一种压延铜箔处理装置制造方法及图纸

本说明书实施例提供一种压延铜箔处理装置

【技术实现步骤摘要】
一种压延铜箔处理装置、方法及存储介质


[0001]本说明书涉及铜箔的生产工艺
，特别涉及一种压延铜箔处理装置
、
方法及存储介质
。

技术介绍

[0002]压延铜箔生产过程中，需要及时对铜箔进行清理和抗氧化处理
。
铜箔表面附着的润滑油
、
粉尘等，以及空气中的颗粒在压延过程中可能被压到铜箔表面而产生针孔
。
同时，在高湿的环境下铜材表面容易发生湿腐蚀，在高温环境下铜材表面容易发生干腐蚀，导致铜材表面极易在短时间内发生氧化变色
。
[0003]在铜箔清洗处理和抗氧化处理中，往往存在被二次污染的可能，从而影响铜箔的生产质量
。
因而压延铜箔生产过程中对环境的温湿度
、
洁净度要求较高
。
[0004]因此，希望提供一种压延铜箔处理装置
、
方法及存储介质，有助于智能化调控铜箔的生产环境，以提高铜箔生产质量
。

技术实现思路

[0005]本说明书实一个或多个实施例提供一种压延铜箔处理装置，该装置至少包括除尘模块
、
除湿模块
、
空气过滤模块
、
环境传感模块以及处理器，所述环境传感模块部署于铜箔生产车间的至少一个位点，用于采集环境数据，所述环境传感模块包括粉尘含量传感器
、
湿度传感器
、
温度传感器中的至少一种，所述环境数据包括粉尘含量
、
环境湿度数据
、
环境温度数据中的至少一种；所述处理器被配置为：控制所述空气过滤模块过滤从外部输入所述铜箔生产车间的空气；基于所述环境数据确定除尘参数，并控制所述除尘模块按照所述除尘参数运行，以清除所述铜箔生产车间中的粉尘；基于所述环境数据确定除湿参数，控制所述除湿模块按照所述除湿参数运行，以清除所述铜箔生产车间中的水分
。
[0006]本说明书一个或多个实施例提供一种压延铜箔处理方法，该方法由处理器执行，包括：控制空气过滤模块过滤从外部输入铜箔生产车间的空气；基于环境数据确定除尘参数，并控制除尘模块按照所述除尘参数运行，以清除所述铜箔生产车间中的粉尘；所述环境数据由环境传感模块采集得到，所述环境传感模块包括粉尘含量传感器
、
湿度传感器
、
温度传感器中的至少一种，所述环境数据包括粉尘含量
、
环境湿度数据
、
环境温度数据中的至少一种；基于所述环境数据确定除湿参数，并控制除湿模块按照所述除湿参数运行，以清除所述铜箔生产车间中的水分
。
[0007]本说明书一个或多个实施例提供一种计算机可读存储介质，所述存储介质存储计算机指令，当计算机读取存储介质中的计算机指令后，计算机执行如上述实施例中任一项所述的压延铜箔处理方法
。
附图说明
[0008]本说明书将以示例性实施例的方式进一步说明，这些示例性实施例将通过附图进
行详细描述
。
这些实施例并非限制性的，在这些实施例中，相同的编号表示相同的结构，其中：
[0009]图1是根据本说明书一些实施例所示的压延铜箔处理装置的结构示意图；
[0010]图2是根据本说明书一些实施例所示的压延铜箔处理方法的示例性流程图；
[0011]图3是根据本说明书一些实施例所示的确定除尘运行参数的示例性示意图；
[0012]图4是根据本说明书一些实施例所示的确定联合运行参数的示例性示意图
。
具体实施方式
[0013]为了更清楚地说明本说明书实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍
。
显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本说明书的一些示例或实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图将本说明书应用于其它类似情景
。
除非从语言环境中显而易见或另做说明，图中相同标号代表相同结构或操作
。
[0014]应当理解，本文使用的“系统”、“装置”、“单元”和
/
或“模块”是用于区分不同级别的不同组件
、
元件
、
部件
、
部分或装配的一种方法
。
然而，如果其他词语可实现相同的目的，则可通过其他表达来替换所述词语
。
[0015]如本说明书和权利要求书中所示，除非上下文明确提示例外情形，“一”、“一个”、“一种”和
/
或“该”等词并非特指单数，也可包括复数
。
一般说来，术语“包括”与“包含”仅提示包括已明确标识的步骤和元素，而这些步骤和元素不构成一个排它性的罗列，方法或者设备也可能包含其它的步骤或元素
。
[0016]本说明书中使用了流程图用来说明根据本说明书的实施例的系统所执行的操作
。
应当理解的是，前面或后面操作不一定按照顺序来精确地执行
。
相反，可以按照倒序或同时处理各个步骤
。
同时，也可以将其他操作添加到这些过程中，或从这些过程移除某一步或数步操作
。
[0017]图1是根据本说明书一些实施例所示的压延铜箔处理装置的结构示意图
。
[0018]如图1所示，在一些实施例中，压延铜箔处理装置
100
至少包括除尘模块
110、
除湿模块
120、
空气过滤模块
130、
环境传感模块
140
和处理器
150。
[0019]除尘模块
110
是指用于去除粉尘的设备或部件
。
除尘模块
110
可以用于去除铜箔生产车间内的粉尘
。
[0020]在一些实施例中，除尘模块
110
可以包括至少一个负压除尘装置
(
例如，负压除尘装置
1、
负压除尘装置
2、
……
、
负压除尘装置
n)。
[0021]负压除尘装置可以通过负压原理将空气中的颗粒物过滤和清洁
。
[0022]在一些实施例中，负压除尘装置至少包括负压风机单元
(
图1未示出
)
和过滤单元
(
图1未示出
)。
[0023]负压风机单元可以用于吸入铜箔生产车间中的空气
。
[0024]过滤单元可以用于对吸入的空气进行过滤
。
在一些实施例中，过滤单元可以用于对吸入的空气进行粉尘
、
杂质过滤
。
[0025]负压除尘装置可以通过负压风机单元产生的负压力，将含有颗粒物的空气吸入负压除尘装置内部，经过过滤单元的过滤作本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种压延铜箔处理装置，其特征在于，所述装置至少包括除尘模块
、
除湿模块
、
空气过滤模块
、
环境传感模块以及处理器：所述环境传感模块部署于铜箔生产车间的至少一个位点，用于采集环境数据，所述环境传感模块包括粉尘含量传感器
、
湿度传感器
、
温度传感器中的至少一种，所述环境数据包括粉尘含量
、
环境湿度数据
、
环境温度数据中的至少一种；所述处理器被配置为：控制所述空气过滤模块过滤从外部输入所述铜箔生产车间的空气；基于所述环境数据确定除尘参数，并控制所述除尘模块按照所述除尘参数运行，以清除所述铜箔生产车间中的粉尘；基于所述环境数据确定除湿参数，控制所述除湿模块按照所述除湿参数运行，以清除所述铜箔生产车间中的水分
。2.
根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括光学相机，所述处理器进一步用于：控制所述光学相机对铜箔进行拍摄以获取图像数据；基于所述图像数据，使用图像识别算法监测所述铜箔的表面附着物
。3.
根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述除尘模块包括至少一个负压除尘装置，所述负压除尘装置至少包括负压风机单元和过滤单元，所述负压风机单元用于吸入所述铜箔生产车间的所述空气，所述过滤单元用于对吸入的所述空气进行过滤；所述至少一个负压除尘装置部署于所述至少一个位点，所述至少一个负压除尘装置的部署数量与部署位置相关于所述铜箔生产车间的空间特征
。4.
根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述除湿模块包括至少一个除湿器，所述至少一个除湿器部署于所述至少一个位点，所述至少一个除湿器的部署数量与部署位置相关于所述铜箔生产车间的空间参数
。5.
根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括等离子吹扫模块，所述处理器被配置为：确定吹扫参数，并控制所述等离子吹扫模块按照所述吹扫参数运行，以清除所述铜箔的表面附着物
。6.
一种压延铜箔处理方法，其特征在于，所述方法由处理器执行，包括：控制空气过滤模块过滤从外部输入铜箔生产车间的空气；基于环境数据确定除尘参数，并控制除尘模块按照所述除尘参数运行，以清除所述铜箔生产车间中的粉尘；所述环境数据由环境传感模块采集得到，所述环...

【专利技术属性】
技术研发人员：申达勤，张利娟，李明哲，
申请(专利权)人：昆山先捷精密电子有限公司，
类型：发明
国别省市：