【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片，具体为一种硅片清洗转运箱。
技术介绍
1、硅片是制作半导体的主要材料，半导体生产中的硅片，必须进过多步骤且严谨的清洗流程，才可以进行生产，稍微细小的污渍残留，都会造成半导体的实效。现有技术中，在对硅片进行清洗转运时，硅片在转运的过程中需要被夹持固定，但是夹持固定后的硅片表面不易被清洗彻底，夹持部位会有清洗不完全的情况，这使得清洗的效果大大降低。鉴于此，我们提出一种硅片清洗转运箱。
技术实现思路
1、为了弥补以上不足，本技术提供了一种硅片清洗转运箱。
2、本技术的技术方案是：
3、一种硅片清洗转运箱，包括清洗转运箱箱体，所述清洗转运箱箱体上方设有把手，所述清洗转运箱箱体内设有底座，还包括：
4、清洗部，位于所述清洗转运箱箱体内部，包括弹性元件并且通过一个动力源的驱动和所述弹性元件的弹力作用对硅片表面沿着竖直方向进行多次清洗，并且对清洗后的硅片起到夹持固定的作用。
5、优选的，所述清洗部包括压板，所述压板上方设有连接柱并且通过所述连接柱与所述动力源连接，所述动力源驱动所述压板沿着竖直方向上下移动。
6、优选的，所述清洗部还包括清洗座和清洗板，所述清洗座上设有清洗槽，所述清洗板位于所述清洗槽内，所述清洗座位于所述底座上方。
7、优选的，所述清洗槽槽底位于所述清洗板的底端处设有弹簧，所述压板挤压所述清洗板向下移动时所述弹簧处于压缩状态。
8、优选的，所述清洗槽槽底位于所述清洗板的底端处设有固
9、优选的，所述清洗板的下端设有活动槽，所述固定柱的一部分位于所述活动槽内，所述清洗板沿着所述固定柱上下移动，对所述清洗板的移动起到导向的作用。
10、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
11、本技术通过设置清洗部，当在运输清洗转运箱箱体时，气缸带动压板的底端挤压在硅片的上端，对硅片在清洗槽内起到固定的作用，避免在转运的过程中硅片发生滑落的情况，并且满足多次清洗使硅片达到清洁状态的效果。
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1.一种硅片清洗转运箱，包括清洗转运箱箱体(1)，所述清洗转运箱箱体(1)上方设有把手(2)，所述清洗转运箱箱体(1)内设有底座(6)，其特征在于，还包括：
2.如权利要求1所述的硅片清洗转运箱，其特征在于：所述清洗部包括压板(5)，所述压板(5)上方设有连接柱(4)并且通过所述连接柱(4)与所述动力源连接，所述动力源驱动所述压板(5)沿着竖直方向上下移动。
3.如权利要求2所述的硅片清洗转运箱，其特征在于：所述清洗部还包括清洗座(7)和清洗板(8)，所述清洗座(7)上设有清洗槽(9)，所述清洗板(8)位于所述清洗槽(9)内，所述清洗座(7)位于所述底座(6)上方。
4.如权利要求3所述的硅片清洗转运箱，其特征在于：所述清洗槽(9)槽底位于所述清洗板(8)的底端处设有弹簧(11)，所述压板(5)挤压所述清洗板(8)向下移动时所述弹簧(11)处于压缩状态。
5.如权利要求4所述的硅片清洗转运箱，其特征在于：所述清洗槽(9)槽底位于所述清洗板(8)的底端处设有固定柱(10)，所述弹簧(11)环于所述固定柱(10)上。
6.如
...【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗转运箱，包括清洗转运箱箱体(1)，所述清洗转运箱箱体(1)上方设有把手(2)，所述清洗转运箱箱体(1)内设有底座(6)，其特征在于，还包括：
2.如权利要求1所述的硅片清洗转运箱，其特征在于：所述清洗部包括压板(5)，所述压板(5)上方设有连接柱(4)并且通过所述连接柱(4)与所述动力源连接，所述动力源驱动所述压板(5)沿着竖直方向上下移动。
3.如权利要求2所述的硅片清洗转运箱，其特征在于：所述清洗部还包括清洗座(7)和清洗板(8)，所述清洗座(7)上设有清洗槽(9)，所述清洗板(8)位于所述清洗槽(9)内，所述清洗座(7)位于所述底座(6)上方。
【专利技术属性】
技术研发人员：牛犇，牛小群，余建辉，苏良彬，赖正源，张春，
申请(专利权)人：浙江星宇能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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