System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种偏光片保护膜用压敏粘合剂及其制备方法和偏光片保护膜技术_技高网

一种偏光片保护膜用压敏粘合剂及其制备方法和偏光片保护膜技术

技术编号:40077278 阅读:8 留言:0更新日期:2024-01-17 01:39
本发明专利技术公开了一种偏光片保护膜用压敏粘合剂及其制备方法和偏光片保护膜。所述压敏粘合剂由60~90重量份的丙烯酸酯树脂、10~30重量份的固化剂、0.05~1重量份的引发剂、0.05~0.5重量份的抗静电剂、0.5~10重量份的添加剂、30~60重量份的溶剂组成;所述丙烯酸酯树脂由丙烯酸酯硬单体、丙烯酸酯软单体、丙烯酸酯交联单体的组合物经自由基聚合得到。本发明专利技术提供的的偏光片保护膜适用于高雾度偏光片,偏光片保护膜的压敏粘合剂层能够与偏光片的高雾度表面处理层紧密贴合,使得保护膜表面经受重力后不会留下压痕/押迹等肉眼可见的异常外观现象,且具有优良的抗静电性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于薄膜,特别涉及一种偏光片保护膜用压敏粘合剂及制备方法和偏光片保护膜。


技术介绍

1、随着近代社会液晶电子显示技术的高速发展,液晶显示产品在人们的日常生活中变得不可或缺,其中偏光片作为液晶显示器不可缺少的零部件之一,在其中起到了不可或缺的作用。其中偏光片的组成结构中涉及到一层保护膜,其保护膜在偏光片的最表面起到保护作用,保护偏光片在后段的裁切加工工艺或出货运输途中,其关键偏光材料层不被破坏或损伤,但保护膜是通过与偏光片的最表面层进行贴合,而最表面层通常因客户需求或使用场所的不同而被要求具备不同的表面功能层,各功能层的表面处理层也有差异,比如抗眩低雾度层(anti-glare&low haze)、抗眩高雾度层(anti-glare&high haze)、抗反射层(anti-reflection)、低反射层(low-reflection)、抗刮层(hard coating)、抗污渍层(anti-smudge)等,同样的保护膜其压敏粘合剂层与偏光板上保护层的不同的表面处理层搭配贴合,其效果也不同,例如高雾度上保护层的表面处理层因其表面粒子粒径相对较大,粒子之间存在较小间距和微小峰谷的不平整,普通的保护膜压敏粘合剂无法与其完全紧密贴合,存在连续间距的缝隙,当存在重力按压后会发生压痕/押迹等肉眼可见的异常外观现象。

2、此外,在偏光片贴合到液晶显示器上后,从面板厂发货到终端客户后,组装成最终的显示器产品时,需从偏光片表面撕除保护膜,撕除的过程会产生静电,会使得光学组件上产生灰尘等的附着,更严重的,静电的产生会造成液晶显示装置电路的破环等,因此,现在的液晶显示器的终端客户都会要求偏光片厂使用具有降低撕除静电的抗静电型保护膜。


技术实现思路

1、本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术存在的不足之处,提供一种适用于高雾度偏光片的保护膜用压敏粘合剂及其制备方法和偏光片保护膜,偏光片保护膜的压敏粘合剂层能够与偏光片的高雾度表面处理层紧密贴合,使得保护膜表面经受重力后不会留下压痕/押迹等肉眼可见的异常外观现象,且具有优良的抗静电性能。

2、为实现上述目的,一方面,本专利技术提供了一种偏光片保护膜用压敏粘合剂,以重量份计,包括以下组分:

3、

4、所述丙烯酸酯树脂由丙烯酸酯硬单体、丙烯酸酯软单体、丙烯酸酯交联单体的组合物经自由基聚合得到;

5、作为本专利技术的进一步改进,所述硬单体为甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、苯乙烯、丙烯腈中的一种或任意组合,所述硬单体在丙烯酸酯树脂中是12~20重量份;

6、所述软单体为丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸-2-乙基己酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸正辛酯中的一种或任意组合,所述软单体在丙烯酸酯树脂中是33~50重量份;

7、所述交联单体为丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基丙酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酰胺中的一种或任意组合,所述交联单体在丙烯酸酯树脂中是15~20重量份。

8、作为本专利技术的进一步改进,所述固化剂为环氧类、氮丙啶类、异氰酸酯类、胺基类以及金属螯合物类的一种或多种的组合。

9、作为本专利技术的进一步改进,所述引发剂为有机过氧化物、无机过氧化物、偶氮类引发剂、氧化还原引发剂中的一种或多种的组合。

10、作为本专利技术的进一步改进,所述抗静电剂为表面活性剂类抗静电剂,包括抗静电剂sn、抗静电剂ls、抗静电剂609、抗静电剂hz-1、抗静电剂fc4400的一种或多种的组合。

11、作为本专利技术的进一步改进,所述添加剂为苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸月桂酯、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷的一种或多种的组合。

12、作为本专利技术的进一步改进,所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲醚乙酸酯的一种或多种的组合;或者为丙酮、丁酮、甲基异丁基酮的一种或多种的组合。

13、另一方面,本专利技术还提供一种偏光片保护膜用压敏粘合剂的制备方法,包括如下步骤:

14、(1)将丙烯酸酯树脂及引发剂混合均匀,得到第一混合液;

15、(2)将二分之一的溶剂加入到反应器中,升温至65℃,加入三分之一的所述第一混合液及添加剂到反应器中,反应30~35min,得到第二混合液;

16、(3)将固化剂加入所述第二混合液中,85℃下搅拌均匀,然后加入剩余的三分之二的第一混合液及二分之一的溶剂,反应1~2h,降温至50℃,加入抗静电剂,继续反应30min,得到所述压敏粘合剂。

17、此外,本专利技术还提供一种偏光片保护膜,包括基材层,以及设置于所述基材层一个表面上的压敏粘合剂层,所述压敏粘合剂层通过将上述的压敏粘合剂涂布于所述基材层制备得到。

18、作为本专利技术的进一步改进,所述压敏粘合剂层包括表面填补层及设置于所述表面填补层上的深入粘合层。

19、作为本专利技术的进一步改进,所述压敏粘合剂层的厚度为15~25um;所述表面填补层厚度为2~6um;所述深入粘合层厚度为13~20um。

20、作为本专利技术的进一步改进,所述压敏粘合剂层的厚度为15~22um;所述表面填补层厚度为2~4um;所述深入粘合层厚度为13~19um。

21、作为本专利技术的进一步改进,所述基材层上未设置压敏粘合剂的表面上设有防污抗静电层;所述压敏粘合剂层的表面上设置有剥离膜。

22、作为本专利技术的进一步改进,所述基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、定向拉伸聚丙烯、聚氯乙烯或芳香聚酯的材质中的一种或多种组成;所述基材层的厚度为30um~45um,优选为35~40um。

23、本专利技术的有益效果在于:

24、(1)本专利技术的偏光片保护膜适用于高雾度偏光片,相较于传统保护膜,通过在压敏粘合剂的丙烯酸酯树脂引入软单体和硬单体混合体系,使得到的压敏粘合剂层形成两层微结构,即表面填补层和深入粘合层,其中表面填补层能填补高雾度表涂粒子的凹凸不平,借此使凹凸的表面变为平坦,在此基础上,深入粘合层与偏光片的高雾度表面处理层进行深入粘合,保护膜压敏粘合剂层与被粘物表面处理层间的微小凹凸缝隙被填补,从而使得压敏粘合剂层能够与偏光片紧密贴合,且贴合后的偏光片当受到重力按压时,不会出现压痕/押迹等异常外观现象;

25、(2)本专利技术的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其压敏粘合剂层表面阻抗值在1010ω/口以下,撕膜时的撕膜静电压控制在-0.4kv~0.4kv范围内,具有抗静电作用;

26、(3)本专利技术的偏光片保护膜贴附偏光片的剥离力较优,低速(300mm/min)剥离力≤10gf/25mm,高速(30m/min)剥离力≤80gf/25mm;

27、(4)本专利技术的偏光片保护膜的压敏粘合剂层贴合在偏光片表面时,在高温及高温高湿条件下进行1000h的耐候性测试后,保护膜与偏光片层间贴合本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特性在于,以重量份计,包括以下组分:

2.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特性在于,所述硬单体为甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、苯乙烯、丙烯腈中的一种或任意组合,所述硬单体在丙烯酸酯树脂中是12~20重量份;

3.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述固化剂为环氧类、氮丙啶类、异氰酸酯类、胺基类以及金属螯合物类的一种或多种的组合。

4.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述引发剂为有机过氧化物、无机过氧化物、偶氮类引发剂、氧化还原引发剂中的一种或多种的组合。

5.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述抗静电剂为表面活性剂类抗静电剂,包括抗静电剂SN、抗静电剂LS、抗静电剂609、抗静电剂HZ-1、抗静电剂FC4400的一种或多种的组合。

6.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述添加剂为苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸月桂酯、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷的一种或多种的组合。

7.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲醚乙酸酯的一种或多种的组合;或者为丙酮、丁酮、甲基异丁基酮的一种或多种的组合。

8.根据权利要求1-7任一项所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

9.一种偏光片保护膜,其特征在于,包括基材层,以及设置于所述基材层一个表面上的压敏粘合剂层,所述压敏粘合剂层通过将权利要求1-6中任一项所述的压敏粘合剂涂布于所述基材层制备得到。

10.根据权利要求9所述的偏光片保护膜,其特征在于,所述压敏粘合剂层包括表面填补层及设置于所述表面填补层上的深入粘合层。

11.根据权利要求10所述的偏光片保护膜,其特征在于,所述压敏粘合剂层的厚度为15~25um;所述表面填补层厚度为2~6um;所述深入粘合层厚度为13~20um。

12.根据权利要求10所述的偏光片保护膜,其特征在于,所述压敏粘合剂层的厚度为15~22um;所述表面填补层厚度为2~4um;所述深入粘合层厚度为13~19um。

13.根据权利要求9所述的偏光片保护膜,其特征在于,所述基材层上未设置压敏粘合剂的表面上设有防污抗静电层;所述压敏粘合剂层的表面上设置有剥离膜。

14.根据权利要求9所述的偏光片保护膜,其特征在于,所述基材层为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、定向拉伸聚丙烯、聚氯乙烯或芳香聚酯的材质中的一种或多种组成;所述基材层的厚度为30um~45um。

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【技术特征摘要】

1.一种偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特性在于,以重量份计,包括以下组分:

2.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特性在于,所述硬单体为甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、苯乙烯、丙烯腈中的一种或任意组合,所述硬单体在丙烯酸酯树脂中是12~20重量份;

3.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述固化剂为环氧类、氮丙啶类、异氰酸酯类、胺基类以及金属螯合物类的一种或多种的组合。

4.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述引发剂为有机过氧化物、无机过氧化物、偶氮类引发剂、氧化还原引发剂中的一种或多种的组合。

5.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述抗静电剂为表面活性剂类抗静电剂,包括抗静电剂sn、抗静电剂ls、抗静电剂609、抗静电剂hz-1、抗静电剂fc4400的一种或多种的组合。

6.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述添加剂为苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸月桂酯、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷的一种或多种的组合。

7.根据权利要求1所述的偏光片保护膜用压敏粘合剂,其特征在于,所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲醚乙酸酯的一种或多种的组合;或者为丙酮、丁酮、甲基异丁基酮...

【专利技术属性】
技术研发人员:章娟严兵华张良宝陈俊宏黄源
申请(专利权)人:恒美光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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