清洗笼制造技术

本发明专利技术防止清洗工序中的多晶硅的污染。清洗笼(1)是在收容有多晶硅的状态下用于多晶硅的清洗的清洗笼(1)，具备多个由树脂构成的构成部件(10)，多个构成部件(10)分别通过旋入由树脂构成的螺钉(N)而相互结合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及清洗多晶硅时使用的清洗笼。

技术介绍

1、硅半导体原料、太阳电池原料等所使用的多晶硅要求是高纯度，所以制造工序包含除去附着于多晶硅的污染物质等的清洗工序。在清洗工序中，在将多晶硅收容于专用的清洗笼的状态下进行蚀刻清洗以及纯水清洗。作为在清洗该多晶硅时使用的清洗笼，例如，专利文献1中公开了由树脂板形成为箱状，收容多晶硅的清洗笼。

2、另外，在专利文献2示出了将多晶硅收容于树脂制的清洗笼实施了蚀刻清洗的情况下，在清洗后的多晶硅的表面产生由起因于清洗笼的有机成分、碳引起的污染。并且，在专利文献2的段落0039～0041中，记载了与清洗笼是新品的情况相比，反复进行多次蚀刻清洗而树脂劣化的情况下，来自该清洗笼的树脂的污染更剧烈。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2011－68554号公报

6、专利文献2：日本特开2020－128332号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的问题

2、在专利文献1所公开的清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洗笼，其特征在于，所述清洗笼是在收容有多晶硅的状态下用于所述多晶硅的清洗的清洗笼，

2.根据权利要求1所述的清洗笼，其特征在于，所述构成部件以及所述螺钉分别由氟树脂构成。

3.根据权利要求1或者2所述的清洗笼，其特征在于，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种清洗笼，其特征在于，所述清洗笼是在收容有多晶硅的状态下用于所述多晶硅的清洗的清洗笼，

2.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：市坪昂树，
申请(专利权)人：株式会社德山，
类型：发明
国别省市：