【技术实现步骤摘要】
本技术涉及pecvd尾气处理领域，尤其涉及一种真空过滤机构及pecvd装置。
技术介绍
1、pecvd(plasma enhanced chemical vapor deposition)是指等离子体增强化学的气相沉积法，其机理是是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，从而在基片上沉积出所期望的薄膜；其实现可以通过pecvd装置。
2、在pecvd装置中，包括腔体和真空泵，腔体和真空泵通过管道连通。真空泵启动时，会抽取腔体内的气体，同时，其也会将装置运行时产生的粉尘、颗粒物等一起抽走，这样一来，将对真空泵的正常运行产生不良影响。目前，针对该问题的解决方法是在管道中设置一过滤网，以过滤粉尘和颗粒物，如附图1所示。但当过滤一段时间后，管道内将产生堆积物，在不能及时清理的情况下，该堆积物将可能导致真空泵卡死或损坏，从而影响装置整体运行。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种真空过滤机构及pecvd装置，以缓解现有过滤方式依然存在卡死或损坏真空泵的技术问题。
2、为了解决上述技术问题，本技术提供的技术方案在于：
3、第一方面，本技术提供的真空过滤机构包括：第一管道连接部，其与镀膜腔室方向连接的第一管道进行连接；第二管道连接部，其与真空泵方向连接的第二管道进行连接；其特征在于：
4、所述真空过滤机构还包括位于第一管道连接部和第二管道连接部之间的收集部；
5、过滤网
6、且所述第一管道连接部和所述第二管道连接部交叉设置。
7、进一步的，所述第一管道连接部和所述第二管道连接部垂直设置。
8、进一步的，所述第一管道连接部和所述第一管道通过连接锁扣固定连接；
9、所述第二管道连接部和所述第二管道通过连接锁扣固定连接。
10、进一步的，所述第二管道连接部包括与第二管道连接的第一端，以及与收集部连接的第二端，所述第二端的直径大于等于第一端的直径；所述过滤网设置在第二端和收集部之间。
11、进一步的，所述收集部上还设置有可视窗。
12、进一步的，所述过滤网位于第二管道连接部和所述第二管道之间。
13、进一步的，所述过滤网外侧还套设有密封圈。
14、综合上述技术方案，本技术提供的真空过滤机构所能实现的技术效果在于：
15、本技术提供的真空过滤机构包括第一管道连接部，其与镀膜腔室方向连接的第一管道进行连接；第二管道连接部，其与真空泵方向连接的第二管道进行连接；真空过滤机构还包括位于第一管道连接部和第二管道连接部之间的收集部；过滤网，过滤网位于第二管道连接部和收集部之间；且第一管道连接部和第二管道连接部交叉设置。
16、在该机构中，第一管道和第二管道通过连接于二者之间的第一管道连接部、收集部和第二管道连接部连通，如此，来自镀膜腔室的混杂气体可从第一管道依次经第一管道连接部、收集部和第二管道连接部进入第二管道，实现排气；且由于第二管道连接部与收集部之间设置有过滤网，混杂气体中的粉尘、颗粒物等将被过滤下来，同时考虑到第一管道连接部和第二管道连接部二者交叉设置，粉尘、颗粒物等将留在收集部，且不影响二者的连通，如此，则保证了真空泵的正常运行。
17、可以看出，相较于现有技术，该真空过滤机构可以实现对粉尘和颗粒物的过滤，同时可以储存过滤后的粉尘、颗粒物，避免了管道堵塞，降低了真空泵卡死或损坏的风险。
18、第二方面，本技术提供的一种pecvd装置包括第一管道、第二管道和所述的真空过滤机构；
19、所述第一管道与所述第一管道连接部可拆卸连接；所述第二管道与所述第二管道连接部可拆卸连接。
20、本技术提供的一种pecvd装置的有益效果为：
21、本技术提供的pecvd装置包括真空过滤机构，由此，该pecvd装置所达到的技术优势及效果同样包括上述真空过滤机构所达到的技术优势及效果，此处不再赘述。
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1.一种真空过滤机构，其特征在于，包括：第一管道连接部(100)，其与镀膜腔室方向连接的第一管道(500)进行连接；第二管道连接部(200)，其与真空泵方向连接的第二管道(600)进行连接；其特征在于：
2.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述第一管道连接部(100)和所述第二管道连接部(200)垂直设置。
3.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述第一管道连接部(100)和所述第一管道(500)通过连接锁扣(700)固定连接；
4.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述第二管道连接部(200)包括与第二管道(600)连接的第一端，以及与收集部(300)连接的第二端，所述第二端的直径大于等于第一端的直径；所述过滤网(400)设置在第二端和收集部之间。
5.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述收集部上还设置有可视窗(310)。
6.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述过滤网(400)位于第二管道连接部(200)和所述第二管道(600)之间。
7.
8.一种PECVD装置，其特征在于，包括第一管道(500)、第二管道(600)和如权利要求1至7任一项所述的真空过滤机构；其特征在于：
...【技术特征摘要】
1.一种真空过滤机构，其特征在于，包括：第一管道连接部(100)，其与镀膜腔室方向连接的第一管道(500)进行连接；第二管道连接部(200)，其与真空泵方向连接的第二管道(600)进行连接；其特征在于：
2.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述第一管道连接部(100)和所述第二管道连接部(200)垂直设置。
3.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述第一管道连接部(100)和所述第一管道(500)通过连接锁扣(700)固定连接；
4.根据权利要求1所述的真空过滤机构，其特征在于，所述第二管道连接部(200)包括与第二管道(600)连接的第一端，以及与收集部...
【专利技术属性】
技术研发人员：闻二成，唐海钦，高辉，陈志伟，王勇，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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