【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于物理测量，涉及晶圆的检测，具体涉及一种晶圆检测定位机构及晶圆检测装置。
技术介绍
1、在半导体器件的制造过程中，晶圆要经过多个检测流程，在部分情形下，需要对晶圆的磁学性能进行检测。基于磁光克尔效应的磁性检测技术是通过向被测物发射一束偏振光并检测被测物反射的光的偏振态，对被测物的磁性进行检测的技术，能够对被测物进行无损检测，可以用于晶圆的检测当中。当偏振光汇聚于被测物上的一点时，能够对该点的磁性进行测量。在此基础上，进一步结合高精度位移台来移动样品，可以实现对样品不同位置的磁性测量，从而实现样品磁性的扫描或成像。在检测时，需要对晶圆进行定位，从而使检测结果与晶圆上的位置相匹配。由于晶圆上的待检测元器件的尺寸通常较小，因而在检测过程中，需要尽可能高精度地对晶圆进行定位。
2、在
技术介绍
部分中公开的上述信息仅仅用于增强对本专利技术背景的理解，因此可能包含不构成本领域普通技术人员公知的现有技术的信息。
技术实现思路
1、为了提供一种具有高精度的晶圆定位装置，本专利技术首先提供了一种晶圆检测定位机构，包括位移组件、晶圆承载组件、晶圆校准组件、支架组件，所述晶圆承载组件被构造成能够承载晶圆的形式，所述位移组件被构造成能够带动晶圆在检测工位和校准工位之间移动的形式，所述位移组件的底部与所述支架组件的底板连接，所述位移组件的顶部与晶圆承载组件连接，所述晶圆校准组件固定于所述支架组件，所述晶圆校准组件包括图像传感器，所述图像传感器被构造成能够对所述校准工位进行成像的形式；所
2、优选地，所述第一方向与所述第二方向垂直。
3、优选地，所述晶圆承载组件的承载有晶圆一侧设置有校准刻线。
4、优选地，所述图像传感器设置有两个，两个所述图像传感器间隔设置。
5、优选地，所述定位机构还包括视觉组件，所述视觉组件固定于所述支架组件并被构造成能够对所述晶圆承载组件的承载晶圆的一侧成像的形式，所述视觉组件、校准组件在所述第三方向上间隔设置。
6、优选地，所述定位机构还包括光路组件、视觉组件，所述视觉组件固定于所述支架组件并被构造成能够对所述晶圆承载组件的承载晶圆的一侧成像的形式，所述光路组件固定于所述支架组件并被构造成至少能够向所述晶圆承载组件的方向发出光束的形式，所述晶圆承载组件的承载晶圆一侧固定有能够响应于所述光路组件发出的光束的传感器。
7、本专利技术还提供了一种晶圆检测装置，包括前述的定位机构，以及光路组件、磁场发生组件，所述光路组件固定于所述支架组件，所述光路组件被构造成能够向所述检测工位发出偏振光束、能够接收所述晶圆承载组件所承载的晶圆反射的光并根据其偏振态输出相应信号的形式，所述磁场发生组件固定于所述支架组件，所述磁场发生组件被构造成能够在所述检测工位形成磁场的形式。
8、优选地，所述磁场发生组件包括正对设置的极头、套于所述极头的励磁线圈，所述极头靠近所述检测工位。
9、进一步优选地，所述极头沿平行于晶圆的方向相互正对。
10、进一步优选地，所述极头沿垂直于晶圆的方向相互正对；所述极头的其中之一设置有贯通的通孔，所述光路组件发出的光束、晶圆反射的光经所述通孔传播。
11、更进一步优选地，所述晶圆承载组件的承载晶圆的位置沿所述第三方向设置有容纳槽，所述容纳槽被构造成能够在所述晶圆承载组件沿所述第三方向移动时容纳所述极头的其中至少之一的形式。
12、优选地，所述光路组件包括偏振光发生部分、偏振检测部分，所述偏振光发生部分被构造成能够发出偏振光的形式，晶圆反射的光照射至所述偏振检测部分并被所述偏振检测部分接收，所述偏振检测部分被构造成能够根据接收到的光的偏振态输出相应信号的形式。
13、进一步优选地，所述偏振光发生部分包括光源、起偏器。
14、进一步优选地，所述偏振检测部分包括检偏器、光传感器。
15、进一步优选地，所述偏振检测部分包括沃拉斯顿棱镜、第一光传感器、第二光传感器。
16、本专利技术至少具有以下有益效果：本专利技术首先提供了一种晶圆检测定位机构及晶圆检测装置，通过位移组件使晶圆在检测工位与校准工位时处于不同的高度，使晶圆在校准工位时远离校准组件以获得更大视野，同时避免校准组件获取到的图像的畸变，从而减小校准误差；通过位移组件使晶圆能够在检测工位、校正工位之间移动的同时能够分别达到第一高度、第二高度，无需单独调整晶圆所在位置的高度，减少了晶圆移动结构并减少位移误差。本专利技术所提供的晶圆检测装置还能够实现对晶圆进行磁性检测。
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1.一种晶圆检测定位机构，其特征在于：包括位移组件、晶圆承载组件、晶圆校准组件、支架组件，所述晶圆承载组件被构造成能够承载晶圆的形式，所述位移组件被构造成能够带动晶圆在检测工位和校准工位之间移动的形式，所述位移组件的底部与所述支架组件的底板连接，所述位移组件的顶部与晶圆承载组件连接，所述晶圆校准组件固定于所述支架组件，所述晶圆校准组件包括图像传感器，所述图像传感器被构造成能够对所述校准工位进行成像的形式；
2.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述第一方向与所述第二方向垂直。
3.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述晶圆承载组件的承载有晶圆一侧设置有校准刻线。
4.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述图像传感器设置有两个，两个所述图像传感器间隔设置。
5.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述定位机构还包括视觉组件，所述视觉组件固定于所述支架组件并被构造成能够对所述晶圆承载组件的承载晶圆的一侧成像的形式，所述视觉组件、校准组件在所述第三方向上间隔设置。>
6.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述定位机构还包括光路组件、视觉组件，所述视觉组件固定于所述支架组件并被构造成能够对所述晶圆承载组件的承载晶圆的一侧成像的形式，所述光路组件固定于所述支架组件并被构造成至少能够向所述晶圆承载组件的方向发出光束的形式，所述晶圆承载组件的承载晶圆一侧固定有能够响应于所述光路组件发出的光束的传感器。
7.一种晶圆检测装置，其特征在于：包括如权利要求1所述的定位机构，以及光路组件、磁场发生组件，所述光路组件固定于所述支架组件，所述光路组件被构造成能够向所述检测工位发出偏振光束、能够接收所述晶圆承载组件所承载的晶圆反射的光并根据其偏振态输出相应信号的形式，所述磁场发生组件固定于所述支架组件，所述磁场发生组件被构造成能够在所述检测工位形成磁场的形式。
8.如权利要求7所述的一种晶圆检测装置，其特征在于：所述磁场发生组件包括正对设置的极头、套于所述极头的励磁线圈，所述极头靠近所述检测工位。
9.如权利要求8所述的一种晶圆检测装置，其特征在于：所述极头沿平行于晶圆的方向相互正对。
10.如权利要求8所述的一种晶圆检测装置，其特征在于：所述极头沿垂直于晶圆的方向相互正对；所述极头的其中之一设置有贯通的通孔，所述光路组件发出的光束、晶圆反射的光经所述通孔传播。
11.如权利要求10所述的一种晶圆检测装置，其特征在于：所述晶圆承载组件的承载晶圆的位置沿所述第三方向设置有容纳槽，所述容纳槽被构造成能够在所述晶圆承载组件沿所述第三方向移动时容纳所述极头的其中至少之一的形式。
12.如权利要求7所述的一种晶圆检测装置，其特征在于：所述光路组件包括偏振光发生部分、偏振检测部分，所述偏振光发生部分被构造成能够发出偏振光的形式，晶圆反射的光照射至所述偏振检测部分并被所述偏振检测部分接收，所述偏振检测部分被构造成能够根据接收到的光的偏振态输出相应信号的形式。
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆检测定位机构，其特征在于：包括位移组件、晶圆承载组件、晶圆校准组件、支架组件，所述晶圆承载组件被构造成能够承载晶圆的形式，所述位移组件被构造成能够带动晶圆在检测工位和校准工位之间移动的形式，所述位移组件的底部与所述支架组件的底板连接，所述位移组件的顶部与晶圆承载组件连接，所述晶圆校准组件固定于所述支架组件，所述晶圆校准组件包括图像传感器，所述图像传感器被构造成能够对所述校准工位进行成像的形式；
2.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述第一方向与所述第二方向垂直。
3.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述晶圆承载组件的承载有晶圆一侧设置有校准刻线。
4.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述图像传感器设置有两个，两个所述图像传感器间隔设置。
5.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述定位机构还包括视觉组件，所述视觉组件固定于所述支架组件并被构造成能够对所述晶圆承载组件的承载晶圆的一侧成像的形式，所述视觉组件、校准组件在所述第三方向上间隔设置。
6.如权利要求1所述的一种晶圆检测定位机构，其特征在于：所述定位机构还包括光路组件、视觉组件，所述视觉组件固定于所述支架组件并被构造成能够对所述晶圆承载组件的承载晶圆的一侧成像的形式，所述光路组件固定于所述支架组件并被构造成至少能够向所述晶圆承载组件的方向发出光束的形式，所述晶圆承载组件的承载晶圆一侧固定有能够响应于所述光路组件发出的光...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜洪磊，曹志强，张学莹，徐福鸿，史世伟，
申请(专利权)人：北京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：
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