【技术实现步骤摘要】
本专利技术公开一种镀膜修正装置，特别是一种ibs真空镀膜均匀性修正装置及使用方法，可应用于通过可调mask组利用ibs真空镀膜实现薄膜均匀性。
技术介绍
1、mask修正板是目前控制离子束溅射镀膜均匀性的重要方法之一，通常一种镀膜材料对应一块mask修正板，行业内已使用此类技术多年。一种镀膜材料对应三块mask修正板是一种全新的均匀性控制方法，如：高折射率镀膜材料对应“h-”、“h”、“h+”三块mask，由于一种镀膜材料对应一块mask修正板的均匀性修正技术不能在镀膜过程中调节均匀性，而市场上对镀膜产品的均匀性要求越来越严格，原来的均匀性修正方法已经明显落后。目前的ibs真空镀膜技术在镀膜过程中不能调节薄膜的均匀性，导致镀一炉产品出来后的合格范围较窄，间接导致生产成本增高。
技术实现思路
1、针对上述提到的现有技术中的ibs真空镀膜过程中不能调节薄膜的均匀性，导致产品合格范围较窄的缺点，本专利技术提供一种ibs真空镀膜均匀性修正装置及使用方法，其在镀膜过程中通过调节mask修正板以达到控制薄膜的均匀性的目的，使镀膜产品的均匀性更好，良率产出更高。
2、本专利技术解决其技术问题采用的技术方案是：一种ibs真空镀膜均匀性修正装置，修正装置包括修正板基座和两个以上的修正板，两个以上的修正板在修正板基座上称环形均匀分布，修正板安装端端头固定安装在修正板基座上，修正板的修正端头伸出至修正板基座外侧。
3、一种如上述的ibs真空镀膜均匀性修正装置的使用方法，该使用方法
4、修正高折射率材料的3块mask，通过两束激光及两个激光探测器分别监控修正板基座上左和右两侧的沉积速率，初始镀膜使用mask“h”，使修正板基座左、右两侧膜料沉积速率相同；如果监测到左侧的沉积速率较快，就切换到mask“h+”修正板；如果监测到右侧的沉积速率较快，就切换到mask“h-” 修正板，同理，低折射率镀膜材料l也如上述操作；
5、当6块mask都修正好之后，全部安装到对应位置，抽真空进行镀膜操作；
6、当激光探测器监控到修正板基座上左侧沉积速率快时，就根据当层所镀膜材料将mask切换成mask “h+”或者mask “l+”；当激光探测器监控到修正板基座上右侧沉积速率快时，就根据当层所镀膜材料将mask切换成mask “h-”或者mask “l-”，最终达到修正板基座上左、右两侧的薄膜沉积厚度相同。
7、本专利技术解决其技术问题采用的技术方案进一步还包括：
8、所述的修正板基座呈圆形。
9、所述的修正板基座顶部开设有安装槽，安装槽内开设有腰形孔，腰形孔处通过第一安装螺钉将相应的修正板安装在修正板基座上。
10、所述的修正板基座安装在mask电机上，修正板基座通过电机螺钉与mask电机的电机轴固定安装。
11、所述的修正板包括修正主板、角度片和支杆，修正主板固定安装在支杆上，角度片安装在修正主板上。
12、所述的支杆一端开设有第一安装螺钉孔，第一安装螺钉插装在第一安装螺钉孔内。
13、所述的支杆上开设有第二安装螺钉孔和定位柱安装孔，定位柱插装在定位柱安装孔内，第二安装螺钉插装在第二安装螺钉孔内。
14、所述的角度片通过固定螺钉与修正主板固定安装在一起。
15、所述的角度片上开设有台阶，台阶抵住修正主板边沿。
16、所述的修正板设有六个或八个。
17、本专利技术的有益效果是：采用本专利技术可以在镀膜过程中控制薄膜的均匀性，镀膜的合格范围更宽，良率更高。
18、下面将结合附图和具体实施方式对本专利技术做进一步说明。
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1.一种IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正装置包括修正板基座（1）和两个以上的修正板（2），两个以上的修正板（2）在修正板基座（1）上称环形均匀分布，修正板（2）安装端端头固定安装在修正板基座（1）上，修正板（2）的修正端头伸出至修正板基座（1）外侧。
2.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）呈圆形，修正板基座（1）顶部开设有安装槽（3），安装槽（3）内开设有腰形孔（4），腰形孔（4）处通过第一安装螺钉（5）将相应的修正板（2）安装在修正板基座（1）上。
3.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）安装在Mask电机上，修正板基座（1）通过电机螺钉（16）与Mask电机的电机轴固定安装。
4.根据权利要求2所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板（2）包括修正主板（6）、角度片（7）和支杆（11），修正主板（6）固定安装在支杆（11）上，角度片（7）安装在修正主板（6）上。
5.根据权利要求4所述的IBS真空镀膜
6.根据权利要求4所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的支杆（11）上开设有第二安装螺钉孔（10）和定位柱安装孔（12），定位柱（8）插装在定位柱安装孔（12）内，第二安装螺钉（9）插装在第二安装螺钉孔（10）内。
7.根据权利要求4所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的角度片（7）通过固定螺钉（13）与修正主板（6）固定安装在一起。
8.根据权利要求4所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的角度片（7）上开设有台阶（15），台阶（15）抵住修正主板（6）边沿。
9.根据权利要求1所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板（2）设有六个或八个。
10.一种如权利要求1至9中任意一项所述的IBS真空镀膜均匀性修正装置的使用方法，其特征是：所述的使用方法包括下述步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正装置包括修正板基座（1）和两个以上的修正板（2），两个以上的修正板（2）在修正板基座（1）上称环形均匀分布，修正板（2）安装端端头固定安装在修正板基座（1）上，修正板（2）的修正端头伸出至修正板基座（1）外侧。
2.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）呈圆形，修正板基座（1）顶部开设有安装槽（3），安装槽（3）内开设有腰形孔（4），腰形孔（4）处通过第一安装螺钉（5）将相应的修正板（2）安装在修正板基座（1）上。
3.根据权利要求1所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板基座（1）安装在mask电机上，修正板基座（1）通过电机螺钉（16）与mask电机的电机轴固定安装。
4.根据权利要求2所述的ibs真空镀膜均匀性修正装置，其特征是：所述的修正板（2）包括修正主板（6）、角度片（7）和支杆（11），修正主板（6）固定安装在支杆（11）上，角度片（7）安装在修正主板（6）上。
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【专利技术属性】
技术研发人员：朱虹云，陆文，
申请(专利权)人：北极光电深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：
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