【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳制造,具体涉及一种电场驱动柔性辊纳米压印光刻方法。
技术介绍
1、纳米时代的到来使纳米结构体系成为材料科学与工程领域研究的热点之一。纳米结构的广泛应用可以实现器件的高性能化、多功能化、微型化,预计将在电子领域、环境科学领域、医学领域带来新的突破。纳米技术发展的一个主要推动力来自于光电产业,以光电子器件的表面纳米图案化为例,其可以增强和控制光束的发射、调制、动态整形和检测以此来提升器件的质量和性能。因此,各种微纳加工技术引起了广泛的研究和关注。如今,主要的微纳制造方法有极紫外光刻、电子束光刻、纳米小球自组装等,但这些方法各自由于其制备成本高、缺陷率难控制等不足,在光电器件此类成本敏感领域难以实现大规模的工业化制造。
2、纳米压印技术凭借其低成本、高通量、高分辨率等优势在纳米结构制备中展示出巨大的潜力。但是,在诸如光电器件这类应力敏感的翘曲衬底上利用纳米压印技术进行纳米图案制备仍然面临挑战。首先,光电器件在外延生长的过程中,由于不同材料之间的热失配和应力失配会造成外延片的翘曲。压印过程中,衬底的翘曲会使模板和衬
...【技术保护点】
1.一种电场驱动柔性辊纳米压印光刻方法,采用包括柔性导电模具(1)、滚轴(2)、承载台(3)的压印光刻设备,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的滚轴尺寸、承载台尺寸、滚轴距离承载台高度、模板尺寸要根据实际样品的尺寸决定;各运动机构的速度根据压印的效率以及缺陷的预防产生设计决定。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的承载台(3)上气槽施加的真空负压力的大小,根据不同样品(4)压印所需要的脱模力决定,脱模力越大,负压力越大,反之亦然。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的柔
...【技术特征摘要】
1.一种电场驱动柔性辊纳米压印光刻方法,采用包括柔性导电模具(1)、滚轴(2)、承载台(3)的压印光刻设备,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的滚轴尺寸、承载台尺寸、滚轴距离承载台高度、模板尺寸要根据实际样品的尺寸决定;各运动机构的速度根据压印的效率以及缺陷的预防产生设计决定。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的承载台(3)上气槽施加的真空负压力的大小,根据不同样品(4)压印所需要的脱模力决定,脱模力越大,负压力越大,反之亦然。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述的柔性导电模具(1)的制备选用超薄的玻璃材质、聚合物材质或多种材料的复合;柔性导电模具(1)的透明导电薄膜层选用氧化铟锡(ito)、掺氟氧化锡(...
【专利技术属性】
技术研发人员:王春慧,邵金友,范瑜,李祥明,田洪淼,陈小亮,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:发明
国别省市:
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