一种全自动清洗晶圆的装置制造方法及图纸

技术编号:39997205 阅读:27 留言:0更新日期:2024-01-09 02:53
本技术公开了一种全自动清洗晶圆的装置,包括清洗箱,其特征在于,所述清洗箱的两端分别设有进料口和出料口,所述清洗箱内沿进料口至出料口方向依次设有若干组PVA滚刷装置和若干组烘干装置,且所述清洗箱上端前部设有若干组喷淋机构。本技术与现有技术相比的优点在于:本申请主要解决的技术问题是采用主动直齿轮以及从动直齿轮同步反向的驱动方式带动PVA滚刷、滚轮的转动从而实现晶圆的全自动匀速清洗与烘干,避免了人工操作的不确定性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体加工,具体是指一种全自动清洗晶圆的装置


技术介绍

1、在如今的半导体清洗制程中,脱胶后晶圆清洗是半自动化生产,需要人工干预进行上下料,不确定性因素高,不利于清洗机的自动控制化生产。因此对现有的晶圆清洗装置予以改进,以解决上述问题。


技术实现思路

1、本技术要解决的技术问题是克服以上的技术缺陷,提供一种全自动清洗晶圆的装置。

2、为解决上述技术问题,本技术提供的技术方案为:一种全自动清洗晶圆的装置,包括清洗箱,所述清洗箱的两端分别设有进料口和出料口,所述清洗箱内沿进料口至出料口方向依次设有若干组pva滚刷装置和若干组烘干装置,且所述清洗箱上端前部设有若干组喷淋机构;

3、所述pva滚刷装置包括两个上下设置的pva滚刷,上下设置的两个pva滚刷之间形成第一传料通道,所述pva滚刷的两端分别通过第一转轴和第二转轴与清洗箱侧壁转动连接;

4、所述烘干装置包括两个上下设置的气管且气管上设有若干热气孔,上下设置的两个气管之间形成与第一传料通道等高的第二传料通道,靠近所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种全自动清洗晶圆的装置,包括清洗箱(1),其特征在于,所述清洗箱(1)的两端分别设有进料口和出料口,所述清洗箱(1)内沿进料口至出料口方向依次设有若干组PVA滚刷装置(2)和若干组烘干装置(4),且所述清洗箱(1)上端前部设有若干组喷淋机构(3);

2.根据权利要求1所述的一种全自动清洗晶圆的装置,其特征在于,所述驱动装置(5)包括伺服电机(55),所述伺服电机(55)的输出轴设有减速机(54),所述减速机(54)的输出轴设有主动锥齿轮(56),所述清洗箱(1)的外侧通过安装座转动设有齿轮转轴(53),所述齿轮转轴(53)上设有若干从动锥齿轮(52),其中一个所述从动锥...

【技术特征摘要】

1.一种全自动清洗晶圆的装置,包括清洗箱(1),其特征在于,所述清洗箱(1)的两端分别设有进料口和出料口,所述清洗箱(1)内沿进料口至出料口方向依次设有若干组pva滚刷装置(2)和若干组烘干装置(4),且所述清洗箱(1)上端前部设有若干组喷淋机构(3);

2.根据权利要求1所述的一种全自动清洗晶圆的装置,其特征在于,所述驱动装置(5)包括伺服电机(55),所述伺服电机(55)的输出轴设有减速机(54),所述减速机(54)的输出轴设有主动锥齿轮(56),所述清洗箱(1)的外侧通过安装座转动设有齿轮转轴(53),所述齿轮转轴(53)上设有若干从动锥齿轮(52),其中一个所述从动锥齿轮(52)与主动锥齿...

【专利技术属性】
技术研发人员:李天兵贾世杰彭洁魏守冲
申请(专利权)人:磐石创新江苏电子装备有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1