【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于柔性薄膜新材料，具体地，涉及一种柔性显示用高阻隔膜制备方法。
技术介绍
1、水氧阻隔膜是oled(有机发光半导体)、qled（量子点发光半导体）、epd（电子纸）和opv（有机薄膜太阳能电池）柔性封装的核心材料，主要隔绝水汽和氧对有机发光材料、量子点、有机发光元件的破坏作用，是制约器件使用寿命的关键因素。可以起到非柔性器件玻璃封装同样的水氧隔绝效果。
2、目前，市场上绝大部分高效水氧阻隔膜采用的制备技术有蒸镀、溅射、化学沉积方式，其中蒸镀方式制备阻隔层的膜层致密度较差，阻隔性能较低，难以达到高效阻水要求；溅射方式的致密度略微低于化学气相沉积，镀膜前需要在基材上做一下平坦层，阻隔性能可以达到-10-2g/m2·24h级别；化学气相沉积方式的具备较高的致密度，沉积镀膜时也需要在基材上做一下平坦层，阻隔性能可以达到-10-3g/m2·24h级别，耐弯折性差，成本稍高。
3、目前，关于柔性显示用高阻隔膜，报道出来多采用溅射和化学气相沉积，这两种方式存在基材需要做平坦层等预涂方式，无疑增加了生产成本，兼具镀膜厚度大，柔韧性差缺点，另一方面，无论溅射和化学气相沉积，膜层致密度不是最好的，在阻隔性能方面，达不到极致阻隔性能。为提升有机发光显示产品更长的使用寿命，更高终端产品的柔性化，以及对保护材料更低的成本需求，需要开发一种阻隔性能更高，柔韧性更好，成本更低，生产更便捷工业化生产方法。
技术实现思路
1、为了解决
技术介绍
中提到的技术问题，本专利技术的目的在于
2、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
3、一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，包括如下步骤：
4、步骤s1、对阻隔膜基材进行热处理，直至td、md方向的收缩率均小于0.5%；
5、步骤s2、在阻隔膜基材一侧表面羟基化处理，之后送入ald沉积设备，真空环境下，惰性气体携带金属氧化物前驱体，与惰性气体携带的纯水反应交替生长金属氧化物薄膜，形成阻隔层；
6、步骤s3、将oca光学胶涂覆在阻隔膜基材另一侧表面，粘结带ag涂层的pet基材。
7、进一步地，所述阻隔膜基材为pet聚酯薄膜、pp聚丙烯薄膜或pi聚酰亚胺薄膜。
8、进一步地，步骤s2中电晕处理为电晕、预涂或等离子体处理。
9、进一步地，步骤s2中所述惰性气体为氮气、氩气或氦气。
10、进一步地，所述金属氧化物薄膜氧化镁，氧化锌，氧化锆，氧化钛，氧化锰，氧化铝，氧化铪，氧化铁和氧化钙中的一种或多种按任意比例堆叠而成。
11、进一步地，步骤s2中阻隔层折射率在1.60到1.8之间，控制阻隔层膜层整体厚度在10nm-100nm，镀膜成品的阻隔性能≤8e-3g/m2·24h，可见光透过率大于88%。
12、进一步地，步骤s3中所述oca光学胶的uv截止要求在280-380nm波长，平均透过截止率小于1%，对阻隔膜基材的粘结强度≥1.2kg/2.5cm。
13、进一步地，步骤s3中所述带ag涂层的pet基材一侧表面粘结有ag涂层，另一侧表面通过oca光学胶与阻隔膜基材粘结。
14、进一步地，所述带ag涂层的pet基材厚度为50-180μm，ag涂层厚度为2-20μm，表面硬度＞3h，雾度要求在2-20。
15、本专利技术的有益效果：
16、鉴于ald技术的镀膜全覆盖特点，在基材无需平坦化层，工艺上制程简洁，成本相对其他方法更低。以及膜层全覆盖和致密性更强特点，阻隔性能更为优异。膜层厚度可以较薄，其耐弯折性能更好。在阻隔膜基材上复合uv截止的oca胶，以及复合抗眩光和耐摩擦的ag pet。综合这些特点，产品足以满足oled(有机发光半导体)、qled（量子点发光半导体）和epd（电子纸）等柔性封装要求。
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1.一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述阻隔膜基材为PET聚酯薄膜、PP聚丙烯薄膜或PI聚酰亚胺薄膜。
3.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤S2中电晕处理为电晕、预涂或等离子体处理。
4.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤S2中所述惰性气体为氮气、氩气或氦气。
5.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述金属氧化物薄膜氧化镁，氧化锌，氧化锆，氧化钛，氧化锰，氧化铝，氧化铪，氧化铁和氧化钙中的一种或多种按任意比例堆叠而成。
6.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤S2中阻隔层折射率在1.60到1.8之间，控制阻隔层膜层整体厚度在10nm-100nm，镀膜成品的阻隔性能≤8E-3g/m2·24h，可见光透过率大于88%。
7.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步
8.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤S3中所述带AG涂层的PET基材一侧表面粘结有AG涂层，另一侧表面通过OCA光学胶与阻隔膜基材粘结。
9.根据权利要求8所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述带AG涂层的PET基材厚度为50-180μm，AG涂层厚度为2-20μm，表面硬度＞3H，雾度要求在2-20。
...【技术特征摘要】
1.一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述阻隔膜基材为pet聚酯薄膜、pp聚丙烯薄膜或pi聚酰亚胺薄膜。
3.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s2中电晕处理为电晕、预涂或等离子体处理。
4.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s2中所述惰性气体为氮气、氩气或氦气。
5.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，所述金属氧化物薄膜氧化镁，氧化锌，氧化锆，氧化钛，氧化锰，氧化铝，氧化铪，氧化铁和氧化钙中的一种或多种按任意比例堆叠而成。
6.根据权利要求1所述的一种柔性显示用高阻隔膜制备方法，其特征在于，步骤s2...
【专利技术属性】
技术研发人员：辜勇，方元，邹云，
申请(专利权)人：江苏思尔德科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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