一种用于水热合成硅酸钙的反应釜制造技术

本发明专利技术提供一种用于水热合成硅酸钙的反应釜，包括反应釜本体和搅拌器，所述用于水热合成硅酸钙的反应釜还包括：凹陷部，所述凹陷部设置在所述反应釜本体的底部，所述凹陷部相对于所述反应釜本体的底部向内凹陷；其中，所述搅拌器包括主框架，所述主框架的形状与所述反应釜本体的内壁的形状相符，所述主框架的形状与所述反应釜本体的内壁紧贴，所述主框架的形状也与所述凹陷部的内壁紧贴

【技术实现步骤摘要】
一种用于水热合成硅酸钙的反应釜


[0001]本专利技术涉及化工反应釜
，尤其涉及一种用于水热合成硅酸钙的反应釜
。

技术介绍

[0002]目前，水热合成微孔硅酸钙一般是通过把乳化好的石灰乳液和低模数的水玻璃在反应釜中加热进行合成反应来加以制备
。
[0003]用于水热合成硅酸钙的反应釜，按照加热类型的不同，大体可以分为两种，一种是直接加热方式，把蒸汽直接通进反应釜里，对反应釜里的物料直接加热；另一类是间接加热，一般是把加热管盘绕在反应釜的内壁上，合成的物料靠管壁传导热来加热物料
。
直接加热方式的缺点是物料受热不均匀，再一个是加热蒸汽被冷凝后变成水的量不可控，受物料起始温度
、
浓度的影响比较大，特别是受气候温度的影响也是无法预测的，使得在合成硅酸钙过程中水分的多少不可控，而水分的多少对合成形成的硅酸钙晶体生长的快慢
、
大小和晶形结构都有影响
。
间接加热方式一般是把加热管缠绕在反应釜内壁，它的优点是加热均匀，但最大缺点是反应釜使用十几次，就被物料把加热管给粘上，厚度可达
10
多公分，导致加热时间逐渐增加，能耗逐渐增加，反应合成也不充分了
。
这是由于硅酸钙物料含碱，粘性还特别大，因而容易粘附在反应釜内壁，清理起来也比较困难，另外硅酸钙物料具有很强的隔热保温性，所以导致加热时间增加
。
也有将加热管缠绕在反应釜外壁的，但是基于硅酸钙物料本身的性质，即便将加热管缠绕在反应釜外壁，硅酸钙物料也容易粘附在反应釜内壁上
。
[0004]本专利技术试图提供一种用于水热合成硅酸钙的反应釜，实现对釜内物料均匀加热，同时减少硅酸钙物料在反应釜内壁上的粘附
。

技术实现思路

[0005]本专利技术试图提供一种用于水热合成硅酸钙的反应釜，实现对釜内物料均匀加热，同时减少硅酸钙物料在反应釜内壁上的粘附
。
[0006]本专利技术提供一种用于水热合成硅酸钙的反应釜，包括反应釜本体和搅拌器，所述用于水热合成硅酸钙的反应釜还包括：凹陷部，所述凹陷部设置在所述反应釜本体的底部，所述凹陷部相对于所述反应釜本体的底部向内凹陷；其中，所述搅拌器包括主框架，所述主框架的形状与所述反应釜本体的内壁的形状相符，所述主框架的形状与所述反应釜本体的内壁紧贴，所述主框架的形状也与所述凹陷部的内壁紧贴
。
[0007]进一步的，所述用于水热合成硅酸钙的反应釜，还包括加热套，所述加热套包围所述反应釜本体，所述加热套与所述反应釜本体间隔一定间隙，所述加热套与所述反应釜本体之间的间隙用于令加热介质通过以从所述反应釜本体的外部对所述反应釜本体进行加热
。
[0008]进一步的，所述加热介质包括用于水浴加热的水
、
用于油浴加热的油或用于砂浴加热的砂
。
[0009]进一步的，所述用于水热合成硅酸钙的反应釜，还包括加热管，所述加热管用于对所述反应釜本体进行加热，所述加热管缠绕在所述反应釜本体上，所述加热管缠绕在所述凹陷部上
。
[0010]进一步的，所述加热管包括电磁加热丝或电阻加热丝
。
[0011]进一步的，所述加热管的与所述反应釜本体相对的一侧包裹有保温材料
。
[0012]进一步的，所述主框架上设置有向内延伸的搅拌桨叶
。
[0013]根据本专利技术的提供的用于水热合成硅酸钙的反应釜，通过设置凹陷部，增加了反应釜本体的加热面积，实现对釜内物料均匀加热；通过将搅拌器设置为与反应釜本体内壁紧贴，对粘附在内壁上的硅酸钙物料进行有效清理，减少硅酸钙物料在反应釜内壁上的粘附
。
附图说明
[0014]图1所示为本专利技术的用于水热合成硅酸钙的反应釜的剖视示意图
。
[0015]图2所示为本专利技术第一实施例的用于水热合成硅酸钙的反应釜的剖视示意图
。
[0016]图3所示为本专利技术第二实施例的用于水热合成硅酸钙的反应釜的剖视示意图
。
[0017]附图标记：
[0018]100
：本专利技术的用于水热合成硅酸钙的反应釜；
[0019]1：反应釜本体；
11
：凹陷部；2：搅拌器；
21
：主框架；
[0020]3：保护套；
31
：加热介质；4：加热管
。
具体实施方式
[0021]为使对本专利技术的目的
、
构造
、
特征
、
及其功能有进一步的了解，兹配合实施例详细说明如下
。
[0022]图1所示为本专利技术的用于水热合成硅酸钙的反应釜的剖视示意图
。
如图1所示，本专利技术提供一种用于水热合成硅酸钙的反应釜
100
，包括反应釜本体1和搅拌器2，用于水热合成硅酸钙的反应釜
100
还包括：凹陷部
11
，凹陷部
11
设置在反应釜本体1的底部，如图1所示，凹陷部
11
设置在反应釜本体1的底部的中心位置，凹陷部
11
相对于反应釜本体1的底部向内凹陷；其中，搅拌器2包括主框架
21
，主框架
21
的形状与反应釜本体1的内壁的形状相符，主框架
21
的形状与反应釜本体1的内壁紧贴，主框架
21
的形状也与凹陷部
11
的内壁紧贴
。
[0023]现有的间接加热方式中，不管是将加热管设置在反应釜本体的内壁还是反应釜本体的外壁，都是反应釜本体内部靠近边壁的位置首先受热进而首先反应，而反应生成的硅酸钙又是一种隔热保温物质，在边壁上形成的硅酸钙会影响边壁的热量向反应釜本体内部传递
。
[0024]在本专利技术中，在反应釜本体1的底部中心位置设置了凹陷部
11
，使得反应釜本体1内部的中心位置也能受到边壁加热的影响，促进了反应釜本体内部各处物料的加热均匀；同时通过将搅拌器2的主框架
21
设置为与反应釜本体1的内壁紧贴且与凹陷部
11
的内壁紧贴，这样，在搅拌器2的主框架
21
的搅拌之下，在反应釜本体1的内壁
(
包括凹陷部
11
的内壁
)
上形成的硅酸钙就会迅速地被主框架
21
刮除，不至于在边壁上累积影响热量传递
。
因此，本专利技术大大提升了釜内物料的受热均匀性，并且能够有效刮除在边壁上形成的硅酸钙
。
[0025]进一步的，主框架2上可以设置有向内延伸的搅拌桨叶
(
图中未示出
)。
通过在主框架2上设置向内延伸的搅拌桨叶，不仅增加了搅拌器2的搅拌能力，改善了物料分布的均匀性，而且由于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种用于水热合成硅酸钙的反应釜，包括反应釜本体和搅拌器，其特征在于，所述用于水热合成硅酸钙的反应釜还包括：凹陷部，所述凹陷部设置在所述反应釜本体的底部，所述凹陷部相对于所述反应釜本体的底部向内凹陷；其中，所述搅拌器包括主框架，所述主框架的形状与所述反应釜本体的内壁的形状相符，所述主框架的形状与所述反应釜本体的内壁紧贴，所述主框架的形状也与所述凹陷部的内壁紧贴
。2.
根据权利要求1所述的用于水热合成硅酸钙的反应釜，其特征在于，还包括加热套，所述加热套包围所述反应釜本体，所述加热套与所述反应釜本体间隔一定间隙，所述加热套与所述反应釜本体之间的间隙用于令加热介质通过以从所述反应釜本体的外部对所述反应釜本体进行加热
。3.
根据权利要求2所述的用于水热合成硅酸钙的反应釜，其特征在于，所述加热介质包括用于水浴加热的水
、
用于油浴加热的油...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫祖升，朱鸿，
申请(专利权)人：山西钙基新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：