一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备制造方法及图纸

技术编号:39846906 阅读:17 留言:0更新日期:2023-12-29 16:45
本公开提供一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备,涉及显示设备技术领域,用于解决在对曝光模板进行整体曝光时,使得最终统计的曝光埋点的总数大于用户实际看到的曝光埋点的总数的问题。该方法包括:在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,获取当前显示的一级子视图的起止位置;根据起止位置,确定起止位置对应的至少一个其它数据;根据其它数据查询绑定关系,确定其它数据对应的其它子视图;对其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图;根据已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。点的统计结果。点的统计结果。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备


[0001]本公开涉及显示设备
,尤其涉及一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备。

技术介绍

[0002]目前,在进行曝光埋点的统计时,通常利用滚动控件的适配器原理,获得可见的曝光模板,针对可见的曝光模板进行整体曝光。然而,一个曝光模板有多个坑位,曝光模板中有些坑位实际不可见或可见区域太小,这样在对曝光模板进行整体曝光时,使得最终统计的曝光埋点的总数大于用户实际看到的曝光埋点的总数。

技术实现思路

[0003]为了解决上述技术问题,本公开提供了一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备。
[0004]本公开的技术方案如下:
[0005]第一方面,本公开提供一种曝光埋点的统计方法,包括:在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,获取当前显示的一级子视图的起止位置;根据起止位置,确定起止位置对应的至少一个其它数据;根据其它数据查询绑定关系,确定其它数据对应的其它子视图;对其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图;根据已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光埋点的统计方法,其特征在于,包括:在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,获取当前显示的一级子视图的起止位置;根据所述起止位置,确定所述起止位置对应的至少一个其它数据;根据所述其它数据查询绑定关系,确定所述其它数据对应的其它子视图;对所述其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图;根据所述已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。2.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述根据所述起止位置,确定所述起止位置对应的至少一个其它数据,包括:根据所述起止位置,确定所述起止位置对应的曝光数据;对所述曝光数据进行遍历,确定所述曝光数据中包含的至少一个其它数据。3.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述对所述其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图,包括:根据所述其它子视图,确定所述其它子视图的曝光面积;根据所述曝光面积,确定已曝光的所述其它子视图。4.根据权利要求3所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述根据所述曝光面积,确定已曝光的其它子视图,包括:在所述曝光面积大于或等于面积阈值的情况下,确定所述其它子视图已曝光。5.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述统计方法还包括:在所述目标页面停止滚动的情况下,向服务器上报所述统计结果。6.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述统计方法还包括:在将所述目标页面...

【专利技术属性】
技术研发人员:王缓来
申请(专利权)人:聚好看科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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