【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体设备制备,具体涉及一种涂布机供液系统。
技术介绍
1、当前原液进入涂布机管路的时候容易夹带气泡,会导致涂布过程中的涂布工艺不良率增加。
2、现有技术一般采用通过设置缓冲罐消除气泡进行供液的技术方案,然而一个缓冲罐可能无法完全消除气泡,倘若将未消泡彻底的原液输入涂布刀,会影响涂布效果;倘若继续消泡,又会影响供液的稳定性,使得涂布间断。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种涂布机供液系统,通过设置两个缓冲罐,实现了涂布机供液系统的不间断供液,兼顾了供液的稳定性和涂布的效果。
2、为了解决上述技术问题,本技术提供了一种涂布机供液系统,包括:
3、第一缓冲罐、第二缓冲罐、第一检测机构、第二检测机构,以及分别与第一缓冲罐、第二缓冲罐连接的药液处理机构;所述第一检测机构适于检测第一缓冲罐的进液口;所述第二检测机构适于检测第二缓冲罐的进液口;在任一缓冲罐的进液口检测到气泡时,切换另一缓冲罐工作,以使流经药液处理机构的涂布液继续供给到涂布刀。
4、进一步,所述第一缓冲罐、第二缓冲罐分别连接一原液供液罐。
5、进一步,所述第一检测机构包括:设置在第一缓冲罐进液口处的第一进液气泡传感器、第一进液气控阀。
6、进一步,所述第一检测机构还包括:设置在第一缓冲罐排液口处的第一排液气泡传感器、第一排液气控阀。
7、进一步,所述第二检测机构包括:设置在第二缓冲罐进液口处的第二进液气泡传感器、第二进液气控阀。<
...【技术保护点】
1.一种涂布机供液系统,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
3.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
4.如权利要求3所述的涂布机供液系统,其特征在于,
5.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
6.如权利要求5所述的涂布机供液系统,其特征在于,
7.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
8.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
9.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
10.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
【技术特征摘要】
1.一种涂布机供液系统,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
3.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
4.如权利要求3所述的涂布机供液系统,其特征在于,
5.如权利要求1所述的涂布机供液系统,其特征在于,
【专利技术属性】
技术研发人员:左国军,磨建新,金基德,李京哲,
申请(专利权)人:常州捷佳创精密机械有限公司,
类型:新型
国别省市:
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