【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于确定来自不同生产过程的第一测量值(messung)和第二测量值之间的相关性的方法及其用于优化生产过程的用途，以及执行该方法的装置和计算机程序以及机器可读存储介质。
技术介绍
1、目前，对半导体过程之间的有相关性的过程步骤的分析主要基于专家知识，因为在非常小、稀疏和过度指定(ü berspezifiziert)的数据集的情况下传统方法是不可靠的。这种稀疏数据的特性可以归因于：在这些过程的监控中使用采样机制以缩短测试时间，并因此减少各个晶圆的周期时间。然而，传统的机器学习方法在大量缺失值结合极低采样率的情况下会失效。
2、本专利技术的优点
3、本专利技术能够分析小的、稀疏的和过度指定的数据集以揭示依赖性。
4、本专利技术的结果然后可用于改进和更好地理解半导体生产中的制造过程。因此不仅可以定量验证现有经验，而且可以揭示例如在线测量值(inline-messung)和pcm测量值之间的新依赖性。这样使得能够根据依赖性分析结果而更快、更有效地控制和协调(abstimmung)生产参数，这引起：更快地启动(hochlauf)新产品或提高已投产产品的产量。
5、本专利技术的其他方面是并列权利要求的主题。有利的扩展是从属权利要求的主题。
技术实现思路
1、在第一方面，本专利技术涉及一种用于确定第一测量值和第二测量值之间的相关性的计算机实现的方法，其中第一测量值是在一个或多个对象的第一生产步骤之后所检测的，并且第二测量值是在所述一
2、该方法开始于：提供被划分为第一测量值和第二测量值的测量值集合以及多个样本。随后多次重复抽取随机样本和计算相关性矩阵的步骤，直到满足中止标准。在抽取随机样本步骤中，从测量值集合中抽取样本。在计算相关性矩阵的步骤中，确定随机抽取样本中包含的第一测量值和第二测量值之间的相关性矩阵。
3、在所述重复已结束之后，通过在多次重复中所确定的所有相关性矩阵而确定平均相关性矩阵。平均相关性矩阵可以被理解为：通过这些重复的所确定的相关性矩阵经由平均值计算所确定的相关性矩阵。随后确定这些所确定的相关性矩阵的标准方差矩阵，其中这些所确定的相关性矩阵是在多次重复中所确定的。然后通过以逐个元素的方式将平均相关性矩阵的绝对值除以标准方差矩阵的绝对值而确定显著性值(signifikanzwert)。这些显著性值表征第一测量值与第二测量值的相关性。这些显著性值可以以矩阵的形式而存在。
4、建议：使第一和第二测量值各自包括多个不同的测量值(测量类型(messtypen))，其中针对所述第一测量值和第二测量值中不同测量值的其中每个组合而执行多次重复抽取随机样本和计算相关性矩阵的步骤以及接下来的用于确定显著性值的步骤。
5、还建议：预给定显著性阈值，其中，从测量值集合中去除测量值集合中的那些具有小于显著性阈值的显著性值的第一测量值，并且也去除与已去除的第一测量值相关联的那些第二测量值。相关联的测量可以被理解为：在与第一测量值相同的对象上所执行的第二测量。然后，可解释增强机(explainable boosting machine)(ebm)基于经缩减的测量值集合而被训练。然后根据经训练的可解释增强机的边缘化(marginalisierung)来确定第一测量值和第二测量值之间的相关性。该过程的优点是可以找到第一测量值对第二测量值的还要更精确的依赖性。
6、此外，建议：第一测量值是在线测量值并且第二测量值是pcm测量值。这样做的优点是：不仅可以定量验证现有经验，而且可以揭示在线参数和pcm参数之间的新依赖性。因此，可以更快、更有效地控制和调整生产参数，这引起：更快启动新产品或提高已投产的产品的产量。这使得该方法特别适合于半导体元件的制造。
7、此外，建议：根据来自ebm的相关性或显著性值而适配生产步骤之一。优选地，根据来自ebm的相关性或显著性值、即第一和第二测量值的相关性，并且根据优选预给定的要达成的第二测量值而适配第一生产过程和/或第二生产过程，从而使得能够借助经适配的生产过程而基本上能够达成所述要达成的第二测量值。可以设想的是，要达成的第二测量值是针对第二测量值的目标测量值或公差范围。特别优选地根据来自ebm的相关性或显著性值来选择与要达成的第二测量值特别强相关的第一测量值。然后，根据所选择的第一测量值，可以相应地适配第一生产过程和/或第二生产过程，它们影响到所选择的第一测量值。
8、在另外的方面中，本专利技术涉及分别被设置为执行上述方法的装置和计算机程序以及涉及其上存储有该计算机程序的机器可读存储介质。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于确定第一测量值和第二测量值之间的相关性的方法(20)，其中所述第一测量值是在第一生产步骤之后所检测的，并且第二测量值是在所述第一生产步骤之后接下来的第二生产步骤之后所检测的，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一测量值和第二测量值分别包括多个不同的测量值，其中针对所述第一测量值和第二测量值中不同测量值的其中每个组合而执行所述多次重复(S12)以及接下来的用于确定所述显著性值的步骤(S16、S17)。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中显著性阈值(T)是预给定的，其中从所述测量值集合(O)中去除所述测量值集合中的那些具有小于所述显著性阈值(T)的显著性值的第一测量值，并且也去除与已去除的第一测量值相关联的那些第二测量值，其中可解释增强机(EBM)基于经缩减的测量值集合而被训练，其中根据经训练的可解释增强机的边缘化来确定所述第一测量值和第二测量值之间的相关性。
4.根据权利要求3所述的方法，其中用测量值范围之外的测量值来填补缺失的第二测量值。
5.根据权利要求3或4中任一项所述的方法，其中所述
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述第一测量值是在线测量值，并且所述第二测量值是PCM测量值。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，根据所述第一和第二测量值的显著性值或相关性以及根据要达成的第二测量值而适配所述第一生产过程和/或所述第二生产过程。
8.一种被设置用于执行根据前述权利要求中任一项所述的方法的装置。
9.一种计算机程序，所述计算机程序包括指令，当所述程序由计算机执行时，所述指令使所述计算机执行根据权利要求1至7所述的方法。
10.一种机器可读存储介质，在所述机器可读存储介质上存储有根据权利要求9所述的计算机程序。
...【技术特征摘要】
1.一种用于确定第一测量值和第二测量值之间的相关性的方法(20)，其中所述第一测量值是在第一生产步骤之后所检测的，并且第二测量值是在所述第一生产步骤之后接下来的第二生产步骤之后所检测的，所述方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一测量值和第二测量值分别包括多个不同的测量值，其中针对所述第一测量值和第二测量值中不同测量值的其中每个组合而执行所述多次重复(s12)以及接下来的用于确定所述显著性值的步骤(s16、s17)。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中显著性阈值(t)是预给定的，其中从所述测量值集合(o)中去除所述测量值集合中的那些具有小于所述显著性阈值(t)的显著性值的第一测量值，并且也去除与已去除的第一测量值相关联的那些第二测量值，其中可解释增强机(ebm)基于经缩减的测量值集合而被训练，其中根据经训练的可解释增强机的边缘化来确定所述第一测量值和第二测量值之间...
【专利技术属性】
技术研发人员：S·P·林特，E·S·施密特，J·贝格多尔特，
申请(专利权)人：罗伯特·博世有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。