【技术实现步骤摘要】
本申请涉及晶圆制造,特别是涉及一种晶圆上料台及晶圆上料装置。
技术介绍
1、晶圆是制作硅半导体电路所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。在晶圆上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的半导体元件产品。
2、晶圆存储环境要求严苛,市场上常用晶圆片架存储晶圆。晶圆片架通常设置多个片架槽,每个片架槽用于对应放置一个晶圆。在目前的晶圆片架技术中,当晶圆片架由立放转为平躺后,部分晶圆存在未能完全平躺的现象,即倾斜放置在片架槽中。机台机械臂取片时,易撞击该部分晶圆,导致破片,降低了产品良率。
技术实现思路
1、基于此,有必要针对上述问题中的至少一个,提供一种晶圆上料台及晶圆上料装置。
2、为了达到上述目的,第一方面,本申请实施例提供一种用于放置晶圆片架的晶圆上料台,该晶圆上料台包括:
3、载台,具有一承载面;所述承载面与水平方向呈夹角设置;所述承载面具有相对的低位端和高位端;所述承载面上设置有一放置区,所述放置区用于放置晶圆片架;
4、
...【技术保护点】
1.一种晶圆上料台,用于放置晶圆片架,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的晶圆上料台,其特征在于,所述承载面与水平方向的夹角α满足条件:0°<α≤30°。
3.根据权利要求1所述的晶圆上料台,其特征在于,所述第一限位件靠近所述放置区的一侧具有第一限位面,所述第一限位面用于与所述晶圆片架的限位部抵接;
4.根据权利要求3所述的晶圆上料台,其特征在于,所述第一限位件上设置有限位槽,所述限位槽的底壁形成所述第一限位面。
5.根据权利要求3所述的晶圆上料台,其特征在于,所述推挡面为弧面。
6.根据权利要求1所
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆上料台,用于放置晶圆片架,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的晶圆上料台,其特征在于,所述承载面与水平方向的夹角α满足条件:0°<α≤30°。
3.根据权利要求1所述的晶圆上料台,其特征在于,所述第一限位件靠近所述放置区的一侧具有第一限位面,所述第一限位面用于与所述晶圆片架的限位部抵接;
4.根据权利要求3所述的晶圆上料台,其特征在于,所述第一限位件上设置有限位槽,所述限位槽的底壁形成所述第一限位面。
5.根据权利要求3所述的晶圆上料台,其特征在于,所述推挡面为弧面。
6.根据权利要求1所述的晶圆上料台,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘敏强,简志宏,
申请(专利权)人:无锡华润上华科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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