【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及盖板行业的抛光设备，尤其涉及一种适用于四曲等高微晶盖板的大盘抛光设备。
技术介绍
1、大盘的抛光设备最初使用于抛2.5d的盖板，但随着玻璃盖板技术的发展，以及人们对触摸屏幕美观的要求提高，因此出现了3d的手机显示屏幕，盖板也因此出现3d的形态，随着人们对盖板耐摔和视觉的更高要求，四曲等高的微晶盖板也随之出现，此类型的盖板在进行热加工后需要进行表面抛光，去除表面的桔纹和划伤。
2、现有的四曲等高微晶盖板的设备抛光是使用略大于盖板宽度的毛刷，下压在盖板凹侧，治具和产品平行于毛刷进行一个公转抛光，由于产品是微晶材质，此材质表面硬度高于正常产品的10倍，且四曲等高短边和四个角的内r角很小，很难抛光到此位置，因此对应位置容易残留桔纹和产生pv值不良，为了解决此不良，急需要一种新式的抛光设备，来满足使用要求。
技术实现思路
1、为了解决或至少缓解上述技术问题，本专利技术提出了一种用于四曲等高微晶盖板的抛光设备，使得研磨件毛刷能研磨到产品的四角，使产品表面无桔纹不良和pv值不良的缺陷。
2、本专利技术的四曲等高微晶盖板抛光设备，包括：真空系统及研磨系统，所述真空系统用于提供负压，并通过负压将产品固定在治具表面；所述研磨系统包括治具以及位于治具上方的研磨件，其中，所述治具与所述研磨件在研磨时进行相对转动的同时，所述研磨件本身进行自转。
3、在一个实施方式中，所述治具与所述研磨件在研磨时进行间隙性正反相对转动的同时，所述研磨件本身进行间隙性自转。p>
4、在一个实施方式中，所述研磨系统包括气压传动装置、电机、研磨件转接板、研磨件及治具，其中，所述研磨件转接板能够在所述气压传动装置作用下向下运动，所述研磨件固定在所述研磨件转接板下方，所述研磨件与所述第一电机电连接，并在所述第一电机作用下发生自转运动，所述治具在第二电机的作用下沿抛光设备的中心做周向运动。
5、在一个实施方式中，所述真空系统包括：
6、负压泵，其用于产生负压，以将产品固定在治具表面；
7、负压真空腔体，其通过管道分别与所述负压泵及底板连接；以及
8、底板，其上设置有预留孔，以用于连接治具的吸附槽；
9、回流中心，底板中心内形成的腔体，其通过管道与所述负压真空腔体连接。
10、在一个实施方式中，所述抛光设备还包括抛光液循环系统，所述抛光液循环系统包括：
11、罐体桶，其用于容纳抛光液；
12、分流中心，其通过管道分别与罐体桶连接并将抛光液分流到产品表面；
13、回流槽，用于回收产品表面残留的抛光液，并通过回流管道与罐体桶相连通。
14、在一个实施方式中，所述抛光液循环系统还包括抛光液承接盘，所述抛光液承接盘通过管道与所述分流中心相连通，所述抛光液承接盘与相应的所述研磨件转接板固定连接，所述抛光液承接盘上设置有抛光液通过的通孔，所述抛光液承接盘的通孔与所述研磨件转接板上的通孔一一对应。
15、在一个实施方式中，所述抛光液承接盘通过分离式联轴器与第一电机连接。
16、在一个实施方式中，所述治具通过双排同心圆的方式安装在所述底板上，所述底板底部设置有第二电机，所述底板、治具及治具内产品在所述第二电机的作用下绕所述抛光设备的中心进行圆周运动。
17、在一个实施方式中，所述底板上设置有挡圩，所述挡圩的高度高于所述治具的高度，使得所述底板上的抛光液流入量大于流出量，以使产品浸泡在抛光液中。
18、在一个实施方式中，所述抛光液承接盘与所述研磨件转接板分别设置有多个，所述抛光液承接盘与所述研磨件转接板一一对应固定连接，多个抛光液承接盘及所述研磨件转接板沿所述抛光设备的周向均匀分布。
19、在一个实施方式中，所述底板设置有多个，所述底板与所述研磨件转接板一一对应，每个底板对应设置有一个挡圩，相邻挡圩之间设置有间隙，以允许抛光液经过。
20、在一个实施方式中，所述治具表面设置有吸附槽，所述吸附槽呈双王字形状。
21、在一个实施方式中，所述研磨件为毛刷，所述研磨件转接板下方均匀设置有一组毛刷，每块底板上对应设置有多个治具。
22、在一个实施方式中，所述抛光液循环系统还包括过滤器，所述过滤器与所述回流槽相连通，回流的抛光液经过过滤器过滤后回收到罐体桶。
23、在一个实施方式中，所述研磨件与所述研磨件转接板为可拆卸连接。
24、在一个实施方式中，所述抛光设备还包括骨架，所述骨架用于支撑所述抛光设备。
25、在一个实施方式中，所述毛刷与所述研磨件转接板通过魔术贴可拆卸连接。
26、在一个实施方式中，所述抛光液循环系统共包括12个抛光液承接盘，12个抛光液承接盘沿所述抛光设备的圆周均匀分布，12个抛光液承接盘与12个研磨件转接板一一对应固定连接，每个抛光液承接盘设置有2个通孔，所述抛光液承接盘的通孔与研磨件转接板上的通孔一一对应，每个研磨件转接板对应设置有一个研磨件，每个研磨件转接板下方对应设置有一块底板，每块底板上对应设置有8个治具，每个治具对应设置有一个产品。
27、在一个实施方式中，每个抛光液承接盘通过分离式联轴器对应与一个第一电机相连，多个底板沿所述抛光设备的周向均匀分布形成为底盘，所述底盘下设置有一个第二电机，所述底盘在所述第二电机的作用下带动治具及产品做圆周运动。
28、与现有技术相比，本专利技术的四曲等高微晶盖板抛光设备具备以下优点：
29、1.研磨件与治具产品在研磨时进行正反相对转动，研磨件本身同时进行自转，该研磨方式对四曲等高微晶盖板凹面的更有利，毛刷能够变形伸入到产品表面的四个死角，能研磨到产品的四个死角，使产品表面无桔纹不良和pv值不良，同时使产品加工效率增加50％；
30、2.产品在研磨过程中一直浸泡在抛光液中，不仅解决了无浸泡方式产生的干磨，也使产片表面研磨更均匀，减少产品表面划伤；
31、3.抛光方式由平行改为螺旋，在产品的短边抛光会更均匀，解决了产品桔纹和pv值不良，提高产品良率；
32、4.可以自动完成等比例下压，延长研磨件，如毛刷的使用寿命，降低产品的耗材成本，增加产品竞争力，同时使毛刷能够变形伸入到产品表面的四个死角，使研磨更均匀。
33、上述技术特征可以各种技术上可行的方式组合以产生新的实施方案，只要能够实现本专利技术的目的。
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1.一种四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，包括：真空系统及研磨系统，所述真空系统用于提供负压，并通过负压将产品固定在治具表面；所述研磨系统包括治具以及位于治具上方的研磨件，其中，所述治具与所述研磨件在研磨时进行相对转动的同时，所述研磨件本身进行自转。
2.根据权利要求1所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述治具与所述研磨件在研磨时进行间隙性正反相对转动的同时，所述研磨件本身进行间隙性自转。
3.根据权利要求2所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述研磨系统包括气压传动装置、电机、研磨件转接板、研磨件及治具，其中，所述研磨件转接板能够在所述气压传动装置作用下向下运动，所述研磨件固定在所述研磨件转接板下方，所述研磨件与第一电机电连接，并在所述第一电机作用下发生自转运动，所述治具在第二电机的作用下沿抛光设备的中心做周向运动。
4.根据权利要求3所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述真空系统包括：
5.根据权利要求4所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光设备还包括抛光液循环系统，所述抛光液循环系
6.根据权利要求5所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液循环系统还包括抛光液承接盘，所述抛光液承接盘通过管道与所述分流中心相连通，所述抛光液承接盘与相应的所述研磨件转接板固定连接，所述抛光液承接盘上均匀设置有抛光液通过的通孔，所述抛光液承接盘的通孔与所述研磨件转接板上的通孔一一对应。
7.根据权利要求6所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液承接盘通过分离式联轴器与第一电机连接。
8.根据权利要求7所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述治具通过双排同心圆的方式安装在所述底板上，所述底板底部设置有第二电机，所述底板、治具及治具内产品在所述第二电机的作用下绕所述抛光设备的中心进行圆周运动。
9.根据权利要求8所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述底板上设置有挡圩，所述挡圩的高度高于所述治具的高度，使得所述底板上的抛光液流入量大于流出量，以使产品浸泡在抛光液中。
10.根据权利要求9所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液承接盘与所述研磨件转接板分别设置有多个，所述抛光液承接盘与所述研磨件转接板一一对应固定连接，多个抛光液承接盘及所述研磨件转接板沿所述抛光设备的周向均匀分布。
11.根据权利要求10所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述底板设置有多个，所述底板与所述研磨件转接板一一对应，每个底板对应设置有一个挡圩，相邻挡圩之间设置有间隙，以允许抛光液经过。
12.根据权利要求8所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述治具表面设置有吸附槽，所述吸附槽呈双王字形状。
13.根据权利要求11所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述研磨件为毛刷，所述研磨件转接板下方均匀设置有一组毛刷，每块底板上对应设置有多个治具。
14.根据权利要求5所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液循环系统还包括过滤器，所述过滤器分别通过回流管道与所述回流槽及回流中心相连通，回流的抛光液经过过滤器过滤后回收到罐体桶。
15.根据权利要求13所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述研磨件与所述研磨件转接板为可拆卸连接。
16.根据权利要求2所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光设备还包括骨架，所述骨架用于支撑所述抛光设备。
17.根据权利要求15所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述毛刷与所述研磨件转接板通过魔术贴可拆卸连接。
18.根据权利要求11所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液循环系统共包括12个抛光液承接盘，12个抛光液承接盘沿所述抛光设备的圆周均匀分布，12个抛光液承接盘与12个研磨件转接板一一对应固定连接，每个抛光液承接盘设置有2个通孔，所述抛光液承接盘的通孔与研磨件转接板上的通孔一一对应，每个研磨件转接板对应设置有一个研磨件，每个研磨件转接板下方对应设置有一块底板，每块底板上对应设置有8个治具，每个治具对应设置有一个产品。
19.根据权利要求18所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，每个抛光液承接盘通过分离式联轴器对应与一个第一电机相连，多个底板沿所述抛光设备的周向均匀分布形成为底盘，所述底盘下设置有一个第二电机，所述底盘在所述第二电机的作用下带动治具及产品做圆周运动。
20.根据权利要求6所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特...
【技术特征摘要】
1.一种四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，包括：真空系统及研磨系统，所述真空系统用于提供负压，并通过负压将产品固定在治具表面；所述研磨系统包括治具以及位于治具上方的研磨件，其中，所述治具与所述研磨件在研磨时进行相对转动的同时，所述研磨件本身进行自转。
2.根据权利要求1所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述治具与所述研磨件在研磨时进行间隙性正反相对转动的同时，所述研磨件本身进行间隙性自转。
3.根据权利要求2所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述研磨系统包括气压传动装置、电机、研磨件转接板、研磨件及治具，其中，所述研磨件转接板能够在所述气压传动装置作用下向下运动，所述研磨件固定在所述研磨件转接板下方，所述研磨件与第一电机电连接，并在所述第一电机作用下发生自转运动，所述治具在第二电机的作用下沿抛光设备的中心做周向运动。
4.根据权利要求3所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述真空系统包括：
5.根据权利要求4所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光设备还包括抛光液循环系统，所述抛光液循环系统包括：
6.根据权利要求5所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液循环系统还包括抛光液承接盘，所述抛光液承接盘通过管道与所述分流中心相连通，所述抛光液承接盘与相应的所述研磨件转接板固定连接，所述抛光液承接盘上均匀设置有抛光液通过的通孔，所述抛光液承接盘的通孔与所述研磨件转接板上的通孔一一对应。
7.根据权利要求6所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液承接盘通过分离式联轴器与第一电机连接。
8.根据权利要求7所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述治具通过双排同心圆的方式安装在所述底板上，所述底板底部设置有第二电机，所述底板、治具及治具内产品在所述第二电机的作用下绕所述抛光设备的中心进行圆周运动。
9.根据权利要求8所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述底板上设置有挡圩，所述挡圩的高度高于所述治具的高度，使得所述底板上的抛光液流入量大于流出量，以使产品浸泡在抛光液中。
10.根据权利要求9所述的四曲等高微晶盖板抛光设备，其特征在于，所述抛光液承接盘与所述研磨件转接板分别设置有多个，所述抛光液承接盘与所述研...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈宁，肖子健，王孟杰，
申请(专利权)人：京东方杰恩特喜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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