一种硅晶圆提纯设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种硅晶圆提纯设备，包括反应炉，所述反应炉的外部固定安装有固定壳，且固定壳内部固定安装有加热管，所述加热管的外侧设置有保温壳，且保温壳的底部固定安装有固定盒；所述固定盒的内部移动设置有按压柱。该硅晶圆提纯设备，在按压对应的按压柱并旋转时，将按压柱推动导电块进行移动，并通过卡块将按压柱进行定位，使得导电块卡合进入导电槽内部，然后将导电块与导电板进行接触导电，从而将对应的加热管进行开启使用，使得方便根据反应炉内部的原料容量将加热管进行分组开启使用，方便控制提纯设备的加热范围，从而提高了硅晶圆的提纯效果，使得硅晶圆的性能得到进一步提高。得到进一步提高。得到进一步提高。

【技术实现步骤摘要】
一种硅晶圆提纯设备


[0001]本技术涉及硅晶圆生产
，具体为一种硅晶圆提纯设备。

技术介绍

[0002]硅晶圆是制造半导体器件和芯片的基本材料，而且在产业中扮演着举足轻重的地位，可以说硅是当今最重要、应用最广泛的半导体材料，硅在自然界中以硅酸盐或二氧化硅的形式广泛存在于岩石、砂砾中，而硅晶圆的制造有三大步骤：硅提炼及提纯、单晶硅生长、晶圆成型，且在硅晶圆提纯的过程中，提纯设备的使用还存在一些缺陷。
[0003]虽然硅在地壳中是第二多的元素，但它是由多种化合物组成，主要有不纯的二氧化硅和硅酸盐(Si+O+另外元素)，在自然中没有单纯的硅元素，制造半导体器件所用的单晶硅是一种人造材料，在进行硅的提纯时，使用低品质的二氧化硅在电炉里与碳一起加热，通过碳对不纯的二氧化硅进行还原(减少二氧化硅)，得到不纯的元素硅。
[0004]且在反应设备内部对二氧化硅和碳进行反应时，需要对反应设备加热达到反应条件，且在设备进行电加热时，通常使用加热管对设备整体进行即热，从而保证内部物质进行充分加热反应，但由于设备内部倒入原料的容量不同，进而在使用固定范围加热时，容易造成热量的损失，同时造成电能的浪费，从而造成硅晶圆制造成本的增加，因此需要提出一种硅晶圆提纯设备。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种硅晶圆提纯设备，以解决上述
技术介绍
中提出的不方便针对不同容量的原料进而不同范围加热的调整，进而导致热量及电能的浪费的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种硅晶圆提纯设备，包括反应炉，所述反应炉的外部固定安装有固定壳，且固定壳内部固定安装有加热管，所述加热管的外侧设置有保温壳，且保温壳的底部固定安装有固定盒；
[0007]所述固定盒的内部移动设置有按压柱，且按压柱的外壁对称安装有卡块，所述卡块的一端转动安装有导电块，且导电块的两侧对称安装有弹簧，所述弹簧的一端固定连接有卡合板，且卡合板的内部开设有导电槽。
[0008]优选的，所述固定盒对应卡块的位置开设有移动槽，且卡块移动设置在固定盒的内部，所述导电块水平设置在导电槽的一侧，且导电槽的内部设置有导电板，所述导电板通过连接线与加热管电连设置。
[0009]优选的，所述三个所述加热管为一组，多种所述加热管等距离安装在反应炉的外部，每组所述加热管均通过连接线与单个所述导电板连接。
[0010]优选的，所述卡合板固定安装在固定盒的内部，所述导电块通过弹簧与卡合板弹性连接，且导电块通过连接线固定连接有电源适配器，所述电源适配器固定安装在固定盒的底部。
[0011]优选的，所述固定壳的外部固定安装有换热管，所述换热管的一侧螺旋缠绕在固定壳的外部，且换热管的另一侧呈波浪形结构设置，所述换热管的一端固定安装有进水阀，且进水阀的一侧安装有水泵。
[0012]优选的，所述水泵的抽水端固定安装有分管，所述分管的一端固定安装有补水阀，且分管的另一端固定安装有循环阀，所述循环阀固定安装在换热管的一端，且换热管的一侧固定安装有热水阀。
[0013]优选的，所述换热管的外部安装有散热箱，且散热箱固定安装在反应炉的一侧，所述散热箱的内部对称安装有散热扇，且散热扇水平设置在换热管的波浪形结构一侧，所述换热管的螺旋部分安装在保温壳的内侧。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该硅晶圆提纯设备；
[0015]1.通过加热管、导电块和导电槽等结构的设置，方便控制加热管进行单组使用，使得在按压对应的按压柱并旋转时，将按压柱推动导电块进行移动，并通过卡块将按压柱进行定位，使得导电块卡合进入导电槽内部，然后将导电块与导电板进行接触导电，从而将对应的加热管进行开启使用，使得方便根据反应炉内部的原料容量将加热管进行分组开启使用，使得方便控制提纯设备的加热范围，进而避免热能以及电能的浪费，使得提高硅晶圆提纯设备使用的节能效果，同时降低硅晶圆提纯的生产成本；
[0016]2.通过换热管、水泵和热水阀等结构的设置，方便将加热管产生的多余热量进行换热使用，使得通过余热将换热管内部通入的冷水进行加热，从而方便为硅晶圆生产工厂进行热水的提供，同时在需要对反应炉进行阶段式降温时，通过将补水阀和热水阀关闭，可通过水泵将换热管内部进行水循环操作，同时配合散热扇的使用，方便将换热管内部水进行换热，从而加快反应炉的降温效果，使得提高硅晶圆提纯设备的工作效率。
附图说明
[0017]图1为本技术的整体结构示意图；
[0018]图2为本技术换热管的结构示意图；
[0019]图3为本技术加热管和反应炉的连接结构示意图；
[0020]图4为本技术加热管和固定盒的连接结构示意图；
[0021]图5为本技术固定盒的内部结构示意图。
[0022]图中：1、反应炉；2、固定壳；3、加热管；4、保温壳；5、固定盒；6、按压柱；7、卡块；8、导电块；9、弹簧；10、卡合板；11、导电槽；12、换热管；13、进水阀；14、水泵；15、补水阀；16、循环阀；17、热水阀；18、散热箱；19、散热扇。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]实施例一：
[0025]请参阅图1和图3，本技术提供一种技术方案：一种硅晶圆提纯设备，包括反应
炉1，反应炉1的外部固定安装有固定壳2，且固定壳2内部固定安装有加热管3，三个加热管3为一组，多种加热管3等距离安装在反应炉1的外部，每组加热管3均通过连接线与单个导电板连接，加热管3的外侧设置有保温壳4，且保温壳4的底部固定安装有固定盒5；
[0026]反应炉1的设置方便将原料放入进行加热反应，且通过加热管3对反应炉1进行加热处理，同时反应炉1的底部安装有支撑架，进而方便将设备整体进行支撑使用，固定壳2的设置方便将加热管3安装固定在反应炉1的外侧，且保温壳4的设置方便将反应炉1外部的热量进行保温处理，防止在提纯反应时，出现热量的流失；
[0027]根据图3
‑
5，固定盒5的内部移动设置有按压柱6，且按压柱6的外壁对称安装有卡块7，固定盒5对应卡块7的位置开设有移动槽，且卡块7移动设置在固定盒5的内部，导电块8水平设置在导电槽11的一侧，且导电槽11的内部设置有导电板，导电板通过连接线与加热管3电连设置；
[0028]卡块7的一端转动安装有导电块8，且导电块8的两侧对称安装有弹簧9，弹簧9的一端固定连接有卡合板10，卡合板10固定安装在固定盒5的内部，导电块8通过弹簧9与卡合板10弹性连接，且导电块8通过连接线固定连接有电源适配器，电源适配器固定安装在固定盒5的底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅晶圆提纯设备，包括反应炉(1)，其特征在于：所述反应炉(1)的外部固定安装有固定壳(2)，且固定壳(2)内部固定安装有加热管(3)，所述加热管(3)的外侧设置有保温壳(4)，且保温壳(4)的底部固定安装有固定盒(5)；所述固定盒(5)的内部移动设置有按压柱(6)，且按压柱(6)的外壁对称安装有卡块(7)，所述卡块(7)的一端转动安装有导电块(8)，且导电块(8)的两侧对称安装有弹簧(9)，所述弹簧(9)的一端固定连接有卡合板(10)，且卡合板(10)的内部开设有导电槽(11)。2.根据权利要求1所述的一种硅晶圆提纯设备，其特征在于，所述固定盒(5)对应卡块(7)的位置开设有移动槽，且卡块(7)移动设置在固定盒(5)的内部，所述导电块(8)水平设置在导电槽(11)的一侧，且导电槽(11)的内部设置有导电板，所述导电板通过连接线与加热管(3)电连设置。3.根据权利要求2所述的一种硅晶圆提纯设备，其特征在于，三个所述加热管(3)为一组，多种所述加热管(3)等距离安装在反应炉(1)的外部，每组所述加热管(3)均通过连接线与单个所述导电板连接。4.根据权利要求1所述的一种硅晶圆提纯设备，其特征在于，所述卡合板(10)固定安装在固定盒...

【专利技术属性】
技术研发人员：沙建德，邱小磊，
申请(专利权)人：苏州格罗德集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：