设有多个间隔布置的第一凹陷部；
18、第二模板，包括平板状的主体，所述第二模板的表面设有多个间隔布置的第二凹陷部，所述第二模板与第一模板对位连接，所述第二模板随所述第一模板的所述第一凹陷部变形产生第三凹陷部，所述第二凹陷部的尺寸小于所述第三凹陷部的尺寸，所述第一凹陷部的数量多于所述第三凹陷部的数量。
19、可选的，所述第一模板靠近所述第一凹陷部的一侧面与所述第二模板背离所述第二凹陷部的一侧面胶粘连接。
20、可选的，所述第一模板采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料制备而成；
21、和/或，与所述第二模板采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料制备而成。
22、第三方面的，本申请实施例提供一种减反射膜，采用上述所述的减反射膜的制备方法制备获得，包括：
23、基材；
24、多个防眩凸起，设置于间隔设置于所述基材的表面；
25、多个蛾眼凸起，间每个所述防眩凸起的表面间隔设有多个所述蛾眼凸起，相邻所述防眩凸起之间的所述基材间隔设有多个所述蛾眼凸起。
26、可选的，所述防眩凸起尺寸在1-5μm之间；和/或，所述蛾眼凸起的尺寸在10-100nm之间。
27、可选的，所述基材的材质为涤纶树脂、醋酸三纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚乙烯和聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰胺或其他硬化类树脂。
28、有益效果：本申请公开了一种减反射膜的制备方法、压模和减反射膜，通过转印制备第二模板，第一模板上布置多个第一凹陷部，第二模板上布置有第二凹陷部，第一模板与第二模板对位组装出压模，组装过程中第二模板随第一模板的第一凹陷部变形形成第三凹陷部，通过转印法对压模进行转印形成减反射膜，第二凹陷部形成减反射膜的蛾眼凸起，第三凹陷部形成减反射膜的防眩凸起，减反射膜的制备工艺简单，制作难度低，克服了现有的减反射膜制作过程中压模制造难度高的技术问题，第一模板上的第一凹陷部和第二模板上的第二凹陷部的形状、尺寸可控，制备出的减反射膜上的蛾眼凸起和防眩凸起的形状、尺寸也可控，从而生产出减反效果优良的减反射膜。
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1.一种减反射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，制备所述第一模板，具体步骤为：
3.根据权利要求2所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第二基板，所述第二基板表面具有多个第一凸起部，所述第一凸起部与所述第一凹陷部对应。
4.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第一基板，所述第一基板表面具有多个第二凸起部，所述第二凸起部与所述第二凹陷部对应。
5.根据权利要求3或4所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，所述刻蚀工艺为激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀。
6.根据权利要求1或2所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在所述第一基板或第二基板表面形成所述材料层。
7.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤：
8.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，所述第二
9.一种压模，其特征在于，包括：
10.根据权利要求9所述的压模，其特征在于，所述第一模板靠近所述第一凹陷部的一侧面与所述第二模板背离所述第二凹陷部的一侧面胶粘连接。
11.根据权利要求9所述的压模，其特征在于，所述第一模板采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料制备而成；
12.一种减反射膜，其特征在于，采用如权利要求1至8任意一项所述的减反射膜的制备方法制备获得，包括：
13.根据权利要求12所述的减反射膜，其特征在于，所述防眩凸起尺寸在1-5μm之间；和/或，所述蛾眼凸起的尺寸在10-100nm之间。
14.根据权利要求12所述的减反射膜，其特征在于，所述基材的材质为涤纶树脂、醋酸三纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚乙烯和聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰胺或其他硬化类树脂。
...【技术特征摘要】
1.一种减反射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，制备所述第一模板，具体步骤为：
3.根据权利要求2所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第二基板，所述第二基板表面具有多个第一凸起部，所述第一凸起部与所述第一凹陷部对应。
4.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤，采用刻蚀工艺制备所述第一基板，所述第一基板表面具有多个第二凸起部，所述第二凸起部与所述第二凹陷部对应。
5.根据权利要求3或4所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，所述刻蚀工艺为激光刻蚀、离子束刻蚀或者电子束刻蚀。
6.根据权利要求1或2所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，采用聚二甲基硅氧烷材料或者光固化类树脂材料在所述第一基板或第二基板表面形成所述材料层。
7.根据权利要求1所述的减反射膜的制备方法，其特征在于，还...
【专利技术属性】
技术研发人员：白雪，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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