【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及计算机光刻，特别涉及一种版图检测方法、电子设备及存储介质。
技术介绍
0、
技术介绍
1、在半导体先进制造领域中，随着芯片特征尺寸的进一步缩小，对光刻机分辨率的要求越来越高，目前，1.35na的193nm浸没式光刻机能够提供36-40nm的分辨率，可以满足28nm逻辑技术节点的要求。但对于更小尺寸的芯片，就需要采用双重曝光技术(doublepatterning technology，简称dpt)，将原始光刻图形拆分为两个或多个掩模，利用多次曝光和刻蚀来实现原始设计的图形。
2、然而，在双重曝光技术的拆解中，不可避免地会遇见“奇数环问题”，即无法将掩膜图形无冲突的分配到两张版图中。对于有图形冲突的设计版图，通常，需要将设计版图中的奇数环问题报告给设计人员，便于版图设计人员进行修改调试，以便在设计端解决问题。但是，在一张完整的设计版图中要准确的识别出存在的奇数环是一个np-complete问题，其庞大的计算量非常耗费计算机的运行时间和内存。
技术实现思路
0、
技术实现思路
1、为了解决现有设计版图奇数环识别运算效率低的问题，本专利技术提供一种版图检测方法、电子设备及存储介质。
2、本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种版图检测方法，包括以下步骤：获取版图图形信息；基于图形信息进行图形冲突检测；基于图形冲突检测结果构建冲突关系图；基于冲突关系图寻找最小基础环组合；找到最小基础环组合中的奇数环并输出其图
3、优选地，图形冲突检测包括以下步骤：在版图图形周围设置规则检测区域；获取规则检测区域与相邻图形的位置信息；判断规则检测区域与相邻图形是否相交；若规则检测区域与相邻图形相交，则规则检测区域对应的图形与其相邻图形存在冲突关系。
4、优选地，构建冲突关系图包括以下步骤：将版图中的图形简化为点，并保留点的位置信息；将存在冲突关系的图形简化的点用边连接，得到冲突关系图。
5、优选地，构建冲突关系图后对所述冲突关系图进行点简化和点双连通简化。
6、优选地，点简化包括以下步骤：获取冲突关系图上各点上连接的边的数量；将连接的边的数量小于2的点及其边删除，获得冲突关系简化图。
7、优选地，点双连通简化包括以下步骤：基于冲突关系简化图判断图中是否存在割点；若存在割点，则通过割点将冲突关系简化图分割，获得多个双连通分量。
8、优选地，寻找最小基础环组合包括以下步骤：获取双连通分量上任一外轮廓点；以所述外轮廓点为起点沿边的方向向外遍历至回到起点，获得外轮廓环；基于所述外轮廓环获取任一外轮廓边；以所述外轮廓边为起点沿边的方向向内遍历至回到起点，获得基础环；若存在未遍历过的外轮廓边，以未遍历过的外轮廓边为起点，沿边的方向向内遍历至回到起点，获得其余基础环，直到所有外轮廓边均被遍历过。
9、优选地，外轮廓环遍历过程中，若遇到多边节点，选择靠近环外部的边前进；基础环遍历过程中，若遇到多边节点，选择靠近环内部的边前进。
10、优选地，找到奇数环并输出其图形信息包括以下步骤：获取所有基础环上点的数量；筛选出点数为奇数的基础环，定义为奇数环；还原筛选出的奇数环的图形信息，并输出所述图形信息。
11、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行上述计算机程序以实现如上任一项所述的版图检测方法的步骤。
12、本专利技术为解决上述技术问题，还提供一技术方案如下：一种存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上任一项所述的版图检测方法的步骤。
13、与现有技术相比，本专利技术所提供的一种版图检测方法及电子设备，具有如下的有益效果：
14、1.本专利技术实施例提供的一种版图检测方法，包括以下步骤：获取版图图形信息；基于图形信息进行图形冲突检测；基于图形冲突检测结果构建冲突关系图；基于冲突关系图寻找最小基础环组合；找到最小基础环组合中的奇数环并输出其图形信息。
15、可以理解地，本专利技术通过获取版图上的图形信息，基于图形的位置信息和图形之间的冲突关系构建出冲突关系图，再从冲突关系图的最小基础环组合中找出奇数环。通过冲突关系图的构建，将奇数环问题，也即np-complete问题归结为图论问题中寻找最小基础环组合的问题，通过转换计算模型，进而缩减了计算规模，降低了计算占用的内存，提高了计算运行的效率。
16、2.本专利技术实施例提供的图形冲突检测包括以下步骤：在版图图形周围设置规则检测区域；获取规则检测区域与相邻图形的位置信息；判断规则检测区域与相邻图形是否相交；若规则检测区域与相邻图形相交，则规则检测区域对应的图形与其相邻图形存在冲突关系。
17、可以理解地，本专利技术所提供的冲突检测方法的核心为：通过图形与相邻图形规则检测区域的相交与否来判定图形是否冲突。具体的，以版图图形为中心，在图形的四周设置规则检测区域，应理解，规则检测区域的大小根据版图能正常曝光的间距来确定。若一图形与其相邻图形的规则检测区域相交，即说明该图形与该规则检测区域对应的图形两者的间距过小，存在冲突。通过此设计，可以快速且准确地找出相互之间间隔间隙较小的图形。
18、3.本专利技术实施例提供的构建冲突关系图包括以下步骤：将版图中的图形简化为点，并保留点的位置信息；将存在冲突关系的图形简化的点用边连接，得到冲突关系图。
19、可以理解地，将版图中的图形保留位置信息后简化成图论中的点，具体的可以以图形的质心或几何中心等充当图论中的点，用边表示图形的冲突关系，即两具有冲突关系的图形简化的点用边连接。
20、通过上述设计，可以将版图中复杂的图形关系简化成点线图，进而减轻计算规模；冲突关系图的构建中保留了点的位置关系，使得图中基础环的形状为固定状态，避免了后期使用算法搜寻时得到不符合期望的基础环组合。
21、4.本专利技术实施例中构建冲突关系图后对所述冲突关系图进行点简化和点双连通简化。
22、可以理解地，通过前述方法构建的冲突关系图，图中通常会存在不与其他点有冲突关系或只与一个点有冲突关系的点，这样的点所代表的图形在版图拆分的过程中并不会出现无法将掩膜图形无冲突的分配到两张版图中的情况，也即，这样的点与我们要找的“奇数环”无关。因此，在构建冲突关系图后将此类不影响后续计算的点清除，可以进一步减轻了后续的计算负担，提高运算速率。
23、5.本专利技术实施例点简化包括以下步骤：获取冲突关系图上各点上连接的边的数量；将连接的边的数量小于2的点及其边删除，获得冲突关系简化图。
24、可以理解地，通过将边的数量少于2的点及与其连接的边删除掉，对冲突关系图做了进一步简化，避免了无关图形信息对后期运算的干扰，使得后续的运算更加简便。
25、6.本专利技术实施例点双连通简化包括以下步骤：基于冲突关系简化图本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种版图检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于，图形冲突检测包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的版图检测方法，其特征在于，构建冲突关系图包括以下步骤：
4.如权利要求3所述的版图检测方法，其特征在于：构建冲突关系图后对所述冲突关系图进行点简化和点双连通简化。
5.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点简化包括以下步骤：
6.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点双连通简化包括以下步骤：
7.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于：寻找最小基础环组合包括以下步骤：
8.如权利要求7所述的版图检测方法，其特征在于：外轮廓环遍历过程中，若遇到多边节点，选择靠近环外部的边前进；基础环遍历过程中，若遇到多边节点，选择靠近环内部的边前进。
9.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于，找到奇数环并输出其图形信息包括以下步骤：
10.一种电子设备，其特征在于：包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理
11.一种存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于：所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1-9任一项所述的版图检测方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种版图检测方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于，图形冲突检测包括以下步骤：
3.如权利要求2所述的版图检测方法，其特征在于，构建冲突关系图包括以下步骤：
4.如权利要求3所述的版图检测方法，其特征在于：构建冲突关系图后对所述冲突关系图进行点简化和点双连通简化。
5.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点简化包括以下步骤：
6.如权利要求4所述的版图检测方法，其特征在于，点双连通简化包括以下步骤：
7.如权利要求1所述的版图检测方法，其特征在于：寻找最小基础环组合包括以下步骤...
【专利技术属性】
技术研发人员：王焕明，阮文胜，丁明，
申请(专利权)人：深圳晶源信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。