一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备制造方法及图纸

技术编号:39846906 阅读:7 留言:0更新日期:2023-12-29 16:45
本公开提供一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备,涉及显示设备技术领域,用于解决在对曝光模板进行整体曝光时,使得最终统计的曝光埋点的总数大于用户实际看到的曝光埋点的总数的问题。该方法包括:在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,获取当前显示的一级子视图的起止位置;根据起止位置,确定起止位置对应的至少一个其它数据;根据其它数据查询绑定关系,确定其它数据对应的其它子视图;对其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图;根据已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。点的统计结果。点的统计结果。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备


[0001]本公开涉及显示设备
,尤其涉及一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备。

技术介绍

[0002]目前,在进行曝光埋点的统计时,通常利用滚动控件的适配器原理,获得可见的曝光模板,针对可见的曝光模板进行整体曝光。然而,一个曝光模板有多个坑位,曝光模板中有些坑位实际不可见或可见区域太小,这样在对曝光模板进行整体曝光时,使得最终统计的曝光埋点的总数大于用户实际看到的曝光埋点的总数。

技术实现思路

[0003]为了解决上述技术问题,本公开提供了一种曝光埋点的统计方法、装置和电子设备。
[0004]本公开的技术方案如下:
[0005]第一方面,本公开提供一种曝光埋点的统计方法,包括:在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,获取当前显示的一级子视图的起止位置;根据起止位置,确定起止位置对应的至少一个其它数据;根据其它数据查询绑定关系,确定其它数据对应的其它子视图;对其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图;根据已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。
[0006]第二方面,本公开提供一种曝光埋点的统计装置,包括:处理单元,用于在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,控制获取单元获取当前显示的一级子视图的起止位置;处理单元,还用于根据获取单元获取的起止位置,确定起止位置对应的至少一个其它数据;处理单元,还用于根据其它数据查询绑定关系,确定其它数据对应的其它子视图;处理单元,还用于对其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图;处理单元,还用于根据已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。
[0007]第三方面,本公开提供一种电子设备,包括:存储器和处理器,存储器用于存储计算机程序;处理器用于在执行计算机程序时,使得电子设备实现如上述第一方面提供的任一项曝光埋点的统计方法。
[0008]第四方面,本公开提供一种计算机可读存储介质,包括:计算机可读存储介质上存储有计算机程序,当计算机程序被计算设备执行时,使得计算设备实现如上述第一方面提供的任一项曝光埋点的统计方法。
[0009]需要说明的是,上述计算机指令可以全部或者部分存储在第一计算机可读存储介质上。其中,第一计算机可读存储介质可以与曝光埋点的统计装置的处理器封装在一起的,也可以与曝光埋点的统计装置的处理器单独封装,本公开对此不作限定。
[0010]本公开中第二方面、第三方面以及第四方面的描述,可以参考第一方面的详细描述;并且,第二方面、第三方面以及第四方面的描述的有益效果,可以参考第一方面的有益
效果分析,此处不再赘述。
[0011]在本公开中,上述曝光埋点的统计装置的名字对设备或功能模块本身不构成限定,在实际实现中,这些设备或功能模块可以以其它名称出现。只要各个设备或功能模块的功能和本公开类似,属于本公开权利要求及其等同技术的范围之内。
[0012]本公开的这些方面或其它方面在以下的描述中会更加简明易懂。
[0013]本公开提供的技术方案与现有技术相比具有如下优点:
[0014]在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,获取当前显示的一级子视图的起止位置。根据起止位置,确定起止位置对应的至少一个其它数据。根据其它数据查询绑定关系,确定其它数据对应的其它子视图。如此,便可以确定每个一级子视图中包含哪些其它子视图。之后,对其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图。这样,就可以准确地统计出每个一级子视图中实际曝光的其它子视图。之后,根据已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。由于统计结果中统计的是实际已曝光的其它子视图,这样可以保证最终统计的曝光埋点的总数与用户观看到的曝光埋点的总数相同,提升曝光埋点的统计准确率,解决了在对曝光模板进行整体曝光时,使得最终统计的曝光埋点的总数大于用户实际看到的曝光埋点的总数的问题。
附图说明
[0015]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。
[0016]为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0017]图1为现有技术中安卓(android)原生的数据、View与滚动控件示意图;
[0018]图2为现有技术对View列表中的一级子View进行整体曝光的场景示意图;
[0019]图3为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法的场景示意图;
[0020]图4为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法中显示设备的结构示意图之一;
[0021]图5为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法中显示设备的结构示意图之二;
[0022]图6为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法的流程示意图之一;
[0023]图7为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法的流程示意图之二;
[0024]图8为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法的流程示意图之三;
[0025]图9为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法的流程示意图之四;
[0026]图10为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法的流程示意图之五;
[0027]图11为本申请实施例提供的曝光埋点的统计方法的流程示意图之六;
[0028]图12为本申请实施例提供的显示设备的结构示意图;
[0029]图13为本申请实施例提供的一种芯片系统的示意图。
具体实施方式
[0030]为了能够更清楚地理解本公开的上述目的、特征和优点,下面将对本公开的方案进行进一步描述。需要说明的是,在不冲突的情况下,本公开的实施例及实施例中的特征可
以相互组合。
[0031]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本公开,但本公开还可以采用其它不同于在此描述的方式来实施;显然,说明书中的实施例只是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0032]需要说明的是,在本文中,诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其它变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其它要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个
……”
限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0033]本公开实施例中的曝光是指控件展示到了屏幕上,处于用户可见的状态。
[0034]本公开实施例中的埋点,是数据采集领域(尤其是用户行为数据采集领域)的术语,指的是针本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光埋点的统计方法,其特征在于,包括:在包含滚动控件的目标页面满足曝光条件的情况下,获取当前显示的一级子视图的起止位置;根据所述起止位置,确定所述起止位置对应的至少一个其它数据;根据所述其它数据查询绑定关系,确定所述其它数据对应的其它子视图;对所述其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图;根据所述已曝光的其它子视图,生成曝光埋点的统计结果。2.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述根据所述起止位置,确定所述起止位置对应的至少一个其它数据,包括:根据所述起止位置,确定所述起止位置对应的曝光数据;对所述曝光数据进行遍历,确定所述曝光数据中包含的至少一个其它数据。3.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述对所述其它子视图进行分析,确定已曝光的其它子视图,包括:根据所述其它子视图,确定所述其它子视图的曝光面积;根据所述曝光面积,确定已曝光的所述其它子视图。4.根据权利要求3所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述根据所述曝光面积,确定已曝光的其它子视图,包括:在所述曝光面积大于或等于面积阈值的情况下,确定所述其它子视图已曝光。5.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述统计方法还包括:在所述目标页面停止滚动的情况下,向服务器上报所述统计结果。6.根据权利要求1所述的曝光埋点的统计方法,其特征在于,所述统计方法还包括:在将所述目标页面...

【专利技术属性】
技术研发人员:王缓来
申请(专利权)人:聚好看科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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