【技术实现步骤摘要】
一种集成电路制造用表面处理装置
:
[0001]本专利技术属于集成电路制造
,具体涉及一种集成电路制造用表面处理装置
。
技术介绍
:
[0002]随着科技的发展及电子设备的不断更新,电子行业对集成电路板的要求逐渐提高,使集成电路板向高精度
、
高密度
、
高可靠性及低成本
、
小体积的方向发展,同时对集成电路板的表面处理也有一定的要求,科研人员在制造集成电路的过程中,为了能够提高集成电路的性能,通常会将集成电路的表面进行打磨
、
清洁等处理
。
[0003]现有技术
CN215314124U
,公开了一种集成电路板加工用表面处理装置,包含清理机构
、
限位机构和框体,所述清理机构位于框体内腔靠近顶部处,所述限位机构位于清理机构底部,所述限位机构位于框体内腔前后两侧处,所述框体左侧开设有进料口,所述框体右侧开设有出料口,所述框体内腔左右两侧均固定连接有横板
。
该装置在对集成板做表面处理时,未将从集成板表面扫除的废料进行集中处理,使得废料散落在装置附近,易导致工作环境的不净,且该装置无法对打磨过程中的集成板和打磨头生成的热能进行消散,积聚的热能会对集成板和打磨头造成损害,增加了装置的维护成本
。
技术实现思路
:
[0004]本专利技术提供了一种集成电路制造用表面处理装置,其目的在于解决了现有的集成电路制造用表面处理装置在对集成板 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.
一种集成电路制造用表面处理装置,其特征在于,包含底座
(101)、
集气壳
(102)、
排废盒
(103)、
气泵
(104)、
调温器
(105)
和集气盒
(106)
;所述底座
(101)
上预留着容纳腔
(111)
;所述集气壳
(102)
的下壁和所述底座
(101)
的上壁固定连接固连,所述集气壳
(102)
处在所述容纳腔
(111)
的外侧,所述集气壳
(102)
上预留着进气口
(121)
;所述排废盒
(103)
处在所述底座
(101)
上,所述集气壳
(102)
上固连着所述排废盒
(103)
,所述排废盒
(103)
里面固连着筛分件
(131)
,所述筛分件
(131)
为表面预留着若干个两头贯通的细小圆孔的板材,所述筛分件
(131)
的一头和所述排废盒
(103)
的上壁固连,所述筛分件
(131)
的另一头和所述排废盒
(103)
的左边壁下面固连,所述底座
(101)
上预留着排废孔
(132)
,所述排废孔
(132)
处在所述排废盒
(103)
的下方,所述排废孔
(132)
里面可移动安设着封堵塞
(133)
;所述气泵
(104)
的下壁和所述底座
(101)
固连,所述气泵
(104)
上连通着输送通道一
(141)
和输送通道二
(142)
,所述输送通道一
(141)
和所述排废盒
(103)
相连通;所述调温器
(105)
的下壁和所述底座
(101)
固连,所述气泵
(104)
处在所述调温器
(105)
的左方,所述调温器
(105)
的边壁上安设着调温单元
(151)
,所述调温单元
(151)
用于降低温度的一面朝着所述调温器
(105)
的里部,所述调温器
(105)
的两边壁上各自连通着输送通道三
(152)
和输送通道四
(153)
,所述输送通道二
(142)
和所述输送通道三
(152)
相连通,所述输送通道三
(152)
伸入所述调温器
(105)
的一头连通着输送通道五
(154)
,所述输送通道五
(154)
的另一头和所述输送通道四
(153)
相连通,所述输送通道五
(154)
均匀铺设在所述调温器
(105)
里面的下壁面上;所述集气盒
(106)
处在所述底座
(101)
上,所述容纳腔
(111)
处在所述集气盒
(106)
的左方,所述集气盒
(106)
上预留着出气孔
(161)
,所述出气孔
(161)
和所述集气盒
(106)
的里部相连通,所述集气盒
(106)
上连通有输送通道六
(162)
,所述输送通道六
(162)
的另一头和所述输送通道四
(153)
技术研发人员:宗海洋,
申请(专利权)人:苏州菜根集成电路有限公司,
类型:发明
国别省市:
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