【技术实现步骤摘要】
一种Faceplate部件清洗装置及清洗药水配方
[0001]本专利技术涉及半导体设备清洗
,特别涉及一种
Faceplate
部件清洗装置及清洗药水配方
。
技术介绍
[0002]Faceplate
是一种形式碟状的半导体设备部件,用于半导体
CVD
(化学气相沉积)制程
。
使用过程中气体和气相材料通过
Faceplate
底部密集通孔被引进反应器内
,
原材料扩散穿越边界层和接触基片的表面
,
随着吸附原材料的移动在基片的表面产生了化学反应
。
该部件能够避免
CVD
制程在打入反应气体的时候产生不良反应或不均匀反应,
Faceplate
的通孔起到关键性的作用,因此
Faceplate
的通孔的清洗要求非常的高
。
[0003]目前国内清洗行业清洗的清洗工艺,主要采用一定比例混合组成的药水去除表面沉积物,至于部件孔壁沉积物,现有的一般采用抽排液的方法对孔壁形成冲击,从而将孔壁内的沉积物冲刷下来,其操作步骤如下:
S1:
将多个部件叠加放置在清洗罐中,并通过换向阀以及动力件(如泵体)将药水罐中的药液快速抽送至清洗罐中并将部件完全浸没,对部件形成一次由下向上的冲刷,再利用动力件将清洗罐中的药液全部快速抽回至药水罐中,对部件形成一次由上向下的冲刷,如此重复多次;
S2
:药水清洗完毕后,通 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种
Faceplate
部件清洗装置,包括安装在支撑底座(1)上的纯水罐(2)
、
药水罐(
10
)和清洗罐(6),所述纯水罐(2)和所述药水罐(
10
)上均设有注液管(3)和输液管(4),两个所述输液管(4)上均设有带有阀门的排液管(7),两个所述输液管(4)的出液端均通过换向件(5)与所述清洗罐(6)底部的进液管连接,其特征在于:还包括动力件(9),用于分别单独将会所述纯水罐(2)和所述药水罐(
10
)内的药水和纯水注入所述清洗罐(6)中并带动所述清洗罐(6)内的液体进行快速上下往返流动,以实现对清洗部件进行连续来回冲刷
。2.
根据权利要求1所述的一种
Faceplate
部件清洗装置,其特征在于:所述动力件(9)包括安装在所述支撑底座(1)上的动力缸(
91
)和将所述药水罐(
10
)与所述纯水罐(2)内腔相连且安装有阀门的硬管(
97
),且所述动力缸(
91
)的伸缩端穿过所述药水罐(
10
)上端开口并与驱动电机(
92
)固定连接,所述驱动电机(
92
)的输出轴上固定有旋转筒(
94
),且所述旋转筒(
94
)的空心腔内壁上倾斜设置有环形槽(
99
),所述旋转筒(
94
)的下方设置有外壁设置密封环的活塞板(
93
),且所述活塞板(
93
)上端轴心处安装有
L
形运动杆(
98
),且所述
L
形运动杆(
98
)的端部滑动设置在所述环形槽(
99
)内,所述活塞板(
93
)上安装有限位柱(
96
),且所述限位柱(
96
)贯穿所述限位板(
95
),所述限位板(
95
)的上端固定套设在所述动力缸(
91
)的伸缩端上,所述限位板(
95
)的下端通过轴承与所述驱动电机(
92
)的输出轴转动连接,所述硬管(
97
)的一端贯穿所述药水罐(
10
)并通过软管(
910
)与密封贯穿所述活塞板(
93
)的通气管(
911
)连接;所述清洗罐(6)上端为开口,并通过密封盖(8)密封,且所述密封盖(8)上端通孔中安装有防水透气件(
12
),用于防止清洗罐(6)内部液体溢出并使得其内部气压与外界一致;所述活塞板(
93
...
【专利技术属性】
技术研发人员:阮安俊,贺贤汉,张继月,高敏刚,
申请(专利权)人:安徽富乐德科技发展股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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