【技术实现步骤摘要】
一个或多个实施方式涉及用于制造显示设备的装置、掩模组件和制造显示设备的方法。
技术介绍
1、近来，电子设备已经被广泛使用。电子设备已经被不同地用作移动电子设备和固定电子设备。这种电子设备包括显示设备，该显示设备向用户提供视觉信息(诸如图像或视频)以支持各种功能。
2、显示设备可视地显示数据，并且通过沉积各种层(诸如有机层、金属层等)形成。为了形成显示设备的层，可以对沉积材料进行沉积。当沉积材料从沉积源喷出时，沉积材料通过掩模组件沉积在衬底上。在掩模片和屏蔽棒之间发生干扰现象的情况下，沉积材料不沉积在衬底上的所需位置处，致使降低了沉积质量。
技术实现思路
1、实施方式提供了用于制造显示设备的装置、掩模组件以及制造该显示设备的方法，该装置可以通过防止掩模片和屏蔽棒之间的干扰现象来改善沉积材料的沉积质量。
2、然而，本公开的实施方式不限于本文中阐述的那些实施方式。通过参考下面给出的本公开的详细描述，以上和其它实施方式将对本公开所属领域的普通技术人员变得更加明显。
3、根据一个或多个实施方式，用于制造显示设备的装置可以包括：腔室；掩模组件，设置在腔室中并且面向显示衬底；以及沉积源，设置在腔室中并且面向掩模组件，沉积源供应沉积材料，使得沉积材料穿过掩模组件并且沉积在显示衬底上。掩模组件可以包括：掩模框架，包括开口区域；至少一个屏蔽棒，跨开口区域在张紧状态下固定在掩模框架上；以及多个掩模片，覆盖开口区域的至少部分并且至少部分地与至少一个屏蔽棒重叠。至少一个屏
4、在实施方式中，屏蔽棒槽可以设置在掩模框架中并且可以容纳至少一个屏蔽棒的端部分。
5、在实施方式中，在至少一个屏蔽棒容纳在屏蔽棒槽中的情况下，第一屏蔽构件可以固定在掩模框架上。
6、在实施方式中，在至少一个屏蔽棒容纳在屏蔽棒槽中的情况下，第二屏蔽构件和第三屏蔽构件可以固定在掩模框架上。
7、在实施方式中，至少一个屏蔽棒可以包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
8、在实施方式中，至少一个屏蔽棒还可以包括：第四屏蔽构件，至少部分地与第三屏蔽构件重叠，设置在第三屏蔽构件下方，并且相比于第三屏蔽构件靠近沉积源，第四屏蔽构件更靠近沉积源；以及第五屏蔽构件，至少部分地与第四屏蔽构件重叠，设置在第四屏蔽构件上方，并且相比于第四屏蔽构件靠近掩模片，第五屏蔽构件更靠近掩模片。
9、根据一个或多个实施方式，掩模组件可以包括：掩模框架，包括开口区域；至少一个屏蔽棒，跨开口区域在张紧状态下固定在掩模框架上；以及多个掩模片，覆盖开口区域的至少部分并且至少部分地与至少一个屏蔽棒重叠，其中，至少一个屏蔽棒可以包括三个或更多个屏蔽构件，三个或更多个屏蔽构件中的两个屏蔽构件可以彼此相邻并且可以至少部分地彼此重叠，以及三个或更多个屏蔽构件中的至少一个可以设置在彼此相邻的两个屏蔽构件下方。
10、在实施方式中，屏蔽棒槽可以设置在掩模框架中并且可以容纳至少一个屏蔽棒的端部分。
11、在实施方式中，在至少一个屏蔽棒容纳在屏蔽棒槽中的情况下，三个或更多个屏蔽构件中的至少一个可以固定在掩模框架上。
12、在实施方式中，在至少一个屏蔽棒容纳在屏蔽棒槽中的情况下，三个或更多个屏蔽构件可以固定在掩模框架上。
13、在实施方式中，至少一个屏蔽棒可以包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
14、根据一个或多个实施方式，制造显示设备的方法可以包括：将显示衬底和掩模组件设置在腔室中；在显示衬底上沉积沉积材料，沉积材料从沉积源供应以穿过掩模组件；以及清洁掩模组件，其中，掩模组件可以包括：掩模框架，包括开口区域；至少一个屏蔽棒，跨掩模框架的开口区域在张紧状态下固定在掩模框架上；以及多个掩模片，覆盖掩模框架的开口区域的至少部分并且至少部分地与至少一个屏蔽棒重叠，其中，至少一个屏蔽棒可以包括：第一屏蔽构件；第二屏蔽构件，至少部分地与第一屏蔽构件重叠；以及第三屏蔽构件，至少部分地与第一屏蔽构件重叠，以及其中，第二屏蔽构件和第三屏蔽构件可以设置在第一屏蔽构件上方，并且相比于第一屏蔽构件靠近掩模片，第二屏蔽构件和第三屏蔽构件可以更靠近掩模片。
15、在实施方式中，作为屏蔽棒的因在清洁掩模组件时的温差而变形的长度与在设置显示衬底和掩模组件时张紧的屏蔽棒的长度的比率的应变可以是约0％或更大并且约0.03％或更小。
16、在实施方式中，可以确定至少一个屏蔽棒的宽度，使得至少一个屏蔽棒的应变是约0％或更大并且约0.03％或更小。
17、在实施方式中，在至少一个屏蔽棒固定在掩模框架上之前，确定至少一个屏蔽棒的张紧程度，使得至少一个屏蔽棒的应变可以是约0％或更大并且约0.03％或更小。
18、在实施方式中，屏蔽棒槽可以设置在掩模框架中并且可以容纳至少一个屏蔽棒的端部分。
19、在实施方式中，在至少一个屏蔽棒容纳在屏蔽棒槽中的情况下，第一屏蔽构件可以固定在掩模框架上。
20、在实施方式中，在至少一个屏蔽棒容纳在屏蔽棒槽中的情况下，第二屏蔽构件和第三屏蔽构件可以固定在掩模框架上。
21、在实施方式中，至少一个屏蔽棒可以包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
22、在实施方式中，至少一个屏蔽棒还可以包括：第四屏蔽构件，至少部分地与第三屏蔽构件重叠，设置在第三屏蔽构件下方，并且相比于第三屏蔽构件靠近沉积源，第四屏蔽构件更靠近沉积源；以及第五屏蔽构件，至少部分地与第四屏蔽构件重叠，设置在第四屏蔽构件上方，并且相比于第四屏蔽构件靠近掩模片，第五屏蔽构件更靠近掩模片。
23、根据本公开的以下附图、权利要求书和详细描述，以上描述的方面、特征和优点之外的其它方面、特征和优点将变得显而易见。
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1.一种用于制造显示设备的装置，所述装置包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，屏蔽棒槽设置在所述掩模框架中并且容纳所述至少一个屏蔽棒的端部分。
3.根据权利要求2所述的装置，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述第一屏蔽构件固定在所述掩模框架上。
4.根据权利要求3所述的装置，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述第二屏蔽构件和所述第三屏蔽构件固定在所述掩模框架上。
5.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个屏蔽棒包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个屏蔽棒还包括：
7.一种掩模组件，包括：
8.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，屏蔽棒槽设置在所述掩模框架中并且容纳所述至少一个屏蔽棒的端部分。
9.根据权利要求8所述的掩模组件，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述三个或更多个屏蔽构件中的所述至少一个固定在所述掩模框架上。
10.根据权利要求9所
11.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，所述至少一个屏蔽棒包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
12.一种制造显示设备的方法，所述方法包括：
13.根据权利要求12所述的方法，其中，作为所述屏蔽棒因在清洁所述掩模组件时的温差而变形的长度与在设置所述显示衬底和所述掩模组件时张紧的所述屏蔽棒的长度的比率的应变是0％或更大并且0.03％或更小。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，确定所述至少一个屏蔽棒的宽度，使得所述至少一个屏蔽棒的所述应变是0％或更大并且0.03％或更小。
15.根据权利要求13所述的方法，其中，在所述至少一个屏蔽棒固定在所述掩模框架上之前，确定所述至少一个屏蔽棒的张紧程度，使得所述至少一个屏蔽棒的所述应变是0％或更大并且0.03％或更小。
16.根据权利要求12所述的方法，其中，屏蔽棒槽设置在所述掩模框架中并且容纳所述至少一个屏蔽棒的端部分。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述第一屏蔽构件固定在所述掩模框架上。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述第二屏蔽构件和所述第三屏蔽构件固定在所述掩模框架上。
19.根据权利要求12所述的方法，其中，所述至少一个屏蔽棒包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
20.根据权利要求12所述的方法，其中，所述至少一个屏蔽棒还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种用于制造显示设备的装置，所述装置包括：
2.根据权利要求1所述的装置，其中，屏蔽棒槽设置在所述掩模框架中并且容纳所述至少一个屏蔽棒的端部分。
3.根据权利要求2所述的装置，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述第一屏蔽构件固定在所述掩模框架上。
4.根据权利要求3所述的装置，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述第二屏蔽构件和所述第三屏蔽构件固定在所述掩模框架上。
5.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个屏蔽棒包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述至少一个屏蔽棒还包括：
7.一种掩模组件，包括：
8.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，屏蔽棒槽设置在所述掩模框架中并且容纳所述至少一个屏蔽棒的端部分。
9.根据权利要求8所述的掩模组件，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述三个或更多个屏蔽构件中的所述至少一个固定在所述掩模框架上。
10.根据权利要求9所述的掩模组件，其中，在所述至少一个屏蔽棒容纳在所述屏蔽棒槽中的情况下，所述三个或更多个屏蔽构件固定在所述掩模框架上。
11.根据权利要求7所述的掩模组件，其中，所述至少一个屏蔽棒包括不锈钢材料和因瓦材料中的至少一种。
【专利技术属性】
技术研发人员：郑茶姬，朴相河，宋昇勇，赵恩翡，崔玲硕，黄圭焕，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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