【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及计算机光刻，特别涉及一种版图检测方法、电子设备及存储介质。
技术介绍
0、
技术介绍
1、在半导体先进制造领域中，随着芯片特征尺寸的进一步缩小，对光刻机分辨率的要求越来越高，目前，1.35na的193nm浸没式光刻机能够提供36-40nm的分辨率，可以满足28nm逻辑技术节点的要求。但对于更小尺寸的芯片，就需要采用双重曝光技术(doublepatterning technology，简称dpt)，将原始光刻图形拆分为两个或多个掩模，利用多次曝光和刻蚀来实现原始设计的图形。
2、然而，在双重曝光技术的拆解中，不可避免地会遇见“奇数环问题”，即无法将掩膜图形无冲突的分配到两张版图中。对于有图形冲突的设计版图，通常，需要将设计版图中的奇数环问题报告给设计人员，便于版图设计人员进行修改调试，以便在设计端解决问题。但是，在一张完整的设计版图中要准确的识别出存在的奇数环是一个np-complete问题，其庞大的计算量非常耗费计算机的运行时间和内存。
技术实现思路
...【技术保护点】
1.一种版图检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于，图形冲突检测包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的版图检测方法，其特征在于，构建冲突关系图包括以下步骤：
4.如权利要求3所述的版图检测方法，其特征在于：构建冲突关系图后对所述冲突关系图进行点简化和点双连通简化。
5.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点简化包括以下步骤：
6.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点双连通简化包括以下步骤：
7.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在...
【技术特征摘要】
1.一种版图检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于，图形冲突检测包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的版图检测方法，其特征在于，构建冲突关系图包括以下步骤：
4.如权利要求3所述的版图检测方法，其特征在于：构建冲突关系图后对所述冲突关系图进行点简化和点双连通简化。
5.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点简化包括以下步骤：
6.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点双连通简化包括以下步骤：
7.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于：寻找最小基础环组合包括以下步骤...
【专利技术属性】
技术研发人员：王焕明，阮文胜，丁明，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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