【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施方式涉及缺陷检查装置、缺陷检查方法以及存储介质。
技术介绍
1、已知有使用对半导体掩模图案、印刷基板等检查对象进行拍摄而得到的检查图像来判定检查对象的缺陷区域的系统。例如，公开了对检查图像和检查对象的设计时的基准图像进行比较，基于图像中包含的边缘形状的变化来判定缺陷区域的技术。另外，公开了通过对检查图像实施多个滤波处理来生成多维的特征图像，从多维的特征图像中检测缺陷的技术。
2、然而，在基于边缘形状的变化的判定技术中，判定对象的图案以及缺陷的形状被限定，难以判定包含除判定对象以外的形状的图案以及缺陷的检查图像所包含的缺陷区域。另外，在使用多维的特征图像的技术中，由于检查图像所包含的噪声、检测条件等的影响，有时将不是缺陷的疑似缺陷检测为缺陷。即，在现有技术中，难以高精度地检查缺陷区域。
技术实现思路
1、本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种能够谋求提高缺陷区域的检查精度的缺陷检查装置、缺陷检查方法以及存储介质。
2、用于解决问题的方案
3、实施方式的缺陷检查装置具备获取部、评价对象图像生成部、缺陷推定图像生成部以及重复控制部。获取部获取拍摄检查对象而得到的检查图像和所述检查对象的设计时的基准图像。评价对象图像生成部生成与所述检查图像和所述基准图像相应的评价对象图像。缺陷推定图像生成部基于与所述评价对象图像所包含的第1阈值以上的像素值的像素连续的图像区域相应的缺陷候补区域的特征量，生成按照每个像素规定了缺陷推定值的缺陷
4、根据上述缺陷检查装置，能够谋求提高缺陷区域的检查精度。
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1.一种缺陷检查装置，其中，该缺陷检查装置具备：
2.根据权利要求1所述的缺陷检查装置，其中，
3.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其中，
4.根据权利要求3所述的缺陷检查装置，其中，
5.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其中，具备：
6.根据权利要求5所述的缺陷检查装置，其中，
7.根据权利要求3所述的缺陷检查装置，其中，
8.根据权利要求3所述的缺陷检查装置，其中，
9.根据权利要求8所述的缺陷检查装置，其中，
10.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其中，
11.根据权利要求1所述的缺陷检查装置，其中，
12.一种缺陷检查方法，其中，该缺陷检查方法包括如下步骤：
13.一种存储介质，其中，该存储介质存储有用于使计算机执行如下步骤的缺陷检查程序：
【技术特征摘要】
1.一种缺陷检查装置，其中，该缺陷检查装置具备：
2.根据权利要求1所述的缺陷检查装置，其中，
3.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其中，
4.根据权利要求3所述的缺陷检查装置，其中，
5.根据权利要求2所述的缺陷检查装置，其中，具备：
6.根据权利要求5所述的缺陷检查装置，其中，
7.根据权利要求3所述的缺陷检查装置，其中，<...
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