System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种双层螺旋结构湿距敏感元件及其制备方法技术_技高网
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一种双层螺旋结构湿距敏感元件及其制备方法技术

技术编号:40172162 阅读:8 留言:0更新日期:2024-01-26 23:41
本发明专利技术公开一种双层螺旋结构湿距敏感元件,包括衬底层,敏感层和引线层;敏感层由表层SnO<subgt;2</subgt;螺旋敏感层和底层Sn螺旋敏感层组成双层螺旋结构;且表层SnO<subgt;2</subgt;螺旋敏感层与底层Sn螺旋敏感层有完全相同的平面结构,底层Sn螺旋敏感层位于表层SnO<subgt;2</subgt;螺旋敏感层和衬底层之间。其底层Sn螺旋敏感层的存在不仅增加了表层SnO<subgt;2</subgt;螺旋敏感层水分子反应位点提升湿度检测性能,而且降低阻值增强涡流效应提升距离检测性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于传感器领域,涉及湿距敏感元件,具体涉及双层螺旋结构湿距敏感元件及其制备方法


技术介绍

1、随着经济的增长、科学技术的进步以及各行各业对创新解决方案的需求,对传感器的需求与日俱增。虽然单功能传感器也有其应用领域,但人们对可同时执行多项任务的多功能传感器的兴趣与日俱增。然而,实现多功能往往需要在性能上做出权衡,这阻碍了其在工业领域的广泛应用。

2、为了应对与多功能传感器相关的挑战,人们一直致力于多功能集成、提高性能和降低成本。2016年wang.首次提出传感器螺线化的思想(wang l.,stretchable eddycurrent noncontact gap sensor based on spiral conductive polymer composite,inieee/asme transactions on mechatronics,(2016),21(2),pp.1072-1079.);而后陆续研究了螺线型压力-间隙传感器、螺线型温度-间隙传感器和螺旋型sno2湿度-间隙传感器。然而,实现多功能往往需要在性能上做出权衡,这就阻碍了其在工业领域的广泛应用。

3、为了提高二氧化锡的湿度检测性能,研究人员探索了一些改性方法,通过引入额外的官能团来改善对水分子的吸附。例如,在sno2中加入对湿度敏感的颗粒,这会增加成本和工艺的不可控性;或者加入对湿度不敏感的颗粒,这需要严格的制备条件来构建高灵敏度的晶粒结构,成本高且失败率高。这两种方法在成本、工艺控制以及湿度和间隙检测性能的获取方面都存在局限性。此外,还有人研究通过增加线圈结构的匝数或提高输入频率来增加电感量,从而提高间隙检测性能。不过,与掺杂工艺相关的挑战(如不可控性和不一致性)、与线圈工艺相关的挑战(如次品率高和成本高)以及湿度灵敏度和间隙灵敏度之间的相互排斥阻碍了其工业应用。如何经济有效地同时提高敏感薄膜的湿度检测性能和距离检测性能是当前的研究重点。


技术实现思路

1、(一)要解决的技术问题

2、基于此,本专利技术公开了一种双层螺旋结构湿距敏感元件及其制备方法,该元件采用简单的双层磁控溅射工艺,工艺简单,成本低。其底层sn螺旋敏感层的存在不仅增加了表层sno2螺旋敏感层水分子反应位点提升湿度检测性能,而且降低敏感元件阻值增强涡流效应提升距离检测性能。

3、(二)技术方案

4、本专利技术公开了一种双层螺旋结构湿距敏感元件,包括衬底层,敏感层和引线层;敏感层由表层sno2螺旋敏感层和底层sn螺旋敏感层组成双层螺旋结构;且表层sno2螺旋敏感层与底层sn螺旋敏感层有完全相同的平面结构,底层sn螺旋敏感层位于表层sno2螺旋敏感层和衬底层之间。

5、本专利技术还公开了一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,包括:

6、(1)清洗衬底层;

7、(2)在所述衬底层表面磁控溅射底层sn螺旋敏感层;

8、(3)在所述底层sn螺旋敏感层表面磁控溅射表层sno2螺旋敏感层;

9、(4)在所述表层sno2螺旋敏感层表面磁控溅射绝缘层;

10、(5)在所述绝缘层表面磁控溅射引线层;

11、从而制备得到双层螺旋结构湿距敏感元件。

12、进一步的,表层sno2螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至3小时。

13、进一步的,底层sn螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至1小时。

14、进一步的,底层sn螺旋敏感层溅射功率为25w,载气流量为42sccm。

15、进一步的,绝缘层溅射功率为150w,溅射时长为120min。

16、(三)有益效果

17、本专利技术的上述技术方案具有如下优点:

18、(1)分层溅射工艺利用金属sn与半导体sno2之间的接触电势差来增加水分子反应位点,金属sn的存在降低了敏感膜的电阻,从而有效增加了涡流电感。(2)通过分层溅射的方法实现了接触面上的掺杂融合。与现有的掺杂实现方法相比,实现方法更简单、更方便,成本更低。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种双层螺旋结构湿距敏感元件,包括衬底层,敏感层和引线层;其特征在于,所述敏感层由表层SnO2螺旋敏感层和底层Sn螺旋敏感层组成双层螺旋结构;且所述表层SnO2螺旋敏感层与所述底层Sn螺旋敏感层有完全相同的平面结构,所述底层Sn螺旋敏感层位于所述表层SnO2螺旋敏感层和衬底层之间。

2.如权利要求1所述双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,包括:

3.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所示表层SnO2螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至3小时。

4.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所述底层Sn螺旋敏感层溅射时长为0.5小时至1小时。

5.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所述底层Sn螺旋敏感层溅射功率为25w,载气流量为42sccm。

6.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所述绝缘层溅射功率为150w,溅射时长为120min。

【技术特征摘要】

1.一种双层螺旋结构湿距敏感元件,包括衬底层,敏感层和引线层;其特征在于,所述敏感层由表层sno2螺旋敏感层和底层sn螺旋敏感层组成双层螺旋结构;且所述表层sno2螺旋敏感层与所述底层sn螺旋敏感层有完全相同的平面结构,所述底层sn螺旋敏感层位于所述表层sno2螺旋敏感层和衬底层之间。

2.如权利要求1所述双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,包括:

3.如权利要求2所述的一种双层螺旋结构湿距敏感元件的制备方法,其特征在于,所示表层sno2螺旋...

【专利技术属性】
技术研发人员:王璐珩阳杨
申请(专利权)人:中南大学
类型:发明
国别省市:

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