光学防伪元件的制备方法和光学防伪元件技术

本发明专利技术提供了一种光学防伪元件的制备方法和光学防伪元件

【技术实现步骤摘要】
光学防伪元件的制备方法和光学防伪元件


[0001]本专利技术涉及光学防伪
，具体而言，涉及一种光学防伪元件的制备方法和光学防伪元件
。

技术介绍

[0002]为了防止利用扫描和复印等手段产生的伪造，钞票
、
金融票据等各类高安全或高附加值产品中广泛采用了光学防伪技术，并且取得了非常好的效果
。
目前，引人注目的新一代技术是将微透镜阵列与微图文阵列相结合实现莫尔放大
。
一些现有的光学防伪元件公开了一种在基材层的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的光学防伪元件，其中，微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近，通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用，能实现多种视觉效果，例如
1)
将原本无法用肉眼直接观察的微图文放大至可直接观察，
2)
观察到放大微图文沿与之垂直方向的正交移动，
3)
观察到放大微图文产生浮出或沉陷基材层的效果，
4)
运动变形：观察到的放大微图文在移动过程中还可出现大小
、
形状的变化
。
[0003]为保证莫尔放大的图案在不同的环境光源条件下都易于识别，需要通过对微图文着色以确保微图文阵列及其背景有足够的颜色对比度
。
由于所需的微图文阵列的结构非常精细
(
约几个微米
)
，所以一般通过特殊的方法实现着色
。
这些着色方法可以分为三类
。
一类方法用带有微图文的凸版在透明
UV
光油表面压印数微米的凹陷；利用涂布工艺将着色油墨填充至凹陷中，而微图文区域之外的背景区域上的多余油墨通过刮除的方式去除
。
另一类采用微印刷的方式通过将油墨填充在带有微文字的凹版中，并擦除版辊表面多余的油墨，然后透过带有
UV
涂层的基材层转移带有微文字的油墨
。
以上方式均需要专有的定制设备及特殊的加工工艺，并且难以形成金属镀层和油墨相结合的效果，如背景是金属镀层的颜色，微文字是一种或几种油墨形成的颜色
。
在此基础上，第三类方法通过将特定的微结构和涂敷在镀层之上的保护涂层相结合的方式，使特定微结构区域的保护涂层的厚度不足够实现对镀层如铝的保护，进而能够通过碱洗或酸洗的方式溶解铝镀层，形成具有一定分辨度的微文字
。
由于镂空微结构的设计限制，上述方法仍不能实现适用于球透镜的如4微米以下笔划宽度的微文字，且特定设计的脱铝镂空结构和特殊设计的镀铝保护层均具有一定的技术复杂度
。
[0004]也就是说，现有技术中的光学防伪元件存在实现困难的问题
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的主要目的在于提供一种光学防伪元件的制备方法和光学防伪元件，以解决现有技术中的光学防伪元件存在实现困难的问题
。
[0006]为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种光学防伪元件的制备方法，包括：步骤
S1
：获取基材层；步骤
S2
：在基材层的一侧表面上设置模压成型层，模压成型层包括具有高度差的第一表面和第二表面，第二表面相对于第一表面凹向基材层设置，第二表面形成凹槽；步骤
S3
：在凹槽中填充水溶性材料；步骤
S4
：在模压成型层远离基材层的
一侧沉积镀层；步骤
S5
：采用水洗方式去除凹槽中的水溶性材料及水溶性材料上的镀层；步骤
S6
：在镀层远离模压成型层的一侧印刷着色层
。
[0007]进一步地，光学防伪元件的制备方法还包括在步骤
S5
和步骤
S6
之间的步骤：在镀层远离模压成型层的一侧设置透明间隔层
。
[0008]进一步地，在步骤
S3
中还包括填充水溶性材料后的步骤：去除第一表面上的水溶性材料
。
[0009]进一步地，在步骤
S4
中，镀层包括金属镀层和光变镀层中的一种
。
[0010]进一步地，在步骤
S2
中，设置第一表面和
/
或第二表面的宽度在小于4微米的范围
。
[0011]进一步地，在步骤
S2
中，设置第一表面和第二表面之间的高度差大于等于1微米
。
[0012]进一步地，在步骤
S2
中，采用紫外光固化模压的方式获得模压成型层
。
[0013]进一步地，采用涂敷后刮除的方式实现步骤
S3。
[0014]进一步地，在步骤
S4
中，沉积镀层采用热蒸发沉积方式
、
电子束蒸发沉积方式
、
磁控溅射沉积方法中的至少一种方式实现；和
/
或调整镀层厚度为
10nm
‑
800nm。
[0015]进一步地，在步骤
S5
中，水洗方式可采用水洗干燥设备实现
。
[0016]进一步地，所述制备方法还包括在步骤
S6
后的步骤：在基材层的另一侧表面上形成采样合成层
。
[0017]根据本专利技术的另一方面，提供了一种光学防伪元件，光学防伪元件采用上述的光学防伪元件的制备方法制作而成
。
[0018]应用本专利技术的技术方案，光学防伪元件的制备方法包括：步骤
S1
：获取基材层；步骤
S2
：在基材层的一侧表面上设置模压成型层，模压成型层包括具有高度差的第一表面和第二表面，第二表面相对于第一表面凹向基材层设置，第二表面形成凹槽；步骤
S3
：在凹槽中填充水溶性材料；步骤
S4
：在模压成型层远离基材层的一侧沉积镀层；步骤
S5
：采用水洗方式去除凹槽中的水溶性材料及水溶性材料上的镀层；步骤
S6
：在镀层远离模压成型层的一侧印刷着色层
。
[0019]通过在凹槽中填充水溶性材料，并采用水洗方式去除凹槽中的水溶性材料及水溶性材料上的镀层，使得最终能够呈现高分辨率的微文字，进一步通过印刷着色层可形成具有印刷颜色与镀层颜色对比度的高分辨微文字
。
通过本申请的光学防伪元件的制备方法能够加工出由镀层和着色层形成的高分辨度及高颜色对比度的光学防伪元件，尤其适合于球透镜阵列成像用的微文字阵列，并且通过该便捷方法及较为成熟的设备，能够实现高效
、
稳定的生产，大大降低了光学防伪元件制备的难度
。
附图说明
[0020]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定
。
在附图中：
[0021]图1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种光学防伪元件的制备方法，其特征在于，包括：步骤
S1
：获取基材层
(10)
；步骤
S2
：在所述基材层
(10)
的一侧表面上设置模压成型层
(20)
，所述模压成型层
(20)
包括具有高度差的第一表面
(22)
和第二表面
(23)
，所述第二表面
(23)
相对于所述第一表面
(22)
凹向所述基材层
(10)
设置，所述第二表面
(23)
形成凹槽
(21)
；步骤
S3
：在所述凹槽
(21)
中填充水溶性材料
(30)
；步骤
S4
：在所述模压成型层
(20)
远离所述基材层
(10)
的一侧沉积镀层
(40)
；步骤
S5
：采用水洗方式去除所述凹槽
(21)
中的所述水溶性材料
(30)
及所述水溶性材料
(30)
上的镀层
(40)
；步骤
S6
：在所述镀层
(40)
远离所述模压成型层
(20)
的一侧印刷着色层
(60)。2.
根据权利要求1所述的光学防伪元件的制备方法，其特征在于，所述光学防伪元件的制备方法还包括在所述步骤
S5
和所述步骤
S6
之间的步骤：在所述镀层
(40)
远离所述模压成型层
(20)
的一侧设置透明间隔层
(50)。3.
根据权利要求1所述的光学防伪元件的制备方法，其特征在于，在所述步骤
S3
中还包括填充水溶性材料
(30)
后的步骤：去除所述第一表面
(22)
上的所述水溶性材料
(30)。4.
根...

【专利技术属性】
技术研发人员：蹇钰，吴远启，沈为之，张宝利，孙凯，
申请(专利权)人：中国印钞造币集团有限公司，
类型：发明
国别省市：