【技术实现步骤摘要】
本申请属于气氛测试，尤其涉及器件内部低含量气氛测试装置和方法。
技术介绍
1、随着半导体器件封装工艺的发展，其内部水汽、氢气等有害气氛的含量得到了有效控制，目前高可靠产品的有害气氛含量已经降低到远低于标准规定的水平，这类产品在指标验证、工艺一致性验证时不仅要要验证指标符合标准规定，还需要准确测得内部气氛含量，有较高技术难度，而其中部分产品体积较小，能获取的目标气氛含量过少，这类测试更是难上加难，传统测试方法的测试精度很难得到保证。
2、内部气氛是一项重要的微电子器件可靠性试验项目，根据最新行业标准，器件内部气氛测试已经统一为基于质谱仪法进行。质谱仪法内部气氛测试仪由穿刺系统、真空机构、质谱仪、数据处理系统组成，其测试原理是在被测样品腔壁上穿刺一个小孔，样品内部气氛由小孔进入仪器真空机构，由质谱仪进行分析。
3、随着产品工艺水平大幅提升，高可靠性器件已经能将有害气氛含量控制在极低的水平，远远低于标准规定的合格性判据，对于这类产品而言，内部气氛测试的主要目的在于摸底验证工艺水平与工艺一致性。其中部分器件体积偏小，目标...
【技术保护点】
1.一种器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，所述定位基板包括：
3.如权利要求1所述的器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，所述基板和/或所述盖板上设置有用于对所述多个被测器件进行定位的定位机构。
4.如权利要求1所述的器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，所述推送机构与所述第二侧壁气密连接，具体为：所述推送机构与所述第二侧壁通过弹性金属簧片实现气密连接，所述弹性金属簧片与所述测试腔体的第二侧壁紧密压接。
5.如权利要求1所述的器件内部低含量气...
【技术特征摘要】
1.一种器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，所述定位基板包括：
3.如权利要求1所述的器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，所述基板和/或所述盖板上设置有用于对所述多个被测器件进行定位的定位机构。
4.如权利要求1所述的器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，所述推送机构与所述第二侧壁气密连接，具体为：所述推送机构与所述第二侧壁通过弹性金属簧片实现气密连接，所述弹性金属簧片与所述测试腔体的第二侧壁紧密压接。
5.如权利要求1所述的器件内部低含量气氛测试装置，其特征在于，所述推送机构为机械推送机构或电动推送机构，所述金属盖板为镀镍金属薄片。
6.如权利要求1所述的器...
【专利技术属性】
技术研发人员：桂明洋，安伟，迟雷，彭浩，马春利，周晓黎，陈龙坡，焦龙飞，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第十三研究所，
类型：发明
国别省市：
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