【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体设备制造技术，特别涉及一种封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器。
技术介绍
1、在半导体晶圆制造中，低压化学气相沉积薄膜是重要的制程工艺，在工艺中需要将反应气体通入反应器中，气体在高温、低压环境中进行解离、吸附、沉积等化学过程形成需要的薄膜结构。反应器liner的装置系统是不可或缺的组成部分，装置的结构类型会影响气体分布、流向、停留时间等，从而影响晶圆薄膜的厚度、均匀性、折射率及电性参数，结构的变化同样会带表面颗粒的数量的变化从而影响设备的保养维护周期。
2、现有公开技术中，反应器100结构如图1、2所示，liner(内筒)结构101是上下直通的圆筒形结构，liner结构101外侧罩着石英tube(管状容器)102，底部通过法兰103连接，在liner和tube之间中间空间的底部处有main fold排气口104，排气口104连通pump(泵)向外界抽出废气。反应气体在圆筒内侧的injector(注入器)105注入，从liner和tube之间中间区域将剩余的反应气体及副产物抽出反应器中，由此形成了一个气体流入和流出的反应腔体环境。
3、现有公开技术中，liner主要采用石英材质，石英结构对薄膜的附着稳定性差，容易造成薄膜剥落，产生大量颗粒，需要频繁进行清洗，影响晶圆制造产能。
技术实现思路
1、针对低压化学气相沉积薄膜所用反应器石英结构敞开式内筒设计导致薄膜的附着稳定性差问题，提出了一种封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，内筒设
2、本专利技术的技术方案为：一种封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，外罩为管状容器，外罩内部为封闭式内筒，所述封闭式内筒为封闭的筒状结构，顶部凸圆顶，与外气管连通的柱状注入器置于封闭式内筒一侧，气体从柱状注入器将气体均匀送入封闭式内筒内腔体，在远离柱状注入器的封闭式内筒另一侧底部连接法兰处有排气口，排气口连通泵系统将均匀分布在封闭式内筒内腔体中的剩余气体及反应副产物抽出。
3、优选的，所述封闭式内筒采用sic材质。
4、优选的，所述柱状注入器为顶部和侧面开孔组合方式，气体在高温、低压环境中被均匀送入封闭式内筒内腔体，参与晶圆表面的反应过程。
5、优选的，所述圆筒形的反应器的外罩和内筒一侧壁圆弧同延申凸出，在内筒筒状内部形成一个凸槽，柱状注入器置于凸槽内，向内筒注气。
6、优选的，所述圆筒形的反应器的外罩和内筒间有氮气注入器，通过氮气注入器注入确保内、外管之间的正压量的氮气。
7、本专利技术的有益效果在于：本专利技术封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，不仅带来沉积膜均匀性的提升，同时会提高表面颗粒状况并极大减少保养维护时间。
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1.一种封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，外罩为管状容器，其特征在于，外罩内部为封闭式内筒，所述封闭式内筒为封闭的筒状结构，顶部凸圆顶，与外气管连通的柱状注入器置于封闭式内筒一侧，气体从柱状注入器将气体均匀送入封闭式内筒内腔体，在远离柱状注入器的封闭式内筒另一侧底部连接法兰处有排气口，排气口连通泵系统将均匀分布在封闭式内筒内腔体中的剩余气体及反应副产物抽出。
2.根据权利要求1所述封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，其特征在于，所述封闭式内筒采用SiC材质。
3.根据权利要求1所述封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，其特征在于，所述柱状注入器为顶部和侧面开孔组合方式，气体在高温、低压环境中被均匀送入封闭式内筒内腔体，参与晶圆表面的反应过程。
4.根据权利要求3所述封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，其特征在于，所述圆筒形的反应器的外罩和内筒一侧壁圆弧同延申凸出，在内筒筒状内部形成一个凸槽，柱状注入器置于凸槽内，向内筒注气。
5.根据权利要求3所述封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，其特征在于，所述圆筒形的反应器
...【技术特征摘要】
1.一种封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，外罩为管状容器，其特征在于，外罩内部为封闭式内筒，所述封闭式内筒为封闭的筒状结构，顶部凸圆顶，与外气管连通的柱状注入器置于封闭式内筒一侧，气体从柱状注入器将气体均匀送入封闭式内筒内腔体，在远离柱状注入器的封闭式内筒另一侧底部连接法兰处有排气口，排气口连通泵系统将均匀分布在封闭式内筒内腔体中的剩余气体及反应副产物抽出。
2.根据权利要求1所述封闭式内筒结构的低压化学气相沉积反应器，其特征在于，所述封闭式内筒采用sic材质。
3.根据权利要求1所述封闭式内筒结构的...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜蔚，
申请(专利权)人：上海微釜半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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