【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及声表面波滤波器制造,具体涉及一种具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法。
技术介绍
1、声表面波滤波器被广泛应用在通讯、雷达、航天航空、医疗器械、环境检测等领域,其中声表面波大致的工作范围为10mhz至3ghz,被广泛应用在电视、电子对抗、通信和雷达等领域,和其他类型的滤波器相比具有尺寸小、质量轻、可靠性好等优点。
2、光刻技术在显影过程中需要严格执行曝光时间,否则很容易造成显影不足、过显影和不充分显影的问题,导致最终的图形尺寸会漂移以及垂直度不好,容易在图形的两侧形成斜坡。剥离技术在实际应用中也存在很多明显的缺陷,首先,为了提高剥离技术的成功率,在剥离过程中我们需要底切形态的光刻胶,需要针对特定的工艺选取不同种类的光刻胶;其次剥离技术具有很差的阶梯覆盖性,不适合制备具有线宽要求的器件;最后剥离技术容易产生光刻胶残留,出现剥离不干净的情况。
3、idt电极的线宽和声表面波滤波器的频率具有很强的联系,频率越高线宽越小,随着5g时代的到来,声表面波滤波器使用的频率会越来越高,idt电极的线宽会变得越
...【技术保护点】
1.一种具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于:所述S1步骤中,压电材料选用钽酸锂、铌酸锂、石英中的任一种。
3.根据权利要求1所述的具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于:所述S2步骤中,牺牲层选用SiO2、SixNy中的任一种。
4.根据权利要求3所述的具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于:所述S2步骤中,对于牺牲层的沉积方式为PECVD、CVD、PVD中任一种。
< ...【技术特征摘要】
1.一种具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于:所述s1步骤中,压电材料选用钽酸锂、铌酸锂、石英中的任一种。
3.根据权利要求1所述的具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于:所述s2步骤中,牺牲层选用sio2、sixny中的任一种。
4.根据权利要求3所述的具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于:所述s2步骤中,对于牺牲层的沉积方式为pecvd、cvd、pvd中任一种。
5.根据权利要求1所述的具有温度补偿功能的声表面波滤波器的制造方法,其特征在于:所述s4步骤中,用于制作idt...
【专利技术属性】
技术研发人员:窦云轩,徐家玉,杨峰云,
申请(专利权)人:中微龙图电子科技无锡有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。