一种六方氮化硼陶瓷及其制备方法技术

技术编号:39933010 阅读:16 留言:0更新日期:2024-01-08 21:58
本发明专利技术提供了一种六方氮化硼陶瓷及其制备方法,所述六方氮化硼陶瓷包括主相及分散相,所述主相包括h‑BN,所述分散相包括Al<subgt;2</subgt;Y<subgt;4</subgt;O<subgt;9</subgt;;所述六方氮化硼陶瓷的显气孔率≤5%、致密度≥90%;所述制备方法将h‑BN与烧结助剂混合后烧结,得到含有特定晶相成分的高致密六方氮化硼陶瓷,且所得六方氮化硼陶瓷具有≥20.0GPa的弹性模量及≥100MPa的弯曲强度;所述制备方法工艺简单,有利于制备大尺寸氮化硼陶瓷构件,且具有相对较低的烧结温度,有利于降低成本并促进大规模工业生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷材料领域,涉及一种六方氮化硼陶瓷及其制备方法


技术介绍

1、目前,六方氮化硼(h-bn)俗称“白石墨”,具有类似石墨的层状晶体结构,层间原子以范德华键结合,具有良好的润滑性和导热性。h-bn中层内的b和n原子之间以sp2共价键结合,电子结合能较高(约为192ev),导致h-bn陶瓷烧结过程中原子的扩散速率较慢,只有升高温度(通常需要1500℃以上)增大原子扩散速率,h-bn陶瓷才开始有烧结的迹象;另外,h-bn晶粒呈卡片房式结构,堆叠产生较多孔隙,使得h-bn陶瓷致密化烧结较为困难。

2、高温烧结法是目前工业上可大规模生产氮化硼陶瓷的制备方法,主要可以分为三类:常压烧结法,热压烧结法和放电等离子体烧结法。为了烧结得到致密的h-bn陶瓷,一般采用高温高压并添加烧结助剂的方法,烧结助剂主要起三方面的作用:一是高温下助剂在h-bn晶粒间形成连续液相,促进颗粒的传热和传质;二是助剂填充h-bn晶粒之间的孔隙,促进陶瓷致密化;三是助剂在晶界处抑制h-bn晶粒的持续长大,减小孔隙大小。

3、例如,cn108017393a、c本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种六方氮化硼陶瓷,其特征在于,包括主相及分散相,所述主相包括h-BN,所述分散相包括Al2Y4O9;所述六方氮化硼陶瓷的显气孔率≤5%、致密度≥90%。

2.根据权利要求1所述的六方氮化硼陶瓷,其特征在于,按所述六方氮化硼陶瓷的质量为100%计算,所述主相的质量分数为80%~95%,所述分散相的质量分数为5%~20%;

3.一种权利要求1或2所述的六方氮化硼陶瓷的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述B2O3、AlN和Y2O3的质量比为1:(1~2):(4~7);

5.根据权利要求3或...

【技术特征摘要】

1.一种六方氮化硼陶瓷,其特征在于,包括主相及分散相,所述主相包括h-bn,所述分散相包括al2y4o9;所述六方氮化硼陶瓷的显气孔率≤5%、致密度≥90%。

2.根据权利要求1所述的六方氮化硼陶瓷,其特征在于,按所述六方氮化硼陶瓷的质量为100%计算,所述主相的质量分数为80%~95%,所述分散相的质量分数为5%~20%;

3.一种权利要求1或2所述的六方氮化硼陶瓷的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述b2o3、aln和y2o3的质量比为1:(1~2):(4~7);

5.根据权利要求3或4所述的制备方法,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:张伟刚杨海军孙小明戈敏张会丰乔嘉豪王志广
申请(专利权)人:中国科学院赣江创新研究院
类型:发明
国别省市:

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