一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法技术

技术编号:40132090 阅读:15 留言:0更新日期:2024-01-23 22:17
本发明专利技术公开了一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法。在制备石墨烯的过程中,首先使用CsOH对天然石墨进行预处理使其表面附着少量极性官能团,有利于二甲基甲酰胺作为超临界分子利用双极性作用进入石墨层间进行剥离,同时CsOH对于石墨粉的预处理有利于增加其层间距。同时使用Na<subgt;2</subgt;SO<subgt;3</subgt;对得到的石墨烯进行高温超声处理还原处理,石墨烯的还原度,同时形成的SO<subgt;4</subgt;<supgt;2‑</supgt;对于富含电子的石墨烯具有静电排斥的作用,有助于石墨进行进一步的剥离。三者之间发挥协同作用,提高了石墨的剥离效率,得到低缺陷纳米级石墨烯。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于石墨烯制备领域,特别涉及一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法


技术介绍

1、石墨烯优良的物理和化学性能,使它日益得到广泛的关注.如何获得高质量高产量的石墨烯对石墨烯未来的开发和应用至关重要.石墨烯即单层的碳原子以sp2杂化轨道组成的六角形呈蜂巢晶格的二维纳米材料。石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性,在材料学、纺织业、能源、医疗和药物传递等方面具有重要的应用前景,被认为是一种未来新型“黑金”材料。目前,生产石墨烯常用的方法有机械剥离法、氧化还原法、化学气相沉积法、液相剥离法和碳化硅外延生长法。每种方法都有各自的优缺点。机械剥离法是利用物体与石墨之间的摩擦和相对运动,得到石墨烯薄层材料。该方法操作简单,得到的石墨烯通常保持完整的晶体结构且质量很高,但是该方法生产效率低、可控性低。采用氧化还原法制备的石墨烯,含有丰富的含氧官能团,易于改性,有望实现大规模生产,但是制备的石墨烯缺陷很多,使用的强酸存在较大的危险性,且对环境污染严重。碳化硅外延生长法通过真空高温环境使硅原子迅速升华脱离材料,剩下的碳原子进行重组,从而得到基于sic衬底的石墨烯。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于,制作步骤如下:

2.根据权利要求1所述的一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于:所述步骤S1中CsOH溶液浓度为0.02mol/L,溶液体积为25ml。

3.根据权利要求1所述的一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于:所述步骤S1中CsOH溶液浓度为0.03mol/L,溶液体积为20ml。

4.根据权利要求2或3所述的一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于:步骤所述S1中天然石墨粉的质量为1.5g,室温下搅拌时间为20分钟。

<p>5.根据权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于,制作步骤如下:

2.根据权利要求1所述的一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于:所述步骤s1中csoh溶液浓度为0.02mol/l,溶液体积为25ml。

3.根据权利要求1所述的一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于:所述步骤s1中csoh溶液浓度为0.03mol/l,溶液体积为20ml。

4.根据权利要求2或3所述的一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于:步骤所述s1中天然石墨粉的质量为1.5g,室温下搅拌时间为20分钟。

5.根据权利要求4所述的一种物理方法制备的低缺陷纳米级石墨烯方法,其特征在于:步骤所述s2中二甲基甲酰胺溶液的体积为4m...

【专利技术属性】
技术研发人员:秦继恩唐玉芹秦秀宪
申请(专利权)人:烯源科技无锡有限公司
类型:发明
国别省市:

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