【技术实现步骤摘要】
本申请涉及集成电路设计，特别是涉及一种版图设计文件修正方法及装置。
技术介绍
1、版图设计是集成电路设计中的重要内容，版图设计的质量直接跟芯片的性能相关，电路设计和芯片之间是通过版图联系的，版图是电路的具体表现。代工厂可以按照设计者提供的版图制造掩膜版，再通过掩膜版的形状结合工艺流程实现芯片制造。
2、在版图设计流程中，最后生成的版图可能并不满足代工厂的工艺设计规则，存在错误。然而，现有的版图设计文件修正方法对版图进行检查验证并不精确且耗时较长，对版图进行修改的步骤复杂不易实现，严重影响了版图设计的效率和准确性。
技术实现思路
1、基于此，本申请实施例提供了一种版图设计文件修正方法及装置，可以对版图进行检查和修正，且步骤简单易于实现，有利于版图设计的效率和准确性。
2、根据一些实施例，本申请一方面提供了一种版图设计文件修正方法，包括：
3、获取初始版图的库交换格式文件和同步数据流文件；
4、解析所述初始版图的库交换格式文件以获取所述初始版图中...
【技术保护点】
1.一种版图设计文件修正方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求1或2所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，所述版图物理信息包括第一格式引脚位置信息、第一格式阻塞层位置信息及第一格式版图边界信息中的至少一者；
4.根据权利要求3所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，所述基于版图设计规则检查所述版图物理信息是否存在错误，包括：
5.根据权利要求4所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，所述于所述版图物理信息存在错误时，对所述初始版图的同步数据流文件中...
【技术特征摘要】
1.一种版图设计文件修正方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求1或2所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，所述版图物理信息包括第一格式引脚位置信息、第一格式阻塞层位置信息及第一格式版图边界信息中的至少一者；
4.根据权利要求3所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，所述基于版图设计规则检查所述版图物理信息是否存在错误，包括：
5.根据权利要求4所述的版图设计文件修正方法，其特征在于，所述于所述版图物理信息存在错误时，对所述初始版图的同步数据流文件中对应于所述版图物理信息的所述版图数据信息进行修正，包括：
6.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：马苜梓，朱洋洋，马亚奇，刘洋，景画，
申请(专利权)人：合芯科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。