一种摆片的蚀刻方法及蚀刻控制系统技术方案

本发明专利技术提供了一种摆片的蚀刻方法及蚀刻控制系统，该蚀刻方法先通过摆片蚀刻预试验，统计中心摆的剩余重量与剩余蚀刻时间的关系曲线；将装配蚀刻掩膜的批量石英片按照预定蚀刻时间完成第一次蚀刻；测量批量石英片中心摆的剩余重量，按剩余重量区间将石英片分组，计算每个分组的平均剩余重量，计算每组石英片的剩余蚀刻时间；每组石英片按照剩余蚀刻时间完成第二次蚀刻。该方法通过测量剩余质量间接控制平桥厚度一致性，仅需要操作人员完成蚀刻掩膜装版及拆卸，极大降低了操作难度，提升了流程控制水平、连续生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于加速度计零部件生产，涉及一种摆片的蚀刻方法及蚀刻控制系统，具体地涉及一种摆片平桥的蚀刻控制方法。

技术介绍

1、加速度计石英摆片两侧对称装配两个力矩器动圈形成摆组件，用于敏感外界加速度，摆片挠性平桥的厚度直接影响加速度计偏值。不同类型加速度计偏值不同，对应摆片平桥的厚度有一定范围，摆片平桥厚度一致性的控制水平决定了批次产品的偏值范围。因此，在摆片蚀刻前需要对蚀刻时间进行评估，并在平桥达到目标厚度前，对平桥厚度进行测量，以确定剩余的蚀刻时间，进而保证批次生产时摆片平桥厚度的范围。

2、目前，摆片蚀刻加工过程绝大多数工步依靠人工实现，平桥厚度的控制一致性对操作人员经验依赖性强，且平桥厚度的测量需要逐片进行。现有技术中，平桥厚度的表征通过计算平桥比刚度实现，通过测量水平放置石英片的中心摆的下垂量，对平桥的比刚度进行推算。然而，由于平桥约30μm厚，摆片水平放置后，中心摆容易晃动，中心摆下垂位置的精确测量具有一定难度且耗费时间较长。另外，当石英摆片需要大量连续生产时，操作人员会因工作量大产生疲劳，易出现操作失误。因此，需要对现有摆片的蚀刻本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种摆片的蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤

2.如权利要求1所述的摆片的蚀刻方法，其特征在于，所述步骤S1包括如下步骤：

3.如权利要求2所述的摆片的蚀刻方法，其特征在于，所述步骤S3中测量批量石英片中心摆的剩余重量时，中心摆的测量位置、下垂量与蚀刻预试验一致。

4.如权利要求3所述的摆片的蚀刻方法，其特征在于，所述中心摆固定下垂量为0.2mm至5.0mm；所述步骤S2中预设蚀刻时间为摆片平桥厚度到达目标厚度的1.2倍至2倍所需的时间。

5.一种摆片的蚀刻控制系统，其特征在于，包括

6.如权利要求5所述的摆片的蚀刻控制系统...

【技术特征摘要】

1.一种摆片的蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤

2.如权利要求1所述的摆片的蚀刻方法，其特征在于，所述步骤s1包括如下步骤：

3.如权利要求2所述的摆片的蚀刻方法，其特征在于，所述步骤s3中测量批量石英片中心摆的剩余重量时，中心摆的测量位置、下垂量与蚀刻预试验一致。

4.如权利要求3所述的摆片的蚀刻方法，其特征在于，所述中心摆固定下垂量为0.2mm至5.0mm；所述步骤s2中预设蚀刻时间为摆片平桥厚度到达目标厚度的1.2倍至2倍所需的时间。

5.一种摆片的蚀刻控制系统，其特征在于，包括

6.如权利要求5所述的摆片的蚀刻控制系统，其特征在于，所述测量组件还包括摆片提篮、摆片上料台、中转区、区间提篮，所述摆片提篮放置在摆片上料台上，容纳拆除蚀刻掩膜的摆片；所述区间提篮放置在中转区，包括多个，分别容纳不同重量区间的摆片；所述摆片上料台、测量台、中转区采用环形排列，所述测量机械臂位于三者中部。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘洋，于湘涛，杨杏敏，袁枫，田丰，秦淑斌，彭振新，张姝婷，
申请(专利权)人：航天科工惯性技术有限公司，
类型：发明
国别省市：