一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备，包括清洗干燥一体机体和转动万向轮，所述转动万向轮安装固定在清洗干燥一体机体的下端四个拐角处上，所述清洗干燥一体机体的前端设置有控制面板，所述清洗干燥一体机体的上端右侧设置有干燥腔室，所述干燥腔室的内侧设置有热风干燥机，所述清洗干燥一体机体的上端左侧设置有超声清洗腔室，所述超声清洗腔室的内侧设置有清洗存储框，所述清洗存储框的内侧设置有砷化镓晶片工件，所述清洗存储框的上端设置有悬吊臂板

【技术实现步骤摘要】
一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备


[0001]本技术涉及半导体领域，尤其涉及一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备
。

技术介绍

[0002]砷化镓是一种重要的半导体材料，通过砷化镓可以加工呈砷化镓晶片，砷化镓晶片在加工呈半导体晶片材料后，从而就需要进行清洗，这样就需要用到砷化镓晶片清洗干燥一体设备
。
[0003]现有砷化镓晶片清洗干燥一体设备在使用时，砷化镓晶片在清洗时，不能有效摆动，从而晃动掉砷化镓晶片上方附着的污渍在进行干燥，这样在干燥后，污渍还是会附着在砷化镓晶片上的问题
。

技术实现思路

[0004]本技术公开一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备，旨在解决现有砷化镓晶片清洗干燥一体设备在使用时，砷化镓晶片在清洗时，不能有效摆动，从而晃动掉砷化镓晶片上方附着的污渍在进行干燥，这样在干燥后，污渍还是会附着在砷化镓晶片上的技术问题
。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备，包括清洗干燥一体机体和转动万向轮，所述转动万向轮安装固定在清洗干燥一体机体的下端四个拐角处上，所述清洗干燥一体机体的前端设置有控制面板，所述清洗干燥一体机体的上端右侧设置有干燥腔室，所述干燥腔室的内侧设置有热风干燥机，所述清洗干燥一体机体的上端左侧设置有超声清洗腔室，所述超声清洗腔室的内侧设置有清洗存储框，所述清洗存储框的内侧设置有砷化镓晶片工件，所述清洗存储框的上端设置有悬吊臂板，所述悬吊臂板的右端位于清洗干燥一体机体上设置有升降旋转机构，所述升降旋转机构
、
热风干燥机和控制面板通过连接线电性连接，且所述控制面板与外部电源电性连接
。
[0007]通过设置有转动万向轮结构，从而清洗干燥一体机体便于移动到指定位置上进行放置使用，清洗时，人员将砷化镓晶片工件放置在清洗存储框上，悬吊臂板因升降旋转机构的升降和旋转，从而清洗存储框带动砷化镓晶片工件套入到超声清洗腔室中，这样在超声清洗腔室中可以超声波清洗，清洗中，清洗存储框因升降旋转机构可以摆动位置，这样清洗存储框中砷化镓晶片工件清洗的污渍可以分离出来，避免污渍附着在砷化镓晶片工件的外侧上，而后升降旋转机构带动悬吊臂板升降和旋转的调节，从而清洗存储框可以带动清洗后的砷化镓晶片工件套入到干燥腔室中，经过干燥腔室中的热风干燥机便于干燥处理
。
[0008]在一个优选的方案中，所述清洗存储框包括存放腔
、
悬吊臂杆
、
外侧方块和存储框外壳，所述悬吊臂杆的下端设置有外侧方块，所述外侧方块的内端设置有存储框外壳，所述存储框外壳的内部设置有存放腔，所述悬吊臂杆连接在悬吊臂板上
。
[0009]通过设置有清洗存储框结构，从而便于存放物品进行清洗
。
[0010]在一个优选的方案中，所述热风干燥机包括热风加热机体
、
热风罩和热气输送管，
所述热风加热机体的上端设置有热气输送管，所述热气输送管的外端设置有热风罩，所述热风罩连接在清洗干燥一体机体上
。
[0011]通过设置有热风干燥机结构，从而便于干燥使用
。
[0012]在一个优选的方案中，所述升降旋转机构包括电动伸缩缸
、
安装圆盘和旋转电机，所述电动伸缩缸的上端周侧设置有安装圆盘，所述电动伸缩缸的活塞杆上端设置有旋转电机，所述旋转电机连接在悬吊臂板上，所述电动伸缩缸通过安装圆盘连接在清洗干燥一体机体上
。
[0013]通过设置有升降旋转机构结构，从而便于改变高度位置和旋转使用
。
[0014]在一个优选的方案中，所述悬吊臂板包括联轴器
、
臂板外壳和连接端杆，所述臂板外壳的右端下侧设置有连接端杆，所述连接端杆的下端设置有联轴器，所述联轴器连接在升降旋转机构上
。
[0015]通过设置有悬吊臂板结构，从而便于安装连接使用
。
[0016]在一个优选的方案中，所述清洗存储框和悬吊臂板通过螺钉连接，且所述清洗存储框和悬吊臂板的连接处设置有密封胶垫
。
[0017]通过设置有悬吊臂板结构，从而悬吊臂板在转动和高度位置改变时，这样清洗存储框便于转动和改变高度位置
。
[0018]在一个优选的方案中，所述升降旋转机构位于清洗干燥一体机体的上端中间凹槽中，且所述升降旋转机构和清洗干燥一体机体通过螺钉连接
。
[0019]通过设置有清洗干燥一体机体结构，从而升降旋转机构便于安装放置使用
。
[0020]由上可知，一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备，包括清洗干燥一体机体和转动万向轮，所述转动万向轮安装固定在清洗干燥一体机体的下端四个拐角处上，所述清洗干燥一体机体的前端设置有控制面板，所述清洗干燥一体机体的上端右侧设置有干燥腔室，所述干燥腔室的内侧设置有热风干燥机，所述清洗干燥一体机体的上端左侧设置有超声清洗腔室，所述超声清洗腔室的内侧设置有清洗存储框，所述清洗存储框的内侧设置有砷化镓晶片工件，所述清洗存储框的上端设置有悬吊臂板，所述悬吊臂板的右端位于清洗干燥一体机体上设置有升降旋转机构，所述升降旋转机构
、
热风干燥机和控制面板通过连接线电性连接，且所述控制面板与外部电源电性连接
。
本技术提供的砷化镓晶片清洗干燥一体设备具有摆动去除清洗后的污渍，从而避免干燥后污渍再次附着的技术效果
。
附图说明
[0021]图1为本技术提出的一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备的立体结构示意图
。
[0022]图2为本技术提出的一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备的清洗存储框结构示意图
。
[0023]图3为本技术提出的一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备的热风干燥机结构示意图
。
[0024]图4为本技术提出的一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备的升降旋转机构结构示意图
。
[0025]图5为本技术提出的一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备的悬吊臂板结构示意图
。
[0026]附图中：
1、
砷化镓晶片工件；
2、
清洗存储框；
21、
存放腔；
22、
悬吊臂杆；
23、
外侧方块；
24、
存储框外壳；
3、
悬吊臂板；
31、
联轴器；
32、
臂板外壳；
33、
连接端杆；
4、
升降旋转机构；
41、
电动伸缩缸；
42、
安装圆盘；
43、
旋转电机；
5、
干燥腔室；
6、
清洗干燥一体机体；
7、
控制面板；
8、
转动万向轮；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备，包括清洗干燥一体机体
(6)
和转动万向轮
(8)
，其特征在于，所述转动万向轮
(8)
安装固定在清洗干燥一体机体
(6)
的下端四个拐角处上，所述清洗干燥一体机体
(6)
的前端设置有控制面板
(7)
，所述清洗干燥一体机体
(6)
的上端右侧设置有干燥腔室
(5)
，所述干燥腔室
(5)
的内侧设置有热风干燥机
(10)
，所述清洗干燥一体机体
(6)
的上端左侧设置有超声清洗腔室
(9)
，所述超声清洗腔室
(9)
的内侧设置有清洗存储框
(2)
，所述清洗存储框
(2)
的内侧设置有砷化镓晶片工件
(1)
，所述清洗存储框
(2)
的上端设置有悬吊臂板
(3)
，所述悬吊臂板
(3)
的右端位于清洗干燥一体机体
(6)
上设置有升降旋转机构
(4)
，所述升降旋转机构
(4)、
热风干燥机
(10)
和控制面板
(7)
通过连接线电性连接，且所述控制面板
(7)
与外部电源电性连接
。2.
根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备，其特征在于，所述清洗存储框
(2)
包括存放腔
(21)、
悬吊臂杆
(22)、
外侧方块
(23)
和存储框外壳
(24)
，所述悬吊臂杆
(22)
的下端设置有外侧方块
(23)
，所述外侧方块
(23)
的内端设置有存储框外壳
(24)
，所述存储框外壳
(24)
的内部设置有存放腔
(21)
，所述悬吊臂杆
(22)
连接在悬吊臂板
(3)
上
。3.
根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片清洗干燥一体设备，其特征在于，所述热风干燥机
(10)
包括热风加热机体
(101)、
热风罩
(102)

【专利技术属性】
技术研发人员：李国庆，
申请(专利权)人：北京上鼎嘉成科技有限公司，
类型：新型
国别省市：