一种酸性蚀刻液生产铝基PCB的方法技术

技术编号:40196514 阅读:32 留言:0更新日期:2024-01-26 23:59
本发明专利技术涉及铝基PCB生产技术领域,公开了一种酸性蚀刻液生产铝基PCB的方法,包括以下步骤,步骤一:来料检验,要求来料不贴膜和阳极处理;步骤二:开料,利用裁切装置和倒角机对步骤一中的铝基板进行裁切和倒圆角处理;步骤三:对步骤二中的铝基板铜面清洁处理;步骤四:涂布,在步骤三中的铝基板的表面涂布感光油墨;步骤五:曝光,利用自动双面曝光机对步骤四中的铝基板进行曝光处理;从而使得本发明专利技术可以节约成本,不贴保护膜节约物料成本,并在冲床前不用撕保护膜,从而可以减少制程生产时间,此外不贴保护膜可以减少大量的固废排放,从而大大提高了环保性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及铝基pcb生产,具体为一种酸性蚀刻液生产铝基pcb的方法。


技术介绍

1、传统的加工装置在利用酸性蚀刻液对铝基pcb进行蚀刻加工时需要对pcb铝基板进行贴膜和除膜处理,导致在加工时效率低下,且传统的贴膜处理会增加生产时的固废排放,从而对环境造成不利影响。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种酸性蚀刻液生产铝基pcb的方法,解决了
技术介绍
中所提出的问题。

2、本申请实施例提供了一种酸性蚀刻液生产铝基pcb的方法,包括以下步骤:

3、步骤一:来料检验,要求来料不贴膜和阳极处理;

4、步骤二:开料,利用裁切装置和倒角机对步骤一中的铝基板进行裁切和倒圆角处理;

5、步骤三:线路前处理,对步骤二中的铝基板铜面清洁处理;

6、步骤四:涂布,在步骤三中的铝基板的表面涂布感光油墨;

7、步骤五:曝光,利用自动双面曝光机对步骤四中的铝基板进行曝光处理;

8、步骤六:显影,将步骤五中的铝基板浸泡在显影液中进行显影处理,添加本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种酸性蚀刻液生产铝基PCB的方法,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种酸性蚀刻液生产铝基PCB的方法,其特征在于:所述显影液为1%的碳酸钠溶液和0.5%Goldwell03-01E05铝面保护剂。

3.根据权利要求1所述的一种酸性蚀刻液生产铝基PCB的方法,其特征在于:所述酸性蚀刻液的组成包括氧化剂和蚀刻液添加剂。

4.根据权利要求3所述的一种酸性蚀刻液生产铝基PCB的方法,其特征在于:所述蚀刻液添加剂的组成包括降酸助剂、氯化铵以及氯化钠,且所述蚀刻液添加剂的酸当量为5.0-6.0。

5.根据权利要求4所述的一种酸性蚀刻液生产...

【技术特征摘要】

1.一种酸性蚀刻液生产铝基pcb的方法,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种酸性蚀刻液生产铝基pcb的方法,其特征在于:所述显影液为1%的碳酸钠溶液和0.5%goldwell03-01e05铝面保护剂。

3.根据权利要求1所述的一种酸性蚀刻液生产铝基pcb的方法,其特征在于:所述酸性蚀刻液的组成包括氧化剂和蚀刻液添加剂。

4.根据权利要求3所述的一种酸性蚀...

【专利技术属性】
技术研发人员:李文科顾书春
申请(专利权)人:嘉柏技术安徽有限公司
类型:发明
国别省市:

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