【技术实现步骤摘要】
一种光学系统及检测装置
[0001]本技术涉及光学系统及检测装置
。
技术介绍
[0002]光刻机的工作模式是：逐一曝光一片晶圆上所有的场，然后更换晶圆，直至曝光完所有的晶圆，再更换掩模，接着在各晶圆上曝光第二层图形
。
其中，第二层掩模曝光的图形需要和第一层掩模曝光的图形准确地套叠在一起，故称之为套刻
。
晶圆的套刻误差是指当前层和前层之间的对齐误差，这种对齐误差通常需要利用高倍显微镜进行测量
。
[0003]然而，高倍显微镜的焦深
(
使用显微镜时，当焦点对准某一物体时，不仅位于某一平面上的各点可以看清楚，而且在此平面的上下一定厚度内，也能看得清楚，这个清楚部分的厚度就是焦深
。
焦深大可以看到被检物体的全层，而焦深小则只能看到被检物体的一薄层
。)
通常都非常小，不能同时对厚胶的两层清晰地成像
。
因此，当两层间高度差超过一定阈值后，通常会采用分时成像的方式，分别对当前层和前层进行对焦
。
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种光学系统，其特征在于，包括：第一探测器
、
第二探测器，所述第一探测器
、
第二探测器分别用于通过第一成像光路
、
第二成像光路对被测物进行聚焦成像；所述第一成像光路聚焦于所述被测物表面的第一检测高度，所述第二成像光路聚焦于所述被测物表面的第二检测高度；楔形镜组，所述楔形镜组设于所述第一成像光路和
/
或第二成像光路中，用于改变所述第一成像光路和第二成像光路之间的光程差，以使所述第一检测高度和第二检测高度不同
。2.
如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述楔形镜组包括两个楔形镜体，各所述楔形镜体均具有相背布置的直面和坡面；两个所述楔形镜体沿所述第一成像光路叠加，两个所述楔形镜体的坡面相对布置，且两个所述楔形镜体的直面倾斜于所述第一成像光路的光轴
。3.
如权利要求2所述的光学系统，其特征在于，至少一个所述楔形镜体沿自身坡面的延伸方向活动设置，活动设置的所述楔形镜体用于改变所述第一成像光路的光程，进而调节所述第一成像光路聚焦于所述被测物表面的第一检测高度
。4.
如权利要求2所述的光学系统，其特征在于，还包括压电驱动器，所述压电驱动器用于驱动至少一个所述楔形镜体沿自身坡面的延伸方向进行平移
。5.
如权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述被测物具有不同空间高度的第一层标识和第二层标识，所述空间高度为沿入射至待测物表面的光束的入射方向，所述被测物表面的第一检测高度被配置为所述第一层标识的空间高度，所述第二检测高度被配...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚本溪，莫云杰，吕肃，陈鲁，张嵩，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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