【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶片处理，尤其涉及一种晶片去污装置。
技术介绍
1、晶片是电子元器件中最为重要的元件，晶片在生产流程中需要经过多道处理工序，而制取的晶片在加工过程中会被污染，需要借助晶片去污装置对其表面进行清理。
2、经检索，现有技术中申请号为cn202221741074.7的技术公开了一种石英晶片去污装置，包括主体机构和去污机构，主体机构包括框架、污水箱、水箱、水枪、污水盖；去污机构包括电机，电机下方活动连接有转轴，转轴两侧固定连接有支撑板，支撑板左右两侧活动连接有定位板，转轴两侧设置有夹具。该石英晶片去污装置，通过将石英晶片放置在夹具内部的卡槽内，然后将夹具卡合在定位板和支撑板内壁，然后通过螺钉固定定位板，然后打开电机和水枪，电机旋转带动转轴旋转，然后带动支撑板和支撑板内壁的夹具旋转，水枪对旋转的夹具进行冲洗，然后冲洗的污水落入污水箱，然后打开污水盖，对污水进行收集处理，到达通过冲洗的方式对石英晶片进行清洗的效果。
3、但是该技术的水枪不能自动偏转，水枪喷出的水柱与晶片表面之间的夹角只有水平上的变化，缺少竖直方向的...
【技术保护点】
1.一种晶片去污装置，包括顶部设有固定组件、去污组件的底板，其特征在于：所述底板顶部放置有收集斗(9)，所述固定组件包括与底板相连接的顶板、底部设有托板(10)的固定架(13)，所述顶板底部设有与固定架(13)相驱动连接的电机，所述托板(10)内部具有固定通槽，所述去污组件包括横杆(3)、与顶板相连接的水箱(1)、位于顶板底部的连接座(4)以及喷水件(8)，所述水箱(1)与喷水件(8)相连通，所述连接座(4)一侧转动连接有与喷水件(8)相固接的转轴(6)，所述转轴(6)表面设有齿轮(5)，所述顶板底部设有与横杆(3)相连接的电动伸缩杆，所述横杆(3)两端均设有与齿轮(...
【技术特征摘要】
1.一种晶片去污装置，包括顶部设有固定组件、去污组件的底板，其特征在于：所述底板顶部放置有收集斗(9)，所述固定组件包括与底板相连接的顶板、底部设有托板(10)的固定架(13)，所述顶板底部设有与固定架(13)相驱动连接的电机，所述托板(10)内部具有固定通槽，所述去污组件包括横杆(3)、与顶板相连接的水箱(1)、位于顶板底部的连接座(4)以及喷水件(8)，所述水箱(1)与喷水件(8)相连通，所述连接座(4)一侧转动连接有与喷水件(8)相固接的转轴(6)，所述转轴(6)表面设有齿轮(5)，所述顶板底部设有与横杆(3)相连接的电动伸缩杆，所述横杆(3)两端均设有与齿轮(5)相啮合的齿条(7)。
2.根据权利要求1所述的一种晶片去污装置，其特征在于：所述固定架(13)内部螺纹连接有螺杆(...
【专利技术属性】
技术研发人员：李亮，原东明，申华新，
申请(专利权)人：重庆市雲扬电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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