pH感测探头和pH感测系统技术方案

技术编号:40023929 阅读:28 留言:0更新日期:2024-01-16 17:11
本技术涉及一种pH感测探头和pH感测系统。提供被配置为暴露于工艺流体的pH感测探头。pH感测探头包括传感器主体和安装到传感器主体的pH电极。初级参考电极安装到传感器主体,并且具有被配置为暴露于工艺流体的初级参考接头。次级参考电极安装到传感器主体,并且具有被配置为暴露于工艺流体的次级参考接头。密封件将次级参考接头与工艺流体隔离,直到初级参考接头劣化。还提供了pH感测系统和操作该pH感测系统的方法。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种ph感测探头和ph感测系统


技术介绍

1、ph定义为氢离子浓度的负对数。ph值在0至14范围内,小于7的ph值确认工艺中的酸性条件,而大于7的ph值确认碱性条件。盐酸(胃酸)和电池酸(硫酸)等典型强酸的ph值小于1,腐蚀性很强。同样,强碱(如苛性碱或漂白剂和排水管清洁剂)的ph值大于13,也具有很强的腐蚀性。纯水的ph值为7。

2、市售的ph传感器用于广泛的应用。一种应用是将饮用水中和到城市ph限值。这里,ph对于社区的安全和健康至关重要。碱碱洗涤器采用ph值控制来确定与有毒气体发生反应的碱液量,从而确定需要补充多少碱液。ph传感器还用于工业工艺的控制和监测。例如,已经表明在生物反应器中生产青霉素的最佳ph值介于6.8和7.8之间。因此,出于安全和效率的原因,ph测量的准确性在许多工艺中都至关重要。


技术实现思路

1、根据本技术的一个实施例提供了一种ph感测探头,被配置为暴露于工艺流体,,所述ph感测探头包括:传感器主体;ph电极,安装到所述传感器主体;初级参考电极,安装到所述传感器本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种pH感测探头,被配置为暴露于工艺流体,所述pH感测探头包括:

2.根据权利要求1所述的pH感测探头,还包括被配置为提供工艺流体温度指示的温度感测元件。

3.根据权利要求1所述的pH感测探头,其中,所述初级参考电极包括设置在围绕所述pH电极设置的圆的一部分内的初级参考电解质。

4.根据权利要求3所述的pH感测探头,其中,所述次级参考电极包括设置在围绕所述pH电极设置的圆的单独部分内的次级参考电解质,并且其中,所述初级参考电极和次级参考电极彼此隔离。

5.根据权利要求1所述的pH感测探头,其中,所述密封件包括密封地设置在所述次级参考接头...

【技术特征摘要】

1.一种ph感测探头,被配置为暴露于工艺流体,所述ph感测探头包括:

2.根据权利要求1所述的ph感测探头,还包括被配置为提供工艺流体温度指示的温度感测元件。

3.根据权利要求1所述的ph感测探头,其中,所述初级参考电极包括设置在围绕所述ph电极设置的圆的一部分内的初级参考电解质。

4.根据权利要求3所述的ph感测探头,其中,所述次级参考电极包括设置在围绕所述ph电极设置的圆的单独部分内的次级参考电解质,并且其中,所述初级参考电极和次级参考电极彼此隔离。

5.根据权利要求1所述的ph感测探头,其中,所述密封件包括密封地设置在所述次级参考接头上方的可移除盖。

6.根据权利要求1所述的ph感测探头,其中,所述密封件包括可旋转传感器盖,所述可旋转传感器盖具有第一位置和第二位置,在所述第一位置处,所述初级参考接头暴露于所述工艺流体,并且所述次级参考接头与工艺流体隔离,并且在所述第二位置处,所述次级参考接头暴露于所述工艺流体。

7.根据权利要求6所述的ph感测探头,其中,将所述可旋转传感器盖从所述第一位置移动到所述第二位置自动地将所述初级参考电极与传感器参考电极输出导体电解耦,并且自动地将所述次级参考电极耦接到所述传感器参考...

【专利技术属性】
技术研发人员:查鲁·L·潘迪泰瑞尔·L·鲁奇凯文·J·伊万卡史蒂文·J·麦考伊
申请(专利权)人:罗斯蒙特公司
类型:新型
国别省市:

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