硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构制造技术

本实用新型专利技术公开了硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构，关于硅太阳能电池生产技术领域，包括主管体，所述主管体上安装有多组喷淋管，所述喷淋管上安装有控制阀，所述控制阀的一端固定连接有分水管，所述分水管的下方安装有调节结构，所述调节结构包括固定套筒

【技术实现步骤摘要】
硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构


[0001]本技术是关于硅太阳能电池生产
，特别是关于硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构
。

技术介绍

[0002]硅太阳能电池生产过程中，硅片刻蚀是重要的步骤之一，刻蚀工艺是在扩散工艺之后，目的是将多晶硅片四周经扩散工艺产生的
PN
结去除，以免产生短路
。
[0003]晶体硅太阳能电池一般采用干法和湿法两种刻蚀方法，干法刻蚀也叫等离子刻蚀，即采用等离子体轰击的方法进行的刻蚀
。
湿法刻蚀顾名思义就是在刻蚀的过程中硅片表面是湿的，也就是使用化学品进行刻蚀的方法
。
[0004]硅太阳能电池生产中的湿刻蚀方法，需要水膜保护，即在硅片的扩散面上通过水喷淋系统喷淋去离子水，形成水膜保护层，该水膜保护层一直持续存在，直到硅片完成刻蚀步骤
。
[0005]目前，喷淋系统中的喷头位置固定不变，所以喷淋位置和喷淋范围一定，由于硅片规格多样，这就导致在对小规格的硅片喷淋时，去离子水会有部分直接落入下方水槽中，导致水的浪费，在对大规格的硅片喷淋时，会由于喷水范围不够大而无法对硅片进行均匀全面的喷淋，影响硅片的刻蚀效果
。
[0006]因此，针对上述技术问题，有必要提供可调节的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构
。

技术实现思路

[0007]本技术的目的在于提供硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构，其能够解决不方便对不同规格的硅片均匀喷淋去离子水的问题
。
[0008]为实现上述目的，本技术提供了硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构，包括主管体，所述主管体上安装有多组喷淋管，所述喷淋管上安装有控制阀，所述控制阀的一端固定连接有分水管，所述分水管的下方安装有调节结构，所述调节结构包括固定套筒
、
插杆
、
锁紧旋钮和连杆，所述调节结构上安装有多组小喷头
。
[0009]在一个或多个实施方式中，所述固定套筒固定连接在分水管的底端，所述插杆插接在固定套筒的内部，所述插杆在固定套筒的内部构成伸缩结构
。
[0010]在一个或多个实施方式中，所述小喷头的一端与固定套筒活动铰接，所述连杆的两端分别与小喷头和插杆活动铰接
。
[0011]在一个或多个实施方式中，所述固定套筒的一侧开设有螺孔，所述螺孔的内部贯穿有螺杆，所述螺杆的一侧贯穿至固定套筒的内部并与插杆相顶紧
。
[0012]在一个或多个实施方式中，所述锁紧旋钮固定连接在螺杆的一侧，所述锁紧旋钮外表面上设置有防滑纹路
。
[0013]在一个或多个实施方式中，所述插杆与分水管之间固定连接有输水管，所述插杆通过输水管与分水管内部相连通
。
[0014]在一个或多个实施方式中，所述输水管为透明的塑胶软管
。
[0015]在一个或多个实施方式中，多组所述小喷头呈伞状排列
。
[0016]与现有技术相比，根据本技术的有益效果为：
[0017]本技术利用多组小喷头组装成为一个独立的伞状喷头，该独立的伞状喷头不仅喷淋范围较大，能够更加均匀全面的对硅片进行喷淋，而且伞状开口的大小可以灵活调整，方便对不同规格的硅片喷淋去离子水，不会造成水的浪费
。
附图说明
[0018]图1是根据本技术一实施方式的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构结构示意图一
。
[0019]图2是根据本技术一实施方式的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构结构示意图二
。
[0020]图3是根据本技术一实施方式的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构正视结构图
。
[0021]图4是根据本技术一实施方式的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构调节结构仰视图
。
[0022]图5是根据本技术一实施方式的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构侧视图
。
[0023]主要附图标记说明：
[0024]1、
主管体；
2、
喷淋管；
3、
控制阀；
4、
小喷头；
5、
固定套筒；
6、
插杆；
7、
锁紧旋钮；
8、
连杆；
9、
输水管；
10、
分水管
。
具体实施方式
[0025]下面结合附图，对本技术的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本技术的保护范围并不受具体实施方式的限制
。
[0026]除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分
。
[0027]如图1至图5所示，根据本技术一实施方式的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构，包括主管体1，主管体1上安装有多组喷淋管2，主管体1用于给多组喷淋管2分配供给去离子水
。
喷淋管2上安装有控制阀3，控制阀3可采用球阀
、
蝶阀
、
闸阀
、
截止阀中的一种，用于控制去离子水的喷淋速度以及喷水量
。
[0028]参图1～3所示，控制阀3的一端固定连接有分水管
10
，分水管
10
一端与控制阀3内部相连通，另一端呈封闭状
。
分水管
10
的下方安装有调节结构，调节结构包括固定套筒
5、
插杆
6、
锁紧旋钮7和连杆8，调节结构上安装有多组小喷头
4。
多组小喷头4呈伞状排列
。
通过调节结构垂直运动能够同时调节多组小喷头4组成的伞状结构喷头的开口大小，从而调节去离子水的喷淋范围
。
[0029]参图3～5所示，固定套筒5固定连接在分水管
10
的底端，插杆6插接在固定套筒5的内部，插杆6在固定套筒5的内部构成伸缩结构
。
其中，固定套筒5为正多边形的筒体，插杆6为正多边形的杆体
。
小喷头4的一端与固定套筒5活动铰接，连杆8的两端分别与小喷头4和插杆6活动铰接
。
小喷头4可根据使用需求设置多组，分别铰接在固定套筒5的多个面上，连杆8与小喷头4之间一一对应，连杆8用于对小喷头4进行支撑
。
[0030]具体的，参图4和图5所示，当推拉插杆6在固定套筒5内部伸缩时，连杆8的倾斜角
度会逐渐发生变化，从而利用伞状结构开合的原理，能够同时带动多组小喷头4向外扩展或向内收缩，进而调节伞状喷头结构的开合大小，以实现对喷淋范围的调整，以便根据刻蚀工艺中不同规格的硅片进行喷淋
。
[0031]参图1～3所示，固定套筒5的一侧开设有螺孔，螺孔的内部贯穿有螺杆，螺杆的一侧贯穿至固定套筒5的内部并与插杆6相顶紧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构，包括主管体，其特征在于，所述主管体上安装有多组喷淋管，所述喷淋管上安装有控制阀，所述控制阀的一端固定连接有分水管，所述分水管的下方安装有调节结构，所述调节结构包括固定套筒
、
插杆
、
锁紧旋钮和连杆，所述调节结构上安装有多组小喷头
。2.
如权利要求1所述的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构，其特征在于，所述固定套筒固定连接在分水管的底端，所述插杆插接在固定套筒的内部，所述插杆在固定套筒的内部构成伸缩结构
。3.
如权利要求2所述的硅片湿刻蚀工艺水喷淋结构，其特征在于，所述小喷头的一端与固定套筒活动铰接，所述连杆的两端分别与小喷头和插杆活动铰接
。4.
如权利要求2...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔天元，张帅，张龙，
申请(专利权)人：江苏龙恒新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：