显示基板及其制作方法技术

技术编号：39934438 阅读：16 留言：0更新日期：2024-01-08 22:04

本申请涉及一种显示基板及其制作方法。提供衬底，包括第一像素开口区域、第二像素开口区域和第三像素开口区域，在第二像素开口区域和第三像素开口区域分别设置第一牺牲层和第二牺牲层，然后在衬底的上方设置第一有机发光材料层和阴极层，以在第一像素开口区域形成第一发光膜层，然后去除第一牺牲层，在衬底上形成第二有机发光材料层和阴极层，以在第二像素开口区域形成第二发光膜层，最后去除第二牺牲层，在衬底上形成第三有机发光材料层和阴极层，以在第三像素开口区域形成第三发光膜层。本申请通过采用设置牺牲层，然后再进行曝光刻蚀，最后再去除牺牲层的方法，实现产品全彩化的制备，能够有效保护阳极层不受损害，提升器件的稳定性。

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【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示，尤其涉及一种显示基板及其制作方法。

技术介绍

1、目前，oled(organiclight-emitting diode，有机发光二极管)显示技术与传统的显示技术不同，其原理是在两极之间设置有机发光层，当正负极电子在此有机材料中相遇时就会发光，由于其具有响应速度快、色域广、成本低、厚度较薄且能实现柔性化等优点，因此oled技术逐渐受到市场的喜爱。

2、现有光刻oled的全彩化制作中，每制作一种像素，就需要对同一衬底中其他位置的像素和阴极层进行曝光刻蚀操作，以此往复，对衬底上的阳极层会造成损害，从而影响成品的出光，降低成品质量，因此，目前急需一种显示基板及其制作方法以解决上述问题。

技术实现思路

1、本申请提供一种显示基板及其制作方法，可以解决现有工艺中对阳极层造成损害，导致影响成品出光的问题。所述技术方案如下：

2、一种显示基板的制作方法，包括以下步骤：

3、提供衬底，所述衬底包括像素开口区域和非像素开口区域，所述像素开口区域包括第一像素...

【技术保护点】

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述第一像素区域、第二像素区域和所述第三像素区域为蓝色像素开口区域、为绿色像素开口区域和红色像素开口区域中的其中一者，且所述第一像素开口区域、第二像素开口区域和所述第三像素开口区域的颜色互不相同。

3.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述第一牺牲层和所述第二牺牲层的厚度为5nm～20nm。

4.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述第一牺牲层和所述第二牺牲层的材质为含氟聚合物。