包括具有槽和脊以便于负载的沟槽的微流控芯片及相关方法技术

微流控芯片可以包括限定微流控网络的主体，该微流控网络具有一个或多于一个入口端口

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括具有槽和脊以便于负载的沟槽的微流控芯片及相关方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求
2020
年
10
月
19
日提交的美国临时专利申请第
63/093,774
号的优先权，其内容通过引用整体并入本文
。
专利

[0003]本专利技术一般地涉及微流控芯片，更具体但非限制性地涉及限定一个或多于一个网络的生成液滴的微流控芯片，每个网络具有测试容积和可以从测试容积接收液滴的沟槽
。

技术介绍

[0004]微流控芯片在包括化妆品
、
药物
、
病理学
、
化学
、
生物学和能源在内的广泛领域中的应用越来越多
。
微流控芯片通常具有一个或多于一个通道，这些通道被布置成输送
、
混合和
/
或分离一个或多于一个样品以对其进行分析
。
至少一个通道可以具有微米或几十微米数量级的尺寸，允许分析相对较小
(<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种微流控芯片，其包括：主体；和由主体限定的微流控网络，所述网络包括：一个或多于一个入口端口；具有长度
、
宽度和深度的测试容积；一个或多于一个在入口端口和测试容积之间延伸的流动路径，其中，沿着每个流动路径，流体被允许从一个入口端口通过至少一个液滴生成区域流到测试容积，在所述至少一个液滴生成区域中，流动路径的最小横截面积沿着流动路径增加；和沿着测试容积的外围的至少一部分设置的沟槽，所述沟槽使得来自流动路径的流体在没有流过测试容积的情况下不被允许流入沟槽，其中所述沟槽包括：槽，沟槽沿着所述槽的深度比外围处的测试容积的深度大至少
10
％；和设置在槽和测试容积之间的脊，沟槽沿着脊的深度小于外围处的测试容积的深度
。2.
根据权利要求1所述的芯片，其中沟槽沿着槽的深度比外围处的测试容积的深度大至少
90
％
。3.
根据权利要求1或2所述的芯片，其中沟槽沿着脊的深度为外围处的测试容积的深度的
90
％或小于
90
％，任选地为
80
％或小于
80
％
。4.
根据权利要求3所述的芯片，其中沟槽沿着脊的深度为外围处的测试容积的深度的至少
50
％，任选地为至少
60
％
。5.
根据权利要求1至4中任一项所述的芯片，其中沟槽沿着测试容积的外围的至少一部分设置，使得来自流动路径的流体在没有流过脊的情况下不被允许流入槽
。6.
根据权利要求1至5中任一项所述的芯片，其中沟槽沿着测试容积的外围的至少一部分设置，使得所述沟槽跨越测试容积的至少大部分宽度和
/
或跨越测试容积的至少大部分长度
。7.
根据权利要求1至6中任一项所述的芯片，其中测试容积的宽度和测试容积的长度各自为测试容积的最大深度的至少
10
倍
。8.
根据权利要求1至7中任一项所述的芯片，其中测试容积的深度在测试容积内基本相同
。9.
根据权利要求1至8中任一项所述的芯片，其中网络包括与所述槽流体连通的一个或多于一个出口端口，使得流体被允许从所述槽流到出口端口，而不流过测试容积
。10.
一种负载微流控芯片的方法，所述方法包括：将液体设置在微流控网络的一个或多于一个入口端口中的第一入口端口内，所述微流控网络包括：具有长度
、
宽度和深度的测试容积；一个或多于一个在入口端口和测试容积之间延伸的流动路径；和沿着测试容积的外围的至少一部分设置的沟槽，所述沟槽使得来自流动路径的流体在没有流过测试容积的情况下不被允许流入沟槽，其中所述沟槽包括：槽，沟槽沿着所述槽的深度比外围处的测试容积的深度大至少
10
％；和设置在槽和测试容积之间的脊，沟槽沿着脊的深度小于外围处的测试容积的深度；和沿着流动路径中的第一流动路径引导...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗丝，
申请(专利权)人：派特恩生物技术有限公司，
类型：发明
国别省市：