用于光学可变的防伪元件的制造方法技术

技术编号:35094074 阅读:18 留言:0更新日期:2022-10-01 16:55
本发明专利技术涉及一种用于制造用于为贵重物品提供安全保障的防伪元件的方法,所述防伪元件包含具有第一和第二特征区域(30、40)的特征层(24),在所述第一和第二特征区域中存在不同的第一或第二压印漆层。在所述方法中,将第一压印漆(42)的亲水层在第一特征区域(40)中施加在载体(90)上,并且所施加的层被压印出产生第一光学效果的压印结构(44)并且硬化。在印刷工具(94)上提供不同的第二压印漆(32)的层,并且在印刷步骤中将印刷工具(94)与载体(90)接触并且由此传递第二压印漆(32)。并且由此传递第二压印漆(32)。并且由此传递第二压印漆(32)。

【技术实现步骤摘要】
用于光学可变的防伪元件的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种用于为贵重物品提供安全保障的光学可变的防伪元件的制造方法,所述防伪元件包含载体和具有第一和第二特征区域的特征层,在所述第一和第二特征区域中存在不同的第一或第二压印漆层。

技术介绍

[0002]诸如有价文件或证件文件之类的数据载体以及其它的贵重物品如名牌商品通常配设有防伪元件以用于提供安全保障,防伪元件可以核实数据载体的真实性并且同时用作防止未经许可的复制的保护。防伪元件例如可以设计为嵌入钞票中的防伪线、用于具有孔的钞票的覆盖膜、施加的防伪条、自支承式的转移元件的形式或者也可以设计为直接施加在有价文件上的特征区域的形式。
[0003]在一段时间之前建议了光学可变的防伪元件,所述防伪元件具有两个布置在不同的高度等级中并且分别配设有颜色涂层的凸纹结构,所述凸纹结构压印在匹配地染色的压印漆层中,参见WO 2020/011390 A1、WO 2020/011391 A1和WO 2020/011392 A1。然而在此,为了观察较低的凸纹结构,观察者通常必须透过较高的凸纹结构的压印漆层观察,因此根据期望的视觉印象对于压印漆、尤其是较高的压印漆层的压印漆的着色可能存在较大限制。
[0004]如果在制造这种防伪元件时将多种印刷油墨或者压印漆层施加在基底上,则印刷机中的不可避免的套准波动阻碍了层在平面中精确地套准(Passerung)到小于约50μm。在此,这些套准波动既可能沿着被印刷的幅面纵向地也可能横向于被印刷的幅面地出现。

技术实现思路

>[0005]由此出发,本专利技术所要解决的技术问题在于,提供一种方法,通过所述方法能够制造按照本专利技术所述类型的光学可变的防伪元件,所述防伪元件具有不同的第一和第二压印漆层的较高的套准精度。
[0006]该技术问题按本专利技术通过用于制造用于为贵重物品提供安全保障的防伪元件的方法解决。
[0007]为了解决所述技术问题,本专利技术提供一种用于制造用于防伪元件的方法,所述防伪元件尤其可以用于为贵重物品提供安全保障。待制造的防伪元件包含具有第一和第二特征区域的特征层,在所述第一和第二特征区域中存在不同的第一或第二压印漆层。
[0008]在本专利技术的第一方面中,在所述方法中,将第一压印漆的亲水层在第一特征区域中施加在载体上,所施加的层被压印出产生第一光学效果的压印结构并且硬化。
[0009]进一步地在印刷工具(Druckwerkzeug)上提供不同的第二压印漆的层,并且在印刷步骤中将印刷工具与载体接触并且由此传递(
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bertragen)第二压印漆。
[0010]载体可以持久地保留在防伪元件中或者其可以是制造载体,在将防伪元件转移至目标基底上之后,再将所述制造载体从防伪元件上取下。
[0011]在印刷步骤中,将第二压印漆有利地只传递到没有涂覆亲水的压印漆的第二特征区域中。
[0012]在印刷工具上有利地整面地或者说在整个表面上提供所述不同的第二压印漆的层。
[0013]优选在印刷步骤之前用第一压印漆层湿润所述载体并且在此将湿润剂只传递到第一特征区域的亲水的第一压印漆层上。
[0014]第二特征区域优选是具有疏水表面的区域。
[0015]在一种有利的方法导引中,在所述印刷步骤中,在柔性的印刷工具、尤其是具有能压缩的元件的印刷滚筒上提供第二压印漆的层,所述柔性的印刷工具通过由已经硬化的第一漆层产生的压力尖端局部地变形。
[0016]在其它同样有利的方法导引中,在所述印刷步骤中,在印刷工具、尤其是硬的印刷滚筒上提供第二压印漆的层,并且为了产生反压力使用软的顶压辊(Presseur),所述顶压辊通过由已经硬化的第一漆层产生的压力尖端局部地变形。
[0017]在另一同样有利的方法导引中,在载体上设置有柔性的补偿层,所述补偿层在印刷步骤中通过由已经硬化的第一漆层产生的压力尖端局部地变形。
[0018]在一种有利的设计方案中,第一压印漆被结构化地施加、例如结构化地印刷在第一特征区域中。然而也可行的是,所述第一压印漆首先被整面地施加并且随即例如通过腐蚀(或者说蚀刻)步骤区域性地再被移除,以便由此实现期望的结构化。在以下情况下可以实现特别高的分辨率,即所述第一压印漆按照一种有利的设计首先被整面地施加在载体上(或者说施加在载体的整个表面)并且随即通过无残留(r
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ckstandfrei)压印方法通过结构化的压印模具的靠近而被结构化为润湿的第一特征区域和去润湿(entnetzt)的第二特征区域,其中,同时通过结构化的压印模具为润湿的第一特征区域压印产生第一光学效果的压印结构。
[0019]第一压印漆的硬化可以有利地通过辐射作用、尤其是通过UV(紫外线)照射、但也可以通过IR(红外线)照射或者电子束的加载实现。使用UV硬化的压印漆尤其在以下情况下是有利的,即压印漆通过所述的无残留压印方法高分辨率地被结构化。
[0020]按照本专利技术的第二方面,在所述方法中,将具有较低的表面能的第一压印漆层在第一特征区域中施加在载体上,所施加的层被压印出产生第一光学效果的压印结构并且硬化。
[0021]随即整面地施加具有较低的粘度和较高的表面张力的不同的第二压印漆的层,并且使得第二压印漆从涂覆有第一压印漆的第一特征区域去润湿到第二特征区域中。
[0022]必要时重复所述施加和去润湿过程,以便在第二特征区域中收集足够用于压印的量的第二压印漆。
[0023]在本专利技术的第二方面中,载体也可以持久地保留在防伪元件中或者其可以是制造载体,在将防伪元件转移至目标基底上之后,再将所述制造载体从防伪元件上取下。
[0024]在本专利技术的两个方面中,有利地将第二压印结构压印到第二压印漆的压印漆层中,所述第二压印结构产生第二光学效果。在此有利地将第二压印结构只传递到第二压印漆层中,方式为优选地在防伪元件的层结构中使用柔性的压印模具、软的压印顶压辊或者柔性的补偿层,以便将第二压印结构只传递到第二压印漆层中。
[0025]第一和第二压印漆层的压印结构有利地处于基本上相同的高度上,这尤其表示,两个压印结构的中间高度相差不大于每个压印结构内部的高度差。
[0026]在两个方面中优选的是,所述两种压印漆具有不同的固化特性,压印漆还特别优选地具有不同的光学特性。
[0027]作为压印漆可以分别施加通过物理干燥硬化的漆、尤其是热塑性压印漆。如果第一和第二压印漆分别通过热塑性压印漆形成,则所述第一和第二压印漆有利地具有不同的软化温度,所述软化温度优选相差大于10℃、特别优选相差大于25℃、尤其相差大于50℃。
[0028]在两个方面的同样有利的设计方案中规定,作为一种压印漆施加辐射硬化的、尤其是UV硬化的压印漆并且作为另一种压印漆施加热塑性压印漆。
[0029]压印漆尤其能够以不同颜色、不同透明度和/或不同辉度被施加。所述压印漆在此优选上光地染色并且因此既是有颜色的也是部分透光的。
[0030]第一和第二特征本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于制造用于为贵重物品提供安全保障的防伪元件的方法,所述防伪元件包含具有第一和第二特征区域(30、40)的特征层(24),在所述第一和第二特征区域中存在不同的第一或第二压印漆层,其中,在所述方法中,

将第一压印漆(42)的亲水层在第一特征区域(40)中施加在载体(90)上,所施加的层被压印出产生第一光学效果的压印结构(44)并且硬化,

在印刷工具(94)上提供不同的第二压印漆(32)的层,并且

在印刷步骤中将印刷工具(94)与载体(90)接触并且由此传递第二压印漆(32)。2.按权利要求1所述的方法,其特征在于,在印刷步骤中,将第二压印漆(32)只传递到没有涂覆亲水的压印漆(42)的第二特征区域(30)中。3.按权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在印刷步骤之前用第一压印漆层湿润所述载体并且在此将湿润剂(92)只传递到第一特征区域(40)的亲水的第一压印漆层上。4.按权利要求1至3中至少一项所述的方法,其特征在于,在印刷工具(94)上整面地提供所述不同的第二压印漆(32)的层。5.按权利要求1至4中至少一项所述的方法,其特征在于,在印刷步骤中,在柔性的印刷工具、尤其是具有能压缩的元件(96)的印刷滚筒(94)上提供第二压印漆(32)的层,所述柔性的印刷工具通过由已经硬化的第一漆层(42)产生的压力尖端局部地变形。6.按权利要求1至4中至少一项所述的方法,其特征在于,在印刷步骤中,在印刷工具、尤其是硬的印刷滚筒(94)上提供第二压印漆(32)的层,并且为了产生反压力使用软的顶压辊(98),所述顶压辊通过由已经硬化的第一漆层(42)产生的压力尖端局部地变形。7.按权利要求1至4中至少一项所述的方法,其特征在于,在载体(22)上设置有柔性的补偿层(80),所述补偿层在印刷步骤中通过由已经硬化的第一漆层(42)产生的压力尖端局部地变形。8.按权利要求1至7中至少一项所述的方法,其特征在于,所述第一压印漆(42)首先被整面地施加在载体(90)上并且随即通过无残留压印方法通过结构化的压印模具(100)的靠近而被结构化为润湿的第一特征区域(40)和去润湿的第二特征区域(30),并且同时通过结构化的压印模具(100)为润湿的第一特征区域压印产生第一光学...

【专利技术属性】
技术研发人员:W霍夫米勒T萨特勒A劳赫
申请(专利权)人:捷德货币技术有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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