System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 多层阻挡膜、其制造及其在光伏应用中的用途制造技术_技高网

多层阻挡膜、其制造及其在光伏应用中的用途制造技术

技术编号:39952187 阅读:6 留言:0更新日期:2024-01-08 23:23
本发明专利技术涉及一种用于涂覆透明聚合物基底(A)的多层阻挡膜,该多层阻挡膜(MLBF)按从(B)至(C)至(D)的顺序包括:一个或多个透明的至少部分无机的阻挡层(B)、一个或多个透明的辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(C)以及一个或多个透明的热固化的涂层(D)。本发明专利技术进一步涉及一种由此涂覆的基底和制造该MLBF和MLBF涂覆的基底的方法。本发明专利技术进一步涉及这些MLBF涂覆的基底在光伏应用中的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍

1、聚合物膜广泛使用且可用于范围广泛的工业和消费者应用中。例如,此类膜可以用作透明或着色的阻挡膜以保护不同类型的下面的基底。聚合物膜,且特别是由半结晶树脂例如像聚酯材料制成的聚合物膜,提供了许多在阻挡膜中希望的特征。除其他特性外,它们还展现出透明性、柔性、耐久性、韧性、可挠性、可成形性、轻质和可承受的成本。

2、然而,对于户外应用和其中膜长时间暴露于光源、湿气和温度的其他应用,一些最希望的聚合物膜的使用可能严重受限。例如,许多聚合物膜在经受长时间暴露于紫外辐射(其在户外使用期间或通过暴露于荧光或其他发射uv的光源自然地发生)时或在高于其玻璃化转变温度的温度下暴露于湿气时降解。

3、cn 109421334 a披露了阻挡材料,这些阻挡材料包括聚合物基底、在其上的氧化铝层或二氧化硅层和在其上的吸收黄光的辐射固化的层。然而,这种多层体系不适合长期户外应用,如在光伏应用中使用。

4、us10665738 b2提供了气体阻挡膜,即使在将气体阻挡膜用于经历施加压力、热量等的步骤的产品中的情况下,该气体阻挡膜也可以防止无机层的损坏。us10665738 b2进一步涉及使用该气体阻挡膜的太阳能电池,以及该气体阻挡膜的制造方法。无机膜可以是通过等离子体cvd如电容耦合等离子体(ccp)-化学气相沉积(cvd)和电感耦合等离子体(icp)-cvd,溅射如磁控溅射和反应溅射,或气相沉积法如真空气相沉积形成的氧化铝膜。形成在无机膜上的保护层是辐射固化的涂层。然而,即使打算用于太阳能电池,外层对于长期稳定性户外应用也不足够耐用,如例如,由de 10 2011 113160a1所证明,其在以下段落中讨论。

5、de 10 2011 113160a1披露了由用多异氰酸酯固化的羟基官能氟聚合物制成的聚氨酯层,并将这些与辐射固化的涂层进行了比较,两者均直接施加在聚甲基丙烯酸甲酯基底膜之上。因此,氟聚合物膜被建议作为辐射固化的涂膜的更坚固耐用的替代物,但不与此类膜组合。此外,de 10 2011 113160a1中披露的阻挡膜的结构(即,层序列)与上述cn109421334a和us10665738 b2中的层序列显著不同。

6、us2011/0045193 a1还披露了在阻挡膜中使用基于氟聚合物的层。然而,该文献的重点是通过掺入氮化硼以促进附着力从而促进此类层直接在背板基底如聚酯树脂上的附着力。在us2011/0045193 a1中披露的阻挡膜中没有提及也没有设想辐射固化的层。

7、显然,仍然需要包括阻挡膜的制品,该阻挡膜展现出改进的与较高的抵抗湿气以及还有气体的阻挡特性组合的光稳定性。仍然需要mlbf涂覆的基底,其是长期稳定的,特别是在户外应用中,并且示出良好的层间附着力和降低的黄变。此类mlbf涂覆的基底应该适合作为光伏应用中的防护板。

8、这种类型的防护板由于其轻质、柔性和有利的成本而可以优选地在像太阳能电池模块等应用中用作前防护板(前板)或后防护板(背板);其他可能的应用是便携式照明装置、先进的光电器件和显示器例如像oled屏幕封装。


技术实现思路

1、本专利技术的上述目的通过提供一种用于涂覆透明聚合物基底(a)的多层阻挡膜(mlbf)来实现,该多层阻挡膜按从(b)至(c)至(d)的顺序包括

2、一个或多个透明的至少部分无机的阻挡层(b),

3、一个或多个透明的辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(c),以及

4、一个或多个透明的热固化的涂层(d)。

5、术语“用于涂覆透明的聚合物基底”的含义是多层阻挡膜适合作为用于透明的聚合物基底的涂层,但不限于涂覆此类基底。

6、图1示出了基底(a)上的mlbf的典型结构,其中基底(a)进一步涂覆有任选的平坦化层(p)。

7、从(b)至(c)至(d)的三个基准层的顺序不排除在层(b)之前、在层(d)之后和/或在层(b)与(c)之间以及在层(c)与(d)之间分别存在另外的层。仅在其中多层阻挡膜由层(b)、(c)和(d)组成的本专利技术的那些实施例中,层(c)不仅在层(b)与层(d)之间,而且与层(b)和(d)直接接触。

8、关于“至少部分无机的阻挡层(b)”的术语“至少部分无机的”意指一个或多个层可以完全由无机材料构成,但也可以由优选以交替顺序的无机层和有机层构成。

9、关于一个或多个透明的辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(c)的术语“辐射固化的”是指用于生产辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层的可交联单体、低聚物和聚合物的可辐射固化性质,即,在固化(即,交联)之前存在(甲基)丙烯酸类基团((meth)acrylic group),它们彼此反应以形成辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层。术语“(甲基)丙烯酸酯”表示“丙烯酸酯”和“甲基丙烯酸酯”二者。

10、关于涂层(d)的术语“热固化的”是指这样的固化机理,其中不涉及辐射,并且在该固化机理中涉及带有反应性官能团的粘合剂和带有对粘合剂的官能团具有反应性的官能团的单独交联剂。

11、关于层和基底所使用的术语“透明的”意指这些层和/或基底是半透明的,即透光的。如本文所用的术语“透明的”可以根据astm d1003:2013通过确定总透光率来量化。优选地,如此确定的mlbf的每一层、mlbf本身和下文描述的mlbf涂覆的基底的总透光率在从80%至99%的范围内,更优选地在从85%至98%的范围内,且最优选地在从90%至97%的范围内。

12、在下文中,多层阻挡膜也表示为“本专利技术的多层阻挡膜”或“本专利技术的mlbf”。

13、本专利技术的另一目的是一种多层阻挡膜涂覆的基底,其按这个顺序包括透明的聚合物基底(a)、一个或多个透明的至少部分无机的阻挡层(b)、一个或多个透明的辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(c)和一个或多个透明的热固化的外涂层(d)。

14、在下文中,多层阻挡膜涂覆的基底也表示为“本专利技术的多层阻挡膜涂覆的基底”或“本专利技术的mlbf涂覆的基底”。

15、本专利技术的又另一个目的是一种用于生产多层阻挡膜的方法,该方法包括以下步骤

16、a.提供基底;

17、b.通过一种或多种选自化学气相沉积(cvd)、物理气相沉积(pvd)、原子层沉积(ald)和溅射的方法在该基底上施加一个或多个无机层以形成一个或多个透明的至少部分无机的阻挡层(b);

18、c.在该一个或多个透明的至少部分无机的阻挡层(b)上施加一种或多种可辐射固化的(甲基)丙烯酸类涂层组合物c以形成一个或多个透明的可辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层,并固化所述一个或多个层以形成一个或多个辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(c);以及

19、d.在该一个或多个辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(c)上施加一种或多种可热固化的涂层组合物d以形成一个或多个可热固化的涂层d,并固化所述一个或多个层以形成一个或多个透明的热固化的涂层(d);

20、不排本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于涂覆透明聚合物基底(A)的多层阻挡膜,该多层阻挡膜按从(B)至(C)至(D)的顺序包括

2.根据权利要求1所述的多层阻挡膜,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的多层阻挡膜,其特征在于,该阻挡层(B)前面有平坦化层(P),该平坦化层用于使该透明聚合物基底(A)平坦化。

4.根据权利要求3所述的多层阻挡膜,其特征在于,该平坦化层(P)的厚度在从1至30μm的范围内。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,

6.根据权利要求1至5中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,该阻挡层(B)由层堆叠体(BiBo)n(Bi)t组成,其中Bi是无机层,Bo是通过分子层沉积形成的有机层,n=1至100并且t=0或1,并且n个Bi层中的第一个形成在平坦化层(P)上或基底(A)上。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,该一个或多个辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(C)可通过辐射固化包含至少一种或多种可辐射固化的低聚(甲基)丙烯酸酯官能物质和至少一种或多种可辐射固化的(甲基)丙烯酸酯官能单体的可辐射固化的涂层组合物C获得。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,层(B)和(C)的堆叠体以[(B)-(C)]a的形式出现a次,其中a=1至10。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,该一个或多个热固化的涂层(D)是可通过将涂层组合物D施加到最后施加的辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(C)上并热固化一个或多个如此获得的层而获得的聚氨酯层,该涂层组合物D包含

10.根据权利要求1至9中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,层(C)和/或(D)包含至少一种由UV吸收剂、光稳定剂和抗氧化剂组成的组中的添加剂。

11.一种多层阻挡膜涂覆的基底,其包括根据权利要求1至10中任一项所述的多层阻挡膜,其中该多层阻挡膜按[基底(A)]-(B)-(C)-(D)的顺序涂覆该透明聚合物基底(A)。

12.根据权利要求11所述的多层阻挡膜涂覆的基底,其特征在于,该基底具有在从20μm至300μm的范围内的厚度。

13.根据权利要求11或12中任一项所述的多层阻挡膜涂覆的基底,其特征在于,该基底是透明的聚对苯二甲酸乙二醇酯基底。

14.一种用于生产根据权利要求1至10中任一项所述的多层阻挡膜的方法,该方法包括以下步骤:

15.一种用于通过以下方式生产根据权利要求11至13中任一项所述的多层阻挡膜涂覆的基底的方法:使用透明聚合物基底(A)作为基底来进行如权利要求14中所限定的步骤a.至d.。

16.根据权利要求11至13所述的或根据权利要求15所述的方法获得的多层阻挡膜涂覆的基底用于光伏应用的用途。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于涂覆透明聚合物基底(a)的多层阻挡膜,该多层阻挡膜按从(b)至(c)至(d)的顺序包括

2.根据权利要求1所述的多层阻挡膜,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的多层阻挡膜,其特征在于,该阻挡层(b)前面有平坦化层(p),该平坦化层用于使该透明聚合物基底(a)平坦化。

4.根据权利要求3所述的多层阻挡膜,其特征在于,该平坦化层(p)的厚度在从1至30μm的范围内。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,

6.根据权利要求1至5中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,该阻挡层(b)由层堆叠体(bibo)n(bi)t组成,其中bi是无机层,bo是通过分子层沉积形成的有机层,n=1至100并且t=0或1,并且n个bi层中的第一个形成在平坦化层(p)上或基底(a)上。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,该一个或多个辐射固化的(甲基)丙烯酸酯层(c)可通过辐射固化包含至少一种或多种可辐射固化的低聚(甲基)丙烯酸酯官能物质和至少一种或多种可辐射固化的(甲基)丙烯酸酯官能单体的可辐射固化的涂层组合物c获得。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的多层阻挡膜,其特征在于,层(b)和(c)的堆叠体以[(b)-(c)]a的形式出现a次,其中a=1至10。

9.根据权利要求1至...

【专利技术属性】
技术研发人员:E·梅诺兹J·耶贝斯A·吉拉尔多
申请(专利权)人:巴斯夫涂料有限公司
类型:发明
国别省市:

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