【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于荧光检测探头，具体涉及到一种基于荧光响应的用于测量β、γ辐射剂量的探头及其制备方法。
技术介绍
1、射线是一种高能辐射，包括α粒子、β粒子和γ射线，在射线的辐照环境下，物质会发生电离效应或引起物质反光的现象，为了定量检测射线的强度，常用的检测仪器主要包括由可以发生电离的气体或固体、光电倍增管和电子仪器组成的设备。
2、探测器材料的研究也是探头研究的重要组成部分，目前，闪烁体材料、气体探测器和半导体材料等都被广泛应用于辐射测量，并不断进行优化和改进。β粒子是高速带电粒子，γ射线是电磁波，它们与探测器材料发生相互作用，产生电离效应或能量沉积。通过测量探测器所产生的电荷或光信号的特性和数量，可以推导出辐射剂量的大小。
3、现有技术中，由于不同探测器材料对β、γ辐射的响应特性不同，探头在测量范围和能量响应方面仍然存在限制，无法满足广泛的辐射测量需求。
技术实现思路
1、本部分的目的在于概述本专利技术的实施例的一些方面以及简要介绍一些较佳实施例。在本部分以及本申...
【技术保护点】
1.一种基于荧光响应的的用于检测β、γ辐射剂量的探头，其特征在于：所述探头为多级结构，包括，
2.如权利要求1所述的基于荧光响应的用于β、γ辐射剂量测量的探头，其特征在于：所述光化区(100)以及屏蔽层(300)的数量均设置为两个。
3.如权利要求2所述的基于荧光响应用于β、γ辐射剂量测量的探头的用于β、γ辐射剂量测量的探头，其特征在于：所述显色区(200)设置于所述两个光化区(100)之间，所述两个光化区(100)的外侧分别贴合于所述两个屏蔽层(300)的内侧，且所述屏蔽层(300)的外径大于光化区(100)的外径。
4.如权利要...
【技术特征摘要】
1.一种基于荧光响应的的用于检测β、γ辐射剂量的探头，其特征在于：所述探头为多级结构，包括，
2.如权利要求1所述的基于荧光响应的用于β、γ辐射剂量测量的探头，其特征在于：所述光化区(100)以及屏蔽层(300)的数量均设置为两个。
3.如权利要求2所述的基于荧光响应用于β、γ辐射剂量测量的探头的用于β、γ辐射剂量测量的探头，其特征在于：所述显色区(200)设置于所述两个光化区(100)之间，所述两个光化区(100)的外侧分别贴合于所述两个屏蔽层(300)的内侧，且所述屏蔽层(300)的外径大于光化区(100)的外径。
4.如权利要求3所述的基于荧光响应的用于β、γ辐射剂量测量的探头，其特征在于：所述屏蔽层(300)的材料为防酸性物质渗透的材料，包括表面溅射有α-氧化铝的聚乙烯材料。
5.如权利要求3所述的基于荧光响应的用于β、γ辐射剂量测量的探头，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：游苏塬，杨爱香，刘泽涛，罗恩康，李婧婷，
申请(专利权)人：兰州大学，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。