用于制造显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:39751978 阅读:23 留言:0更新日期:2023-12-17 23:50
用于制造显示装置的方法

【技术实现步骤摘要】
用于制造显示装置的方法
[0001]本申请是原案申请号为
201811494524.5
的专利技术专利申请
(
申请日:
2018

12
月7日,专利技术名称:显示装置
)
的分案申请



[0002]本专利技术涉及一种显示装置,并且更具体地,涉及一种能够利用低功耗来驱动的显示装置


技术介绍

[0003]在屏幕上显示各种信息的图像显示装置是信息和通信时代的核心技术,并且当前正在以实现更薄和更轻的设计

更好的便携性和更高的性能为目标而进行开发

因此,克服了阴极射线管
(CRT)
重量和体积过大的缺陷的平板显示装置非常受到关注

[0004]平板显示装置的示例包括液晶显示
(LCD)
装置

等离子显示面板
(PDP)
装置

有机发光显示
(OLED)
装置以及电泳显示
(本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种用于制造显示装置的方法,该方法包括以下步骤:在基板的显示区域上形成第一薄膜晶体管,所述第一薄膜晶体管包括多晶半导体层

第一栅极绝缘膜

第一栅电极

第一源电极和第一漏电极,所述第一源电极和所述第一漏电极与所述多晶半导体层接触;在包括所述第一栅电极的所述第一栅极绝缘膜上依次形成第一下部层间绝缘膜

第二下部层间绝缘膜和上部缓冲层;在所述显示区域的所述上部缓冲层上形成第二薄膜晶体管,所述第二薄膜晶体管包括氧化物半导体层

第二栅极绝缘膜

第二栅电极

第二源电极和第二漏电极,所述第二源电极和所述第二漏电极与所述氧化物半导体层接触;在所述氧化物半导体层和所述第一下部层间绝缘膜之间形成遮光层;在所述第一栅极绝缘膜上形成下部储存电极,并且在所述第一下部层间绝缘膜上形成上部储存电极,所述下部储存电极和所述上部储存电极被设置为彼此交叠;在所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管上形成第一平坦化层,并且在所述第一平坦化层上形成第二平坦化层;以及通过在所述基板的所述显示区域周围的弯曲区域中去除所述第一下部层间绝缘膜

所述第二下部层间绝缘膜和所述上部缓冲层来形成开口;其中,所述遮光层与所述上部储存电极设置在同一平面上,并且由与所述上部储存电极相同的材料形成,并且其中,所述第一平坦化层在所述弯曲区域中接触所述基板的由所述开口暴露的上表面
。2.
根据权利要求1所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述下部储存电极与所述第一栅电极设置在同一平面上,并且由与所述第一栅电极相同的材料形成
。3.
根据权利要求1所述的用于制造显示装置的方法,该方法还包括以下步骤:形成通过储存接触孔连接到所述上部储存电极的储存供给线路
。4.
根据权利要求3所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述储存供给线路与所述第一源电极和所述第一漏电极设置在同一平面上,并且由与所述第一源电极和所述第一漏电极相同的材料形成
。5.
根据权利要求1所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述第一下部层间绝缘膜包括硅氧化物
SiOx
或硅氮化物
SiNx。6.
根据权利要求1所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述开口在所述弯曲区域中还暴露所述第一下部层间绝缘膜的侧表面

所述第二下部层间绝缘膜的侧表面

以及所述上部缓冲层的侧表面,其中,所述开口的深度分别大于所述第一源电极所在的第一源极接触孔的深度和所述第一漏电极所在的第一漏极接触孔的深度,并且其中,所述第一平坦化层接触通过所述开口暴露的所述第一下部层间绝缘膜的侧表面

所述第二下部层间绝缘膜的侧表面

以及所述上部缓冲层的侧表面
。7.
根据权利要求1所述的用于制造显示装置的方法,该方法还包括以下步骤:在所述基板和所述第一栅极绝缘膜之间形成多缓冲层和下部缓冲层,其中,所述开口在所述弯曲区域中还暴露所述多缓冲层的侧表面和所述下部缓冲层的
侧表面,其中,所述第一平坦化层在所述弯曲区域中还接触由所述开口暴露的所述多缓冲层的侧表面和所述下部缓冲层的侧表面
。8.
根据权利要求7所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述基板在所述弯曲区域中的厚度比所述基板在所述显示区域中的厚度薄,并且其中,所述第一平坦化层在所述弯曲区域中接触所述基板的上表面
。9.
根据权利要求7所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述第一平坦化层比所述多缓冲层

所述下部缓冲层

所述第一下部层间绝缘膜

所述第二下部层间绝缘膜和所述上部缓冲层更多地延伸入所述弯曲区域
。10.
根据权利要求7所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述多缓冲层

所述下部缓冲层

所述第一下部层间绝缘膜

所述第二下部层间绝缘膜和所述上部缓冲层由无机绝缘材料形成,并且其中,所述第一平坦化层由有机绝缘材料形成
。11.
根据权利要求7所述的用于制造显示装置的方法,该方法还包括以下步骤:在所述第一平坦化层下方形成多个信号链路以由所述第一平坦化层覆盖
。12.
根据权利要求
11
所述的用于制造显示装置的方法,其中,所述多个信号链路设置在所述多缓冲层上
。13.
根据权利要求
12
所述的用于制造显示装置的方法,该方法还包括以下步骤:将所述多缓冲层的位于所述多个信号链路之间的部分去除,以在所述多个信号链路之间形成沟槽
。14.
根据权利要求
13<...

【专利技术属性】
技术研发人员:林京男郑裕澔金东瑛
申请(专利权)人:乐金显示有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1