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【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于传感器领域,涉及湿距敏感元件,具体涉及双层螺旋结构湿距敏感元件及其制备方法。
技术介绍
1、随着经济的增长、科学技术的进步以及各行各业对创新解决方案的需求,对传感器的需求与日俱增。虽然单功能传感器也有其应用领域,但人们对可同时执行多项任务的多功能传感器的兴趣与日俱增。然而,实现多功能往往需要在性能上做出权衡,这阻碍了其在工业领域的广泛应用。
2、为了应对与多功能传感器相关的挑战,人们一直致力于多功能集成、提高性能和降低成本。2016年wang.首次提出传感器螺线化的思想(wang l.,stretchable eddycurrent noncontact gap sensor based on spiral conductive polymer composite,inieee/asme transactions on mechatronics,(2016),21(2),pp.1072-1079.);而后陆续研究了螺线型压力-间隙传感器、螺线型温度-间隙传感器和螺旋型sno2湿度-间隙传感器。然而,实现多功能往往需要在性能上做出权衡,这就阻碍了其在工业领域的广泛应用。
3、为了提高二氧化锡的湿度检测性能,研究人员探索了一些改性方法,通过引入额外的官能团来改善对水分子的吸附。例如,在sno2中加入对湿度敏感的颗粒,这会增加成本和工艺的不可控性;或者加入对湿度不敏感的颗粒,这需要严格的制备条件来构建高灵敏度的晶粒结构,成本高且失败率高。这两种方法在成本、工艺控制以及湿度和间隙检测性能的获取方面都
技术实现思路
1、(一)要解决的技术问题
2、基于此,本专利技术公开了一种双层螺旋结构湿距敏感元件及其制备方法,该元件采用简单的双层磁控溅射工艺,工艺简单,成本低。其底层sn螺旋敏感层的存在不仅增加了表层sno2螺旋敏感层水分子反应位点提升湿度检测性能,而且降低敏感元件阻值增强涡流效应提升距离检测性能。
3、(二)技术方案
4、本专利技术公开了一种双层螺旋结构湿距敏感元件,包括衬底层,敏感层和引线层;敏感层由表层sno2螺旋敏感层和底层sn螺旋敏感层组成双层螺旋结构;且表层sno2螺旋敏感层与底层sn螺旋敏感层有完全相同的平面结构,底层sn螺旋敏感层位于表层sno2螺旋敏感层和衬底层之间。
5、本专利技术还公开了一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,包括:
6、(1)清洗衬底层;
7、(2)在所述衬底层表面磁控溅射底层sn螺旋敏感层;
8、(3)在所述底层sn螺旋敏感层表面磁控溅射表层sno2螺旋敏感层;
9、(4)在所述表层sno2螺旋敏感层表面磁控溅射绝缘层;
10、(5)在所述绝缘层表面磁控溅射引线层;
11、从而制备得到双层螺旋结构湿距敏感元件。
12、进一步的,表层sno2螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至3小时。
13、进一步的,底层sn螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至1小时。
14、进一步的,底层sn螺旋敏感层溅射功率为25w,载气流量为42sccm。
15、进一步的,绝缘层溅射功率为150w,溅射时长为120min。
16、(三)有益效果
17、本专利技术的上述技术方案具有如下优点:
18、(1)分层溅射工艺利用金属sn与半导体sno2之间的接触电势差来增加水分子反应位点,金属sn的存在降低了敏感膜的电阻,从而有效增加了涡流电感。(2)通过分层溅射的方法实现了接触面上的掺杂融合。与现有的掺杂实现方法相比,实现方法更简单、更方便,成本更低。
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1.一种双层螺旋结构湿距敏感元件,包括衬底层,敏感层和引线层;其特征在于,所述敏感层由表层SnO2螺旋敏感层和底层Sn螺旋敏感层组成双层螺旋结构;且所述表层SnO2螺旋敏感层与所述底层Sn螺旋敏感层有完全相同的平面结构,所述底层Sn螺旋敏感层位于所述表层SnO2螺旋敏感层和衬底层之间。
2.如权利要求1所述双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,包括:
3.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所示表层SnO2螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至3小时。
4.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所述底层Sn螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至1小时。
5.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所述底层Sn螺旋敏感层溅射功率为25w,载气流量为42sccm。
6.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所述绝缘层溅射功率为150w,溅射时长为120min。
【技术特征摘要】
1.一种双层螺旋结构湿距敏感元件,包括衬底层,敏感层和引线层;其特征在于,所述敏感层由表层sno2螺旋敏感层和底层sn螺旋敏感层组成双层螺旋结构;且所述表层sno2螺旋敏感层与所述底层sn螺旋敏感层有完全相同的平面结构,所述底层sn螺旋敏感层位于所述表层sno2螺旋敏感层和衬底层之间。
2.如权利要求1所述双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,包括:
3.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所示表层sno2螺旋...
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