【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种mpcvd设备用控温装置，属于mpcvd设备相关。
技术介绍
1、mpcvd设备为一种常见的气相沉积设备，特别适合于金刚石生产，通过等离子体在基片台上的基片表面沉积金刚石，为实现批量生产，基片台上会按照阵列放置基片(如金刚石单晶片)，为了实现各个基片表面均匀沉积金刚石，要求整个生长过程各个基片的上表面温度尽量保持一致，但是，由于mpcvd设备制备金刚石薄膜时在金刚石沉积过程中，理想状态下，等离子体形态呈轴对称，中心区域等离子体更靠近基片，使得基片台中心处基片的温度比周围基片的温度高，因此在mpcvd设备工作时，需要对基片台的温度进行控制，现有的mpcvd设备用控温装置在使用时，大多是通过水冷散热的方式达到控温的目的，进而在使用时，需要经常加水，而现有的mpcvd设备用控温装置子啊使用时并不能够提醒使用者进行加水，需要使用者经常观察，在使用时较为不便。
技术实现思路
1、本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种mpcvd设备用控温装置，可在制冷水箱内的水较少时对使用者进行提
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【技术保护点】
1.一种MPCVD设备用控温装置，其特征在于：包括MPCVD设备本体（1），所述MPCVD设备本体（1）底部的外侧壁上固定安装有支腿（2），所述MPCVD设备本体（1）的一侧设置有控温组件（3），所述控温组件（3）包括制冷水箱（301）、输出泵（302）、外壳（303）、制冷板（304）、散热翅片（305）、导流管（306）、支撑弹簧（307）、传动板（308）、固定电极（309）、移动电极（3010）和警示灯（3011），所述导流管（306）的一端穿设在所述MPCVD设备本体（1）内，所述外壳（303）固定安装在所述导流管（306）的另一端上，所述支撑弹簧（307）...
【技术特征摘要】
1.一种mpcvd设备用控温装置，其特征在于：包括mpcvd设备本体（1），所述mpcvd设备本体（1）底部的外侧壁上固定安装有支腿（2），所述mpcvd设备本体（1）的一侧设置有控温组件（3），所述控温组件（3）包括制冷水箱（301）、输出泵（302）、外壳（303）、制冷板（304）、散热翅片（305）、导流管（306）、支撑弹簧（307）、传动板（308）、固定电极（309）、移动电极（3010）和警示灯（3011），所述导流管（306）的一端穿设在所述mpcvd设备本体（1）内，所述外壳（303）固定安装在所述导流管（306）的另一端上，所述支撑弹簧（307）的一端固定安装在所述外壳（303）底部的内侧壁上，所述制冷水箱（301）的一端固定安装在所述支撑弹簧（307）的一端，所述制冷板（304）的一端固定安装在所述制冷水箱（301）的内侧壁上。
2.根据权利要求1所述的一种mpcvd设备用控温装置，其特征在于：所述散热翅片（305）的一端固定安装在所述制冷板（304）的外侧壁上，所述传动板（308）的一端固定安装在所述制冷水箱（301）底部的外侧壁上。
3.根据权利要求1所述的一种mpcvd设备用控温装置，其特征在于：所述移动电极（3010）固定安装在所述传动板（308）的一端，所述固定电极（309）固定安装在所述外壳（303）的内侧壁上，所述警示灯（3011）固定安装在所述外壳（...
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