激光雕刻方法技术

本发明专利技术公开了激光雕刻方法

【技术实现步骤摘要】
激光雕刻方法、激光设备及计算机可读存储介质


[0001]本专利技术涉及激光雕刻
，尤其涉及激光雕刻方法
、
激光设备及计算机可读存储介质
。

技术介绍

[0002]现有的激光雕刻加工控制中，通常采用激光控制信号与运动控制信号直接输出的控制方式，控制系统在输出运动控制信号控制激光发射位置的同时，按照设计图纸控制激光出光
。
[0003]然而，由于电机及模组等运动执行机构控制激光头移动时，相对控制系统给出的运动信号存在滞后的状态，例如相对控制系统响应运动信号时需要控制各个传动件运转，而硬件之间的转动时间远大于电信号传播时间
。
在设备负载大
、
运动速度高的场合下，激光头实际位置相对运动控制指令滞后状况更加严重，激光出光加工位置与实际需要加工的位置不对应，导致进行激光雕刻时出现雕刻错位的问题
。
[0004]上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的主要目的在于提供一种激光雕刻方法
、
激光设备及计算机可读存储介质，解决现有技术中激光出光加工位置与实际需要加工的位置不对应，导致进行激光雕刻时出现雕刻错位的问题
。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供一种激光雕刻方法，所述方法包括以下步骤：
[0007]根据接收到的激光雕刻数据，确定所述激光设备的运动轨迹，并基于所述运动轨迹移动激光头；
[0008]获取所述激光头移动时，光栅尺或磁栅尺反馈的位置信号，并根据所述位置反馈信号，确定所述激光头在雕刻坐标系下的位置信息；
[0009]当所述位置信息对应的激光能量不为空时，控制所述激光头基于所述激光能量对待雕刻物料进行雕刻
。
[0010]可选地，所述当所述位置信息对应的激光能量不为空时，控制所述激光头基于所述激光能量进行雕刻的步骤之前，还包括：
[0011]根据所述激光雕刻数据，确定所述待雕刻物料在所述雕刻坐标系下的雕刻位置，以及所述雕刻位置对应的能量信息；
[0012]当检测到所述位置信息处于所述雕刻位置时，将所述能量信息作为所述激光能量
。
[0013]可选地，所述根据所述激光雕刻数据，确定所述待雕刻物料在所述雕刻坐标系下的雕刻位置，以及所述雕刻位置对应的能量信息的步骤包括：
[0014]根据所述激光雕刻数据，确定所述待雕刻物料的雕刻区域，在所述雕刻坐标系下
的坐标信息，并将所述坐标信息作为所述雕刻位置；
[0015]获取所述雕刻位置对应的雕刻类型，并基于所述雕刻类型确定所述能量信息
。
[0016]可选地，所述基于所述雕刻类型确定所述能量信息的步骤包括：
[0017]在所述雕刻类型为坡度雕刻时，根据所述雕刻位置的坡度值确定所述能量信息；
[0018]在所述雕刻类型为灰度雕刻时，基于图像分析模块，确定所述雕刻位置的所有像素点在三原色互补模型的填充值，并根据所述填充值的大小，确定所述能量信息；
[0019]在所述雕刻类型为坡度雕刻和灰度雕刻时，确定坡度雕刻对应的坡度雕刻位置，以及灰度雕刻对应的灰度雕刻位置；
[0020]根据所述坡度雕刻位置的坡度值，确定所述坡度雕刻位置的坡度能量信息，以及根据所述灰度雕刻位置在三原色互补模型的填充值的大小，确定所述灰度雕刻位置的灰度能量信息
。
[0021]可选地，所述当所述位置信息对应的激光能量不为空时，控制所述激光头基于所述激光能量对待雕刻物料进行雕刻的步骤包括：
[0022]当所述位置信息对应的激光能量不为空时，确定所述位置信息对应的雕刻类型；
[0023]在所述雕刻类型为灰度雕刻时，根据所述激光能量，控制所述激光设备在所述雕刻区域中进行灰度雕刻；或者
[0024]在所述雕刻类型为坡度雕刻时，根据所述激光能量，控制所述激光设备在所述雕刻区域中进行坡度雕刻
。
[0025]可选地，所述获取所述激光头移动时，光栅尺或磁栅尺反馈的位置信号，并根据所述位置反馈信号，确定所述激光头在雕刻坐标系下的位置信息的步骤之后，还包括：
[0026]当所述位置信息对应的激光能量不为空，且检测到激光发射指令时，缓存所述激光能量
。
[0027]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种激光设备，所述激光设备包括存储器
、
处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的激光雕刻程序，所述激光雕刻程序被所述处理器执行时实现如上所述的激光雕刻方法的步骤
。
[0028]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有激光雕刻程序，所述激光雕刻程序被处理器执行时实现如上所述的激光雕刻方法的步骤
。
[0029]本专利技术实施例提供了激光雕刻方法
、
激光设备及计算机可读存储介质，根据接收到的激光雕刻数据控制激光头移动，并基于光栅尺或磁栅尺反馈的位置信号实时监测激光头在雕刻坐标系下的位置信息，在位置信息对应的激光能量不为空时，说明激光头当前到达了激光雕刻数据对应的雕刻位置，此时直接控制激光头发射激光进行雕刻
。
可以看出，通过实时监测激光头的激光发射位置，并将当前的位置信息对应的激光能量是否为空作为当前位置信息与其他位置之间的比较方式，在激光能量不为空时，说明当前激光头到达雕刻位置，此时控制激光设备进行雕刻，能够保障激光落点的准确性，避免设备的机械滞后性而导致的出光滞后
。
通过比对位置关系的方式，实现了激光设备的激光头的闭环控制，提高雕刻的加工的质量
。
附图说明
[0030]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理
。
为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图
。
[0031]图1为本专利技术激光雕刻方法的第一实施例的流程示意图；
[0032]图2为本专利技术激光雕刻方法的设计图纸对应的雕刻示意图；
[0033]图3为本专利技术激光雕刻方法的雕刻错位示意图；
[0034]图4为本专利技术激光雕刻方法的步骤
S30
之前的流程示意图；
[0035]图5为本专利技术激光雕刻方法第二实施例的流程示意图；
[0036]图6为本专利技术激光雕刻方法的其中一种实现流程的示意图；
[0037]图7是本专利技术激光雕刻方法的各个实施例的终端硬件结构示意图
。
[0038]本专利技术目的的实现
、
功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明
。
具体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种激光雕刻方法，其特征在于，所述激光雕刻方法包括：根据接收到的激光雕刻数据，确定所述激光设备的运动轨迹，并基于所述运动轨迹移动激光头；获取所述激光头移动时，光栅尺或磁栅尺反馈的位置信号，并根据所述位置信号，确定所述激光头在雕刻坐标系下的位置信息；当所述位置信息对应的激光能量不为空时，控制所述激光头基于所述激光能量对待雕刻物料进行雕刻
。2.
如权利要求1所述的激光雕刻方法，其特征在于，所述当所述位置信息对应的激光能量不为空时，控制所述激光头基于所述激光能量进行雕刻的步骤之前，还包括：根据所述激光雕刻数据，确定所述待雕刻物料在所述雕刻坐标系下的雕刻位置，以及所述雕刻位置对应的能量信息；当检测到所述位置信息处于所述雕刻位置时，将所述能量信息作为所述激光能量
。3.
如权利要求2所述的激光雕刻方法，其特征在于，所述根据所述激光雕刻数据，确定所述待雕刻物料在所述雕刻坐标系下的雕刻位置，以及所述雕刻位置对应的能量信息的步骤包括：根据所述激光雕刻数据，确定所述待雕刻物料的雕刻区域，在所述雕刻坐标系下的坐标信息，并将所述坐标信息作为所述雕刻位置；获取所述雕刻位置对应的雕刻类型，并基于所述雕刻类型确定所述能量信息
。4.
如权利要求3所述的激光雕刻方法，其特征在于，所述基于所述雕刻类型确定所述能量信息的步骤包括：在所述雕刻类型为坡度雕刻时，根据所述雕刻位置的坡度值确定所述能量信息；在所述雕刻类型为灰度雕刻时，基于图像分析模块，确定所述雕刻位置的所有像素点在三原色互补模型的填充值，并根据所述填充值的大小，确定所述能量信息；在所述雕刻类型为坡度雕刻和灰度雕...

【专利技术属性】
技术研发人员：靳超凡，龙祥，肖成柱，
申请(专利权)人：深圳市睿达科技有限公司，
类型：发明
国别省市：